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2011 Fiscal Year Annual Research Report

軟エックス線分光によるプロトン導電体の伝導領域における電子構造と不純物濃度

Research Project

Project/Area Number 22560670
Research InstitutionTokyo University of Science

Principal Investigator

樋口 透  東京理科大学, 理学部・応用物理学科, 講師 (80328559)

Keywords軟エックス線発光分光 / プロトン導電体 / 電子構造 / 不純物濃度 / 酸素欠損 / 価電子帯 / 混成軌道 / 結合距離
Research Abstract

23年度は、Y-doped BaCeO3薄膜のプロトン伝導性の評価と軟X線分光による中高温域での電子構造の測定を行った。
スパッタ法で作製した膜は、200~500℃で0.3eV程度の低い活性化エネルギーを持つプロトン伝導性が確認された。面内方向のプロトン伝導性の評価では、バルクセラミックスに匹敵する伝導度を示した。垂直方向では、プロトン伝導性を示すものの、約90%の粉界抵抗を持つことから、プロトン伝導性が減少する要因となっていることを明らかにした。
軟X線分光の測定において、CeサイトにYイオンが置換されていることを確認した。Yイオンを置換する前は、Ceは3価と4価の混合原子価状態を持つが、Y置換によりCeは安定な4価の状態になっていることが明らかになった。酸素1s領域の吸収スペクトルから、酸素雰囲気中での熱処理に伴う酸素量の変化が現れ、200℃までの温度での酸素量の変化も見られた。これは、結晶内でプロトンが移動する際にO-H結合を繰り返していることを示している。また、光電子分光のよる価電子帯付近の電子構造測定では、フェルミ準位は価電子帯側に位置し、プロトンの導入に伴いフェルミ準位が変化する様子が観測された。価電子帯トップとフェルミ準位のエネルギー差は、伝導度のアレニウスプロットから得られる活性化エネルギーと一致していることを明らかにした。
以上の結果は、プロトンが伝導する温度域において、不純物濃度の変化を示す間接的な証拠であると考えられる。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

地震の影響により、6月までは測定場所である高エネ研が使用出来なかった為、研究開始が7月からとなったが、200℃までの電子構造の測定が可能となり。不純物濃度や詳細な電子構造を明らかにできた。

Strategy for Future Research Activity

今後は薄膜を中心に取扱い、400℃までの電子構造測定を行う。現時点では十分なビームタイムを確保しており、時間をかけて。慎重に測定を行えば、研究に支障は出ない。発光分光器で支障が出るようであれば、高分解能光電子分光の測定を行う。

  • Research Products

    (23 results)

All 2012 2011 Other

All Journal Article (6 results) (of which Peer Reviewed: 6 results) Presentation (16 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Electronic Structure of BiFel-xMxO3(M=Mn and Co) Thin Films by soft-x-Ray Spectroscopy2012

    • Author(s)
      T.Higuchi, H.Nagashima, U.Miura, Y.Inoue, Yi-Sheng Liu, Per-Anders Glans
    • Journal Title

      Trans.Mater.Res.Soc.Jpn

      Volume: 37

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Structura and Electrical Puroperties of BaCe0.90Y0.1003-d Thin Film on A1203 Substrate2012

    • Author(s)
      T.Owaku, Y.Iida, H.Fukawa, T.Higuchi
    • Journal Title

      Trans.Mater.Res.Soc.Jpn

      Volume: 37

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Structural and Optical Properties of SrTil-xScxO3 Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering2012

    • Author(s)
      Teppei Okumura, Yusuke Kobayashi, Fuyuki Ihara, Tohru Higuchi
    • Journal Title

      Trans.mater.Res.Soc.Jpn

      Volume: 37

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Effect of Sc doping for TiO2 thin film prepared by RF magnetron sputtering2012

    • Author(s)
      T.Inoue, K.Tomiyama, T.Owaku, T.Ymashita, T.Higuchi
    • Journal Title

      Trans.mater.Res.Soc.Jpn

      Volume: 37

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Growth of Sc-doped TiO2 Thin Film by RF Magnetron Sputtering2011

    • Author(s)
      K.Tomiyama, Y.Kobayashi, M.Tsuda, T.Higuchi
    • Journal Title

      Jpn.J.App.Phys

      Volume: 50 Pages: 65502-1-4

    • DOI

      10.1143/JJAP.50.065502

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Electronic Structure of KH2PO4 Single Crystal Studied by soft-X-Ray Spectroscopy2011

    • Author(s)
      T.Nishina, T.Higuchi, E.Magome, Olade Velasco, Long Chen, Li Yang, J Guo, M.Fukunaga, M.Komukae
    • Journal Title

      Ferroelectries

      Volume: 416 Pages: 90-94

    • DOI

      10.1080/00150193.2011.577712

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 均質溶液からのオキシアパタイト型ランタンゲルマネートの生成過程の解析2012

    • Author(s)
      北嶋将太、樋口透、小林清、目義雄
    • Organizer
      日本セラミックス学会
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      20120319-20120321
  • [Presentation] Sc-doped SrTiO3スパッタ薄膜の表面構造と電気特性2012

    • Author(s)
      小林祐輔, 奥村哲平, 富山和哉, 樋口透
    • Organizer
      応用物理学会
    • Place of Presentation
      早稲田大学
    • Year and Date
      20120315-20120317
  • [Presentation] Sc-doped TiO2スパッタ薄膜の光触媒活性における膜厚効果2012

