2010 Fiscal Year Annual Research Report
超並列レーザー照射技術の開発と機能光デバイスの作製
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22360024
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| Research Institution | Utsunomiya University |
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Principal Investigator |
早崎 芳夫 宇都宮大学, オプティクス教育研究センター, 准教授 (10271537)
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| Keywords | フェムト秒レーザー / 情報フォトニクス / 3次元デバイス / ナノガラス / ホログラム |
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| Research Abstract |
本年度,以下の4つの研究実施を計画した.それぞれ,平成23年3月時点の進捗状況を示す
1.加工システムにおける高効率光学系の構築-1000並列加工を実現するためには,サンプル面でのパルス幅の最短化と集光径の最小化を維持する必要があるため,プリチャープ光学系と収差補正光学系を導入した.加工性能の評価は,現在進行中で,23年度前半に行う計画である.
2.第2高調波の観測による計算機ホログラムの最適化-並列加工の均一化を行うために,ホログラムの最適化の更なる性能向上が必要である.パルス幅や集光形状に敏感な新しい最適化法を必要とした.そこで,再生像の第2高調波の観測による最適化法を提案し実証した.これまでの再生像の光強度の観測による方法と比べて,均一性の高い加工が可能となった.
3.レーザー誘起現象の時間分解観測と光導波路試作-新しいパルス照射法の発見やパルス照射スキームの開発のために必要な,レーザー誘起現象の時間分解観測から,光励起の時空間的な変化と加工形状との関係を解明した.が進んだ.そこで,時空間ダブルパルス法という新しいパルス照射方法を開発した.試作加工に関しては,光導波路に関しては十分ではないが,薄膜の剥離加工や溝加工等の試作は進んだ.
4.ホログラフィック時空間レンズ-ホログラムの波長分散を補正する新しい方法として開発したホログラフィック時空間レンズに関して,計算機シミュレーション及び実験を通して,その性能評価法の確立,および,その多重化を行った.ホログラフィック時空間レンズを用いた加工光学系も構築した.
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