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2010 Fiscal Year Annual Research Report

有機液体を用いた多原子分子イオン源の開発と極浅イオン注入への応用

Research Project

Project/Area Number 22760252
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

竹内 光明  京都大学, 工学研究科, 助教 (10552656)

Keywords微細プロセス技術 / イオン注入 / イオン液体 / イオン源
Research Abstract

本研究では、次世代半導体の要求される炭化物汚染フリーな極浅炭素クラスターイオン注入の実現を目指し、高電流・高安定な含浸型イオン液体を用いたイオン源を開発を目的としている。
これまでの予備的研究により、ニードル型及びキャピラリー型イオン源では液体供給や電界放出面の位置が不安定なためイオン放出に問題があることがわかっている。従って平成22年度は、安定なイオン放出が期待できる含浸型イオン液体イオン源開発の試作に取り組んだ。また、放出イオン種を特定するための飛行時間型質量分析計の可能なイオン源真空槽の製作も行なった。
含浸型イオン源を試作するにあたり、エミッタ材料とイオン液体との濡れ性が重要となるため、接触角測定により評価を行なった。イオン液体には1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphateを使用した。測定の結果、グラファイト、Cu、Ni、Wはそれぞれ約30°、約35°、50-60°、約65°の接触角であることがわかった。これらの結果から、加工性の良いCuとNiの多孔質金属を円錐型に成形してエミッタとし、含浸型イオン液体イオン源を試作した。イオン液体液溜めを有するエミッタを水平に配し、対向電極に電圧を印加して5x10^<-4>Paの雰囲気にてイオン放出特性を評価した。その結果、印加電圧8kVにて約10μAの電流を得て、試作した含浸型イオン液体イオン源の動作を確認した。また、陰・陽イオンビームの電流を観測した。しかしながら、イオン放出は未だ安定していない。この原因には、残留イオンによる電荷の非平衡化や、放出イオンの衝突による残留ガス圧力の上昇などが考えられる。放出イオン種を特定するため、飛行時間型質量分析計の可能なイオン源真空槽の製作も行なった。この真空槽には次年度作製する不要イオン同時除去式イオン液体イオン源を配置できるよう設計した。

  • Research Products

    (25 results)

All 2011 2010

All Journal Article (8 results) (of which Peer Reviewed: 5 results) Presentation (17 results)

  • [Journal Article] Surface Processing and Modification of Polymers by Water Cluster Ion Beam2011

    • Author(s)
      H.Ryuto, M.Takeuchi, G.Ichihashi, P.Sommani, G.H.Takaoka
    • Journal Title

      AIP Conf.Proc

      Volume: 1,321 Pages: 310-313

    • DOI

      10.1063/1.3548389

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Fabrication of Impregnated-Electrode-Type Polyatomic Ion Source with Ionic Liquid2011

    • Author(s)
      M.Tateuchi, H.Ryuto, G.H.Takaoka
    • Journal Title

      AIP Conf.Proc

      Volume: 1321 Pages: 456-459

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] CARBON IMPLANTATION BY POLYATOMIC ION SOURCE OF ORGANIC LIQUIDS2011

    • Author(s)
      M.Tateuchi, H.Ryuto, G.H.Takaoka
    • Journal Title

      Proceedings of IPAC'10

      Pages: 136-138

  • [Journal Article] APPLICATION OF LIQUID CLUSTER ION BEAMS IN SURFACE PROCESSING2011

    • Author(s)
      H.Ryuto, M.Takeuchi, G.Takaoka
    • Journal Title

      Proceedings of IPAC'10

      Pages: 133-135

  • [Journal Article] Sources of polyatomic ions of organic liquids2010

    • Author(s)
      G.H.Takaoka, M.Takeuchi, H.Ryuto
    • Journal Title

      The Review of scientific instruments

      Volume: 81 Pages: 02B302

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Characteristics of liquid cluster ion beam for surface treatment2010

    • Author(s)
      H.Ryuto, R.Ozaki, Y.Kubo, M.Takeuchi, G.H.Takaoka
    • Journal Title

      The Review of scientific instruments

      Volume: 81 Pages: 02B902

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Metal-free and gasless space charge compensation of low energy ion beam by using surface-carbonized silicon field emitter array2010

    • Author(s)
      M.Takeuchi, Y.Gotoh, H.Tsuji, J.Ishikawa, S.Sakai
    • Journal Title

      Journal of Vacuum Science & Technology B

      Volume: 28 Pages: C2D5

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] 多原子分子イオンビームによるシリコン表面照射効果2010