    • Author(s)
      井上智弘, 山下智之, 富山和哉, 樋口透
    • Organizer
      応用物理学会
    • Place of Presentation
      早稲田大学
    • Year and Date
      20120315-20120317
  • [Presentation] 光触媒活性を有するTiO2/Al2O3薄膜のX線非弾性散乱2012

    • Author(s)
      樋口透, 南川真樹, 冨山和哉, 井上智宏, Y.Liu, J.Guo
    • Organizer
      放射光学会
    • Place of Presentation
      鳥栖市民文化会館
    • Year and Date
      20120106-20120109
  • [Presentation] 酸素ラジカルを用いて作製したCeO2薄膜の電子状態2012

    • Author(s)
      樋口透, 南川真樹, 冨山和哉, 井上智宏, Y.Liu, J.Guo
    • Organizer
      放射光学会
    • Place of Presentation
      鳥栖市民文化会館
    • Year and Date
      20120106-20120109
  • [Presentation] 均質溶液からのオキシアパタイト型ランタンゲルマネートの生成過程の解析2012

    • Author(s)
      北嶋将太、樋口透、小林清、目義雄
    • Organizer
      電気化学会固体化学の新しい指針を探る研究会
    • Place of Presentation
      東京工業大学
    • Year and Date
      2012-03-08
  • [Presentation] Electronic Structure of BiFe1-xMxO3 (M=Mn and Co) Films by Soft-X-Ray Spectroscopy2011

    • Author(s)
      T.Higuchi, H.Naganuma, J.Miura, Y.Inoue, S.Okamura, Y.Liu, P.A.Glans, J.-H Guo
    • Organizer
      日本MRS学術シンポジウム
    • Place of Presentation
      横浜開港記念館(横浜)
    • Year and Date
      20111219-20111221
  • [Presentation] Effect of Sc doping for TiO2 thin films prepared by RF Magnetron Sputtering2011

    • Author(s)
      T.Inoue, K.Tomiyama, T.Owaku, T.Yamashita, T.Higuchi
    • Organizer
      日本MRS学術シンポジウム
    • Place of Presentation
      横浜開港記念館(横浜)
    • Year and Date
      20111219-20111221
  • [Presentation] Structural and Electrical Properties of BaCe0.9Y0.103-d Thin Film on Al2O3 Substrate2011

    • Author(s)
      T.Owaku, Y.Iida, H.Fukawa, T.Higuchi
    • Organizer
      日本MRS学術シンポジウム
    • Place of Presentation
      横浜開港記念館(横浜)
    • Year and Date
      20111219-20111221
  • [Presentation] Structure and Optical Properties of Deposition for SrTi1-xScxO3 Thin Film by Sputtering2011

    • Author(s)
      T.Okumura, Y.Kobayashi, F.Ihara, T.Higuchi
    • Organizer
      日本MRS学術シンポジウム
    • Place of Presentation
      横浜開港記念館(横浜)
    • Year and Date
      20111219-20111221
  • [Presentation] Electrical Conductivity of TriO2-d Thin film prepared by RF Magnetron Sputtering Using Oxygen Radical2011

    • Author(s)
      S.Nakayama, T.Uchida, T.Okumura, T.Higuchi
    • Organizer
      日本MRS学術シンポジウム
    • Place of Presentation
      横浜開港記念館(横浜)
    • Year and Date
      20111219-20111221
  • [Presentation] RFマグネトロンスパッタ法により作製したBaCeYO3薄膜の構造・電気伝導性2011

    • Author(s)
      府川裕行, 大和久智宏, 飯田康貴, 樋口透
    • Organizer
      固体イオニクス討論会
    • Place of Presentation
      白兎会館(鳥取市)
    • Year and Date
      20111207-20111209
  • [Presentation] RFマグネトロンスパッタ法により作製したCeO2薄膜の電子構造・価数状態2011

    • Author(s)
      樋口透、青木聖也、Yi-Sheng Liu, Per-Anders Glans, Jinghua Guo
    • Organizer
      固体イオニクス討論会
    • Year and Date
      20111207-09
  • [Presentation] CsH2PO4の軟X線吸収スペクトルの温度依存性2011

    • Author(s)
      福永正則, 仁科哲也, 樋口透, 馬込栄輔, 小向得優
    • Organizer
      日本物理学会
    • Place of Presentation
      富山大学
    • Year and Date
      20110921-20110924
  • [Presentation] Sc-doped SrTiO3スパッタ薄膜の構造・電気特性2011

    • Author(s)
      小林祐輔, 浅沼祥, 冨山和哉, 樋口透
    • Organizer
      応用物理学会
    • Place of Presentation
      山形大学
    • Year and Date
      2011-08-30
  • [Presentation] 酸素ラジカルを用いて作製したTiO2薄膜の酸素欠陥及び膜厚の影響2011

    • Author(s)
      中山創, 奥村哲平, 大和久智弘, 樋口透
    • Organizer
      応用物理学会
    • Place of Presentation
      山形大学
    • Year and Date
      2011-08-30
  • [Remarks]

    • URL

      http://www.rs.kagu.sut.ac.jp/~tsuka/index.html

URL: 

Published: 2013-06-26  

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