2010 Fiscal Year Annual Research Report
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22540248
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
吉川 一朗 東京大学, 大学院・理学系研究科, 准教授 (10311169)
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| Keywords | EUV / 極端紫外光 / 多層膜反射鏡 / 紫外線天文学 |
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| Research Abstract |
成膜装置で単層膜を作り、その反射率特性から光学定数(n,k)を導出した。例えば、今回使用する装置で成膜したY_2O_3薄膜と文献値の光学定数の違いは
@30.4nm,n=0.80,k=0.14(実測)<->n=0.77,k=0.21(文献値)
@58.4nm,n=1.03,k=0.49(実測)<->n=1.04,k=0.54(文献値)
と大きな開きがあることが分かった。さらに、Y_2O_3結晶は、蒸着する際に用いるスパッターガスのエネルギーに依り組成比が変化する。その結果、光学定数(n,k)も大きく変化することも理解した。今回、新たに求めた光学定数に基づき多層膜反射鏡を設計・試作した。
反射率特性は、波長に対する反射率の変化を測定する(反射率vsλ)代わりに、2d=m(λ/cosθ)の法則を考慮し、入射角(θ)に対する反射率の変化(反射率vsθ)を調べた。較正に用いた波長(λ)は30.4nm(又は、58.4nm)である。SiC/Mg多層膜(設計値と試作品の実測値)波長30.4nmにおける反射率の計算値(2d=18.08,r=0.3,N=40)と実測値は非常によく一致した。従来から広く使われているMo/Siよりも、λ=30.4nmにおける反射率を約2倍(約35%)に高めることができた。Y_2O_3/Alの試作結果は、計算値(2d=17.0,r=0.3,N=20)に非常に近い反射率を達成することができた(27%)。SiC/Mg反射鏡に比べると、30.4nmにおける反射率は劣るが、58.4nmに対する反射率の比は非常に高いことがわかる.
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Research Products
(3 results)
