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2022 Fiscal Year Research-status Report

高制御ドーピングによる巨大なスピンホール効果を持つ金属系材料の探索

Research Project

Project/Area Number 22K04198
Research InstitutionYamaguchi University

Principal Investigator

浅田 裕法  山口大学, 大学院創成科学研究科, 教授 (70201887)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 福間 康裕  九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 教授 (90513466)
Project Period (FY) 2022-04-01 – 2025-03-31
Keywordsスピンホール効果 / スピン流 / イオン注入
Outline of Annual Research Achievements

令和4年度はイオン注入法によりセレンドープと窒素ドープ白金試料を作製し、スピントルク強磁性共鳴実験によるスピンホール角の評価を行った。セレンドープ試料においては、酸素ドープ白金(スピンホール角=0.23)に比べ、1/10のドープ量で0.25と大きな値を示した。窒素ドープ白金においては高ドープ試料でスピンホール角が減少し、ドープ量に対してピークを取る結果となった。これまでのイオン注入による酸素ドープ白金に加え、今回行ったセレンおよび窒素ドープ白金試料について、抵抗率とスピンホール抵抗率の関係を調べた。その結果、スピンホール抵抗率は抵抗率の2乗に対して線形的な増加傾向を示したことから、外因性散乱であるサイドジャンプ散乱が支配的になっていることが示唆された。この結果から、窒素ドープ白金におけるスピンホール角のドープ量依存性について検討するために、外因性散乱としてサイドジャンプ散乱を仮定することで、温度依存性測定結果からスピンホール効果を内因性散乱と外因性散乱に分離した評価を行った。その結果、窒素ドープ量の増加に従い外因性の効果が増加するのに対し、内因性が減少することがわかった。特に、高ドープ試料においては内因性が急激に減少しており、これによりスピンホール角の減少が生じていることを明らかにした。
スパッタ時のアルゴンガスと酸素ガスの導入比を調整することで、スパッタ法による酸素ドープ白金試料を作製し、各種評価を行った。その結果、スピンホール角の電気抵抗率依存性について、イオン注入法による試料と同程度の抵抗率範囲においては同様の傾向が得られた。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

イオン注入法による新たなイオン種としてセレンや窒素ドープ試料を作製し、スピンホール角を評価した。また、内因性散乱と外因性散乱に分離することでスピンホール効果について検討を行った。さらに、アルゴンガスと酸素ガスの比率を変えて酸素ドープ白金を作製し、イオン注入による試料との比較結果を得ており、研究は順調に進んでいる。

Strategy for Future Research Activity

イオン注入法においてはさらに別イオン種をドープし、スピンホール角の評価を行うことで、スピンホール性能の向上を図る。スパッタ法においては窒素ドープ白金を作製し、イオン注入法による作製試料と比較評価を行う。このとき、イオン注入試料と同様に内因性散乱と外因性散乱の分離評価を行うことで、両者の特性についてさらに調査する。また、磁化反転特性評価のための試料として強磁性材料との積層構造を作製する。

  • Research Products

    (9 results)

All 2023 2022 Other

All Int'l Joint Research (3 results) Journal Article (1 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Peer Reviewed: 1 results) Presentation (5 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results)

  • [Int'l Joint Research] Nanyang Technological University(シンガポール)

    • Country Name
      SINGAPORE
    • Counterpart Institution
      Nanyang Technological University
  • [Int'l Joint Research] Inter University Accelerator Centre/Indian Institute of Technology Kanpur(インド)

    • Country Name
      INDIA
    • Counterpart Institution
      Inter University Accelerator Centre/Indian Institute of Technology Kanpur
  • [Int'l Joint Research] GNS Science(ニュージーランド)

    • Country Name
      NEW ZEALAND
    • Counterpart Institution
      GNS Science
  • [Journal Article] Disentanglement of intrinsic and extrinsic side-jump scattering induced spin Hall effect in N-implanted Pt2023

    • Author(s)
      Utkarsh Shashank, Yoji Nakamura, Yu Kusaba, Takafumi Tomoda, Razia Nongjai, Asokan Kandasami, Rohit Medwal, Rajdeep Singh Rawat, Hironori Asada, Surbhi Gupta, Yasuhiro Fukuma
    • Journal Title

      Physical Review B

      Volume: 107 Pages: 064402/1-9

    • DOI

      10.1103/PhysRevB.107.064402

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Presentation] リンイオンを注入した白金薄膜のスピンホール効果2023

    • Author(s)
      友田好郁, Utkarsh Shashank, 草場優, 堀部陽一, 石丸学, 浅田裕法, 福間康裕
    • Organizer
      第70回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] イオン注入した白金薄膜の外因性スピンホール効果2023

    • Author(s)
      草場優, Utkarsh Shashank, 友田好郁, Razia Nongjai, Peter Murmu, John Kennedy, Asokan Kandasami, Rohit Medwal, Surbhi Gupta, Rajdeep Singh Rawat, 福間康裕
    • Organizer
      第70回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Intrinsic-extrinsic crossover of spin Hall effect in O and N-implanted Pt2022

    • Author(s)
      U. Shashank, Y. Kusaba, Y. Nakamura, T. Tomoda, R. Nongjai, A. Kandasami, R. Medwal, R. S. Rawat, H. Asada, S. Gupta, Y. Fukuma
    • Organizer
      7th International Conference on Ion Beams in Materials Engineering and Characterization
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] スパッタ法により作製したPt(O)薄膜におけるスピンホール効果2022

    • Author(s)
      中村潤之介, 伊津野光, Utkarsh Shashank, 友田好郁, 福間康裕, 浅田裕法
    • Organizer
      2022年度応用物理・物理系学会中国四国支部合同学術講演会
  • [Presentation] Pt(O)膜の作製と強磁性共鳴評価2022

    • Author(s)
      中村潤之介, 伊津野光, Utkarsh Shashank, 友田好郁, 福間康裕, 浅田裕法
    • Organizer
      第83回応用物理学会秋季学術講演会

URL: 

Published: 2023-12-25  

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