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2014 Fiscal Year Annual Research Report

酸化エルビウム結晶におけるポピュレーション操作と量子メモリへの応用

Research Project

Project/Area Number 24360033
Research InstitutionNTT Basic Research Laboratories

Principal Investigator

俵 毅彦  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 量子光物性研究部, 主任研究員 (40393798)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 尾身 博雄  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 機能物質科学研究部, 主任研究員 (50257218)
後藤 秀樹  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 量子光物性研究部, 部長 (10393795)
寒川 哲臣  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 量子光物性研究部, 所長 (70211993)
倉持 栄一  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 量子光物性研究部, 主任研究員 (10393802)
足立 智  北海道大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (10221722)
Project Period (FY) 2012-04-01 – 2015-03-31
KeywordsSTIRAP / 酸化エルビウム / エネルギー移動
Outline of Annual Research Achievements

これまで(ErSc)2O3結晶において空間的に異なるErサイト間でのエネルギー移動の存在を明らかにしてきたが、これに加えポピュレーションの散逸パスとして同一サイト内での上位準位へのエネルギー移動(アップコンバージョン)が存在することを実験的に見出した。これらエネルギー移動の過程をモデル化し解析することで、それぞれの移動速度のEr濃度依存性を明らかにした。これにより(ErSc)2O3結晶では超高濃度なEr濃度を維持しつつ、エネルギー移動速度を十万分の一から百万分の一に抑制できることを明らかにした。これら成果はチップ上の通信波長帯微小光素子の実現に大きく貢献するものである。

Research Progress Status

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Causes of Carryover

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Expenditure Plan for Carryover Budget

26年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (10 results)

All 2015 2014

All Presentation (9 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Presentation] Inter- and Intra-Site Energy Transfers in (Sc, Er)2O3 Thin Films Grown on Si(111)2015

    • Author(s)
      Y.Kawakami, T.Tawara, H.Omi, R.Kaji, S.Adachi
    • Organizer
      19th International Conference on Electron Dynamics in Semiconductors, Optoelectronics and Nanostructure (EDISON19)
    • Place of Presentation
      Salamanca, Spain
    • Year and Date
      2015-06-29 – 2015-07-02
  • [Presentation] Visible up-conversion luminescence in (ErSc)2O3 epitaxial thin films and its suppression by photonic band-gap2015

    • Author(s)
      T.Tawara, T.McManus, Y.Kawakami, H.Omi, A.Najar, R.Kaji, S.Adachi, H.Gotoh
    • Organizer
      Conference on Lasers and Electro-Optics 2015 (CLEO:2015)
    • Place of Presentation
      San Jose, USA
    • Year and Date
      2015-05-10 – 2015-05-15
  • [Presentation] (ErSc)2O3 薄膜におけるアップコンバージョン発光とフォトニックバンドギャップによる抑制2015

    • Author(s)
      俵毅彦、Thomas McManus、川上欣洋、尾身博雄、Adel Najar、鍛治怜奈、足立智、後藤秀樹
    • Organizer
      (ErSc)2O3 薄膜におけるアップコンバージョン発光とフォトニックバンドギャップによる抑制
    • Place of Presentation
      東海大学
    • Year and Date
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [Presentation] (Sc, Er)2O3薄膜におけるサイト選択励起でのエネルギー移動とアップコンバージョン2015

    • Author(s)
      川上欣洋、俵毅彦、尾身博雄、鍜治怜奈、足立智
    • Organizer
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東海大学
    • Year and Date
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [Presentation] (ErSc)2O3 混晶薄膜の非発光過程とレート方程式解析2015

    • Author(s)
      川上欣洋,鍜治怜奈,足立智,俵毅彦,尾身博雄
    • Organizer
      第50回応用物理学会北海道支部/第11回日本光学会北海道地区合同学術講演会
    • Place of Presentation
      旭川勤労者福祉会館
    • Year and Date
      2015-01-09 – 2015-01-10
  • [Presentation] 酸化エルビウム薄膜における上位準位へのポピュレーション移動2014

    • Author(s)
      俵毅彦,尾身博雄,A. Najar,鍛治怜奈,足立智,後藤秀樹
    • Organizer
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道大学
    • Year and Date
      2014-09-17 – 2014-09-20
  • [Presentation] エルビウム混晶薄膜発光の温度依存性:エネルギー移動と非発光過程の考察2014

    • Author(s)
      川上欣洋,鍜治怜奈,足立智,俵毅彦,尾身博雄
    • Organizer
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道大学
    • Year and Date
      2014-09-17 – 2014-09-20
  • [Presentation] (Er1-xScx)2O3MBE成長膜中Er置換サイトのEr濃度依存性2014

    • Author(s)
      尾身博雄,俵毅彦,鍛治怜奈,足立智,後藤秀樹
    • Organizer
      (Er1-xScx)2O3MBE成長膜中Er置換サイトのEr濃度依存性
    • Place of Presentation
      北海道大学
    • Year and Date
      2014-09-17 – 2014-09-20
  • [Presentation] Optical transition between Stark levels in (ErSc)2O3 epitaxitial films2014

    • Author(s)
      T. Tawara, H. Omi, A. Najar, R. Kaji, S. Adachi, H. Gotoh
    • Organizer
      Conference on Lasers and Electro-Optics 2014 (CLEO:2014)
    • Place of Presentation
      San Jose, USA
    • Year and Date
      2014-06-08 – 2014-06-13
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 光素子2015

    • Inventor(s)
      俵 毅彦
    • Industrial Property Rights Holder
      俵 毅彦
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2015-028251
    • Filing Date
      2015-02-17

URL: 

Published: 2016-06-01  

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