2011 Fiscal Year Annual Research Report
ナノメートル空間分解XAFSイメージング法の開発とナノ組織制御物質の構造評価
Project/Area Number |
22651040
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Research Institution | Osaka University |
Principal Investigator |
高橋 幸生 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (00415217)
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Keywords | コヒーレントX線光学 / X線顕微鏡 / X線構造解析 / 金属ナノ組織解析 |
Research Abstract |
平成22年度に開発したX線強度モニターを使い、以下の二つの項目について研究を推進した。 1.収束イオンビーム化学気相法によって作製されたナノ構造体の電子密度分布評価 大阪大学のウルトラクリーン研究施設内の収束イオンビーム加工装置よりナノ構造体を作製した。具体的には、収束イオンビーム装置にタングステンカルボニルを導入し、SiNメンブレン上に収束イオンビーム化学気相法によって、タングステンとカーボンで構成されるナノ構造体を製作した。大型放射光施設SPring-8のBL29XULにおいてX線強度をモニターしながら、ナノ構造体のコヒーレントX線回折顕微法測定を行なった。コヒーレントX線回折パターンに位相回復計算を実行した結果、ナノ構造体の電子密度分布を24.1nmの空間分解能でイメージングすることに成功した。また、このときのコントラスト分解能は2.3×10^7電子/ピクセルであった。 2.タングステンのL3吸収端でのナノ空間分解XAFSイメージング測定 タングステンのL3吸収端近傍の複数のX線エネルギーでコヒーレントX線回折パターン測定を行った。コヒーレントX線回折パターン中のある斑点強度のエネルギー依存性を調べた結果、XAFSスペクトルと良く似たスペクトルを得ることができた。これは、試料内部のある相関長に対応する構造情報を反映したXAFSスペクトルであると解釈できた。これにより、本課題で提案したナノメートル空間分解XAFSイメージングに成功したと言える。
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[Journal Article] Coherent diffraction microscopy at SPring-8 : instrumentation, data acquisition and data analysis2011
Author(s)
R.Xu, S.Salha, K.Raines, H.Jiang, C-.C.Chen, Y.Takahashi, Y.Kohmura, Y.Nishino, C.Song, T.Ishikawa, J.Miao
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Journal Title
Journal of Synchrotron Radiation
Volume: 18
Pages: 293-298
DOI
Peer Reviewed
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