    • Author(s)
      竹内光明, 龍頭啓充, 高岡義寛
    • Journal Title

      信学技報

      Volume: 110 Pages: 69-72

  • [Presentation] 含浸型イオン液体イオン源のイオンビーム特性2011

    • Author(s)
      植田亨, 竹内光明, 龍頭啓充, 高岡義寛
    • Organizer
      第58応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] ポリイミド基板への酸素クラスターイオンビーム照射効果,第58応用物理学関係連合講演会講演予稿集2011

    • Author(s)
      古谷健悟, 龍頭啓充, 竹内光明, ピヤヌットソムマニ, 辻博司, 高岡義寛
    • Organizer
      第58応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] 多原子分子クラスターイオンのシリコン基板表面に対する照射効果の基板温度依存性2011

    • Author(s)
      向井寛, 大村祐貴, 龍頭啓充, 竹内光明, 高岡義寛
    • Organizer
      第58応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] 水クラスターイオンビーム照射によるアクリル基板のスパッタリング2011

    • Author(s)
      市橋岳, 龍頭啓充, 竹内光明, 高岡義寛
    • Organizer
      第58応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] 酸素クラスターイオンビーム援用蒸着法により作製したSiOx薄膜の表面分析2011

    • Author(s)
      福島大貴, Xin Jin, 龍頭啓充, 竹内光明, 高岡義寛
    • Organizer
      第58応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] シリコン基板への炭素系多原子分子イオンビーム蒸着2011

    • Author(s)
      竹内光明, 龍頭啓充, 高岡義寛
    • Organizer
      第58応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] アセトンクラスターの生成2011

    • Author(s)
      糸崎俊介, 龍頭啓充, 竹内光明, 高岡義寛
    • Organizer
      第58応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      神奈川工科大学
    • Year and Date
      2011-03-25
  • [Presentation] 多原子分子イオンビームによるシリコン表面照射効果2010

    • Author(s)
      竹内光明, 龍頭啓充, 高岡義寛
    • Organizer
      電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      2010-12-17
  • [Presentation] シリコン基板に対するエタノールクラスターイオン照射効果の基板温度依存性2010

    • Author(s)
      向井寛, 龍頭啓充, 竹内光明, 高岡義寛
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      2010-09-16
  • [Presentation] 水クラスターイオンビームのアクリル基板への照射効果2010

    • Author(s)
      市橋岳, 龍頭啓充, 竹内光明, 高岡義寛
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      2010-09-16
  • [Presentation] 多原子分子イオンビームによるシリコン基板への炭素注入2010

    • Author(s)
      竹内光明, 龍頭啓充, 高岡義寛
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      2010-09-16
  • [Presentation] エタノールクラスターイオンビームのガラス表面への照射効果2010

    • Author(s)
      糸崎俊介, 龍頭啓充, 竹内光明, 高岡義寛
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      2010-09-16
  • [Presentation] 含浸型イオン液体イオン源の試作2010

    • Author(s)
      植田亨、竹内光明、龍頭啓充、高岡義寛
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎大学
    • Year and Date
      2010-09-15
  • [Presentation] Fabrication of Impregnated-Electrode-Type Polyatomic Ion Source with Ionic Liquid2010

    • Author(s)
      M.Takeuchi, H.Ryuto, G.H.Takaoka
    • Organizer
      IIT2010
    • Place of Presentation
      Kyoto
    • Year and Date
      2010-06-08
  • [Presentation] Surface Processing and Modification of Polymers by Water Cluster Ion Beam2010

    • Author(s)
      H.Ryuto, M.Takeuchi, G.H.Takaoka
    • Organizer
      IIT2010
    • Place of Presentation
      Kyoto
    • Year and Date
      2010-06-08
  • [Presentation] CARBON IMPLANTATION BY POLYATOMIC ION SOURCE OF ORGANIC LIQUIDS2010

    • Author(s)
      M.Takeuchi, H.Ryuto, G.H.Takaoka
    • Organizer
      IPAC'10
    • Place of Presentation
      Kyoto
    • Year and Date
      2010-05-24
  • [Presentation] APPLICATION OF LIQUID CLUSTER ION BEAMS IN SURFACE PROCESSING2010

    • Author(s)
      H.Ryuto, M.Takeuchi, G.H.Takaoka
    • Organizer
      IPAC'10
    • Place of Presentation
      Kyoto
    • Year and Date
      2010-05-24

URL: 

Published: 2012-07-19  

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