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2022 Fiscal Year Research-status Report

透明マイクロ構造シートによるマイクロプラスチックの環境モニタリングへの挑戦

Research Project

Project/Area Number 22K12415
Research InstitutionShibaura Institute of Technology

Principal Investigator

関 宏範  芝浦工業大学, SIT総合研究所, 准教授 (60533396)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 西川 宏之  芝浦工業大学, 工学部, 教授 (40247226)
Project Period (FY) 2022-04-01 – 2025-03-31
Keywords海洋マイクロプラスチック / 環境解析評価 / 環境保全 / マイクロ構造形成 / 誘電泳動技術 / 大面積化
Outline of Annual Research Achievements

近年、5 mm 以下の海洋マイクロプラスチック(MP)による海洋汚染が世界で顕在化し、生体への影響が問題視されている。この中でもスーパーマイクロプラスチックと呼ばれる350μm以下のサイズのマイクロプラスチックは捕集が困難であるため、実態がつかみにくく研究の遅れが生じている。
応募者は2021年から研究を進めている誘電泳動現象を用いたスーパーマイクロプラスチックの捕集デバイスを応用して、本事業において実用化に向けた新たな大面積の水環境スーパーマイクロプラスチックの捕集デバイスの作製課題に取り組んだ。
初年度に当たる2022年度においてはリソグラフィー技術としてマザーボードなどの大型電子基板の作製に用いられているドライフィルムレジストを感光用樹脂として活用しプロトンビームライティング装置(神戸製鋼所製 型式:MBS-S1000)を用いて誘電泳動用のピット構造が作製できるかどうかを確認した。プロトンビームライティング装置にドライフィルムレジストを導入し、陽子線を当て現像及びリンスを行った結果、世界で初めて凹凸のある誘電泳動用のピット構造が作製できることを確認した。また、陽子線の照射量を1nC/mm^2から100nC/mm^2まで変え、照射と現像を行ったところ、露光に必要となる最低限の陽子線の照射量40nC/mm^2を得た。この他、ドライフィルムレジストの現像過程の様子を、レーザー顕微鏡を用いて現像時間を変えて調べた。これにより、マイクロプラスチックの誘電泳動技術を用いた捕集デバイスの大面積化につながるきっかけを得た。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

1: Research has progressed more than it was originally planned.

Reason

ドライフィルムレジストとして昭和電工マテリアルズ株式会社のPhotec RY-5115を用いた。レジストの膜厚は15μmである。これをシリコン基板に貼り付け、芝浦工業大学共通機器センターにある陽子線描画装置(神戸製鋼所製 型式:MBS-S1000)にて陽子線照射を行い、本フィルムを感光させた。現像とリンスを行った結果、ネガ型レジストであるため照射場所以外のレジストがなくなり、誘電泳動用ピット構造を得た。また、1~100nC/mm^2まで陽子線の照射量を変え、照射量と現像深さの関係を得た。この他、レジスト溶解の様子をレーザー顕微鏡(オリンパス製 型式:OLS4000)を用いて観察した。これにより現像の進展の知見を得た。

Strategy for Future Research Activity

今度、スーパーマイクロプラスチック用捕集デバイスの大量生産のためにはドライフィルムレジストを用いた誘電泳動用ピットデバイスを作製する必要がある。また、このレジストを用いたデバイスにおいてもスーパーマイクロプラスチックが捕集できることを確認する必要がある。今後、ドライフィルムレジストを組み込んだ誘電泳動用捕集デバイスを作製し、電圧を印加し実際に捕集実験を行い、ドライフィルムレジストデバイスでスーパーマイクロプラスチックが捕集できることを確認する。

Causes of Carryover

本研究を遂行するにあたり、陽子線描画装置を用いての実験や解析を行う必要がある。これに関連して装置器具類を次年度に購入するため。

  • Research Products

    (2 results)

All 2022

All Journal Article (1 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Peer Reviewed: 1 results,  Open Access: 1 results) Presentation (1 results)

  • [Journal Article] Utilizing a photosensitive dry film resist in proton beam writing2022

    • Author(s)
      Seki Hironori、Kawamura Keiya、Hayashi Hidetaka、Ishii Yasuyuki、Puttaraksa Nitipon、Nishikawa Hiroyuki
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 61 Pages: SD1006~SD1006

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac55e1

    • Peer Reviewed / Open Access / Int'l Joint Research
  • [Presentation] 水環境中のポリスチレン微粒子の捕集に及ぼす 誘電泳動用ピットサイズの影響2022

    • Author(s)
      関宏範、松本悠佑、プッタラクサ ニテイポン、八木一平、内田諭、石井保行、西川宏之
    • Organizer
      電気学会A部門大会

URL: 

Published: 2023-12-25  

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