2011 Fiscal Year Final Research Report
Application technology development harnessing mist characteristics-The mist method for fabrication technology of electronic devices-
| Project/Area Number |
22760232
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Electronic materials/Electric materials
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| Research Institution | Kochi University of Technology |
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Principal Investigator |
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| Project Period (FY) |
2010 – 2011
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| Keywords | 電気・電子材料 / ミスト / 薄膜 / 成長 / 加工 / 電子デバイス |
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| Research Abstract |
It succeeded in clarifying the mechanism and behavior about the mist method. As a result, any researches have been stepped up. Moreover, the index of non-vacuum process conversion of the TFT fabrication process was demonstrated. Application development of the mist CVD to the electronic device fabrication technology was promoted.
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[Remarks] 受賞等(1)第8回薄膜材料デバイス研究会ベストペーパーアワード平成23年11月5日
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[Remarks] (2)第7回薄膜材料デバイス研究会ベストペーパーアワード平成22年11月6日
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[Remarks] 展示・出展(1)イノベーション・ジャパン2011_大学見本市,(東京国際フォーラム,東京,日本, 2011年9月21-22日), M-37
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[Remarks] (2)第5回国際先端表面技術展・会議-ASTEC 2011(東京ビックサイト東6ホール & 会議場,東京,日本, 2011年2月16-18日), I-07
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