2013 Fiscal Year Annual Research Report
単一有機物での完全充填する銅ダマシンめっき添加剤の分子設計
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23560872
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| Research Institution | Osaka Prefecture University |
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Principal Investigator |
近藤 和夫 大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (50250478)
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| Keywords | めっき / 銅ダマシン / 有機添加物 / 単一 / ジアリルアミン |
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| Research Abstract |
通常4種類以上用いている銅ダマシンめっきの添加剤を、ジアリルアミンの単一有機添加剤で充填することに関して電気化学測定とQCM測定によりその現象を明らかにした。
1.ジアリルメチルアミンのアリル基とスルホニル基の間にアリルスルホン酸ソーダおよびビニルイミダゾールを組み込んだ追加型構造の影響を検討した。マイクロビア埋め込み断面の形状観察より(a)SAS 8:1:8,(c)Vin-HCl 2:1:2ではビア内部を完全に充填した後、バンプが形成された。
2.側鎖ジアミン型の検討を行った。側鎖が長い添加剤(a)P(DADEPDA[2HCl]/SO2), (b)P(DAAGTA[HCl]/SO2)の外部膜厚は薄く良好な穴埋めを達成したのに対して、側鎖が短い添加剤(c)P(DAEDA[2HCl]/SO2),(d)P(DADEEDA[2HCl]/SO2)の外部膜厚は著しく厚くなった。QCM測定より各添加剤の吸着量は(a)>(b)>(c)>(d)となり、断面形状が良好な添加剤(a),(b)は吸着量が大きくなった。定電流測定において、高回転数領域の抑制の強さは(a)>(b)>(c)>(d)となり、吸着量の順と一致した。
3.SDDACCを用いてTSV埋め込みを5分で達成した。その成果は日刊工業新聞に掲載された。
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