2012 Fiscal Year Annual Research Report
高出力極端紫外（ＥＵＶ）光による物質アブレーションとその解明
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22340172
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
西村 博明 大阪大学, レーザーエネルギー学研究センタ, 教授 (60135754)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
藤岡 慎介 大阪大学, レーザーエネルギー学研究センタ, 准教授 (40372635)
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| Project Period (FY) |
2010-04-01 – 2013-03-31
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| Keywords | 極端紫外（EUV）光源 / EUVアブレーション / WDM物理 / レーザープラズマ光源 |
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| Research Abstract |
レーザー駆動極端紫外線（以下、EUV と記載）を光源とし、これによって加熱された物質の加熱からアブレーションに至る実験データベースを構築するとともに、関連するエネルギー輸送過程や物性状態、流体運動など関連物理を解明する。また、これらの成果を活かして、従来のパルスレーザーアブレーション(PLD)法に代わり、一様加熱された結果放出されるアブレーションプルームによる材料合成等、EUV アブレーション応用の新しい可能性を探ることを目的として研究を開始した。
EUV照射を受けた材料の温度は低く（～1eV）また密度も低い（～10-2g/cm3）のでアブレートの結果放出された粒子から情報（発光やフラックス、電流など）を得るため、昨年度製作した連続出射型のEUV光源を用いた材料照射研究を開始した。光源材料としてキセノンを用い、これを冷却したドラム上に固化した層をつくり、ドラムを回転させて繰り返しレーザーパルスを照射した。放射されたEUV光はトロイダル鏡で試料上に集光する方式とした。レーザーからEUV光への変換効率を含め、絶対計測を実施し、総合的なエネルギー伝達効率が約１％であることを確認した。照射領域をクレーター形状、深さからもとめ、従来方式の10倍である10J/cm2のフルーエンスを達成していることを確認した。また、EUV照射を受けた領域からの可視光発光を確認し、次年度における分光計測の足がかりを得た。EUV照射試料としてSIならびにAlを選択し、EUVアブレーションプルームの可視域発光スペクトル分光観測を実施した。その結果、電子温度2-3eV、電子密度10^18-10^19cm^3を得た。今後、更に高密度領域からの情報取得を継続する計画である。
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| Current Status of Research Progress |
Reason
24年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
24年度が最終年度であるため、記入しない。
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