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2010 Fiscal Year Annual Research Report

医療・バイオへの応用を目指したポリ尿素膜親水化処理に関する研究

Research Project

Project/Area Number 22560730
Research InstitutionWaseda University

Principal Investigator

水野 潤  早稲田大学, ナノ理工学研究機構, 准教授 (60386737)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 篠原 秀敏  早稲田大学, 理工学術院, 助手 (20533095)
Keywords薄膜 / 表面 / 界面
Research Abstract

平成22年度は蒸着重合-親水化処理装置の設計及び基本特性評価を行った。先ず設計について説明を行う。本装置は蒸着重合部・親水化処理部・制御部から成っている。本体の所有床面積は、幅3000mmx奥行き1000mmx高さ1600mmで重量が500kgとなった。蒸着重合部は真空チャンバーと2つのモノマー用蒸着源、水晶振動式膜厚モニター、膜の厚さを任意に調整できるシャッターから成っている。このチャンバーには窒素ガスが導入されている。親水化処理部は真空チャンバーとエキシマ紫外線照射装置(UER20-172:ウシオ電機(株)製)、可動ステージから成っている。エキシマ紫外線照射装置と基板間距離は、照射量の関係を調べるために2~30cm間で、手動で任意の位置に調整できるようになっている。蒸着重合部・親水化処理部は繋がっており、トランスファーロッドが付いていて、基板を蒸着重合室と親水化処理室の間で真空中のまま搬送できるようになっている。このチャンバーには窒素ガスと酸素ガスが導入されている。排気系はターボ分子ポンプと油回転ポンプになっている。真空計は、電離真空計及び、ピラニー真空計を装備している。使用可能な基板の大きさは、50mmx75mmx1mm厚さまでとした。基板の加熱は200度まで可能とした。真空の性能は、5x10-3Paとし、排気時間は前述の値まで30分とした。蒸着重合室の成膜温度は300度まで可能とした。次に基本特性評価について以下に説明する。エキシマ紫外線照射装置と基板間距離dとエキシマ紫外線照射処理後のポリ尿素表面の純水接触角との関係は、dを大きくすることで、接触角が低下する傾向を示した。d=100mmで最小の接触角20度以下の値を示し、dをさらに大きくするにつれ接触角は緩やかに上昇した。この現象については来年度に検証していく予定である。

  • Research Products

    (5 results)

All 2011 2010

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (4 results)

  • [Journal Article] Au-Electrode-Embededd Cyclo-Olefin Polymer Microchip Using Low-Temperature Direct Bonding2010

    • Author(s)
      Hidetoshi Shinohara, Jun Mizuno, Shuichi Shoji
    • Journal Title

      2010 The Institute of Electrical Engineers of Japan

      Volume: Vol.130, No.8 Pages: 347-350

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 表面活性化技術を用いたマイクロ流路チップの作製2011

    • Author(s)
      水野潤
    • Organizer
      表面技術協会第123回講演大会
    • Place of Presentation
      関東学院大学(招待講演)
    • Year and Date
      2011-03-17
  • [Presentation] 複合3D-MEMS/NEMSと応用デバイス2011

    • Author(s)
      水野潤
    • Organizer
      2011年度精密工学会春季大会
    • Place of Presentation
      東洋大学(招待講演)
    • Year and Date
      2011-03-16
  • [Presentation] NEXAFS and XPS studies of VUV/03 Treated Aromatic Polyurea for High-Speed Electrophoresis Microchips2011

    • Author(s)
      Hidetoshi Shinohara
    • Organizer
      The 6th IEEE International Conference on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems (6th IEEE-NEMS)
    • Place of Presentation
      TAIPEI
    • Year and Date
      2011-02-20
  • [Presentation] Improvement of replica mold releasability due to by Anti-sticking Cure Process (ACP)2010

    • Author(s)
      Jun Mizuno
    • Organizer
      9th International Nanoimprint and Nanoprint Technology NNT2010
    • Place of Presentation
      COPENHAGEN
    • Year and Date
      2010-10-13

URL: 

Published: 2012-07-19  

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