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2014 Fiscal Year Annual Research Report

単結晶ダイヤモンドを利用した超高性能弾性波デバイスの実現

Research Project

Project/Area Number 24360131
Research InstitutionChiba University

Principal Investigator

橋本 研也  千葉大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (90134353)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 藤井 知  千葉大学, 事務局, 特任研究員 (30598933)
大森 達也  千葉大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (60302527)
Project Period (FY) 2012-04-01 – 2015-03-31
Keywords単結晶 / ダイヤモンド / SAWデバイス / AlN / ScAlN / 発振器 / スパッタ
Outline of Annual Research Achievements

本研究では、単結晶ダイヤモンド(SCN)基板を利用して、既存の圧電材料では実現し得なかった際立った性能を有する弾性表面波(SAW)素子を実現し、新たな工学領域を創出することを目的とした。
本年度は、まず、厚い電極を利用すると質量負荷効果によりSAWのエネルギーが基板表面付近に集中し、圧電性が極端に向上することを明らかにした。このため、SiO2の様な圧電性が無い材料でも同様な効果が生じるため、SiO2の温度補償機能を併せ持った新機能SAWデバイス実現の可能性を明らかにした。
また、AlNよりも格段に圧電性の大きなScAlN薄膜についてもScAl合金ターゲットによる大面積成長を検討した。その結果、高品質膜が大面積に堆積できるようになったが、ターゲットのScAl組成比と薄膜の組成比の間に大きなずれが生じることが判った。検討の結果、これはScAlターゲット表面が窒化することに起因することを明らかにし、スパッタ雰囲気中のN2濃度を低減することにより、堆積膜中でのSc濃度が増加し、純Ar雰囲気中ではターゲットのそれとほぼ同一となることが判った。ただし、純Ar雰囲気中ではScAl合金が堆積されてしまう。今後、他のスパッタ条件も併せて見直し、ターゲットとほぼ同一のSc濃度を持つScAlNの成長条件を探索する。
AlN薄膜やScAlN薄膜を利用したSAW素子では、原理的には偶数次の非線形性が発生しない。非線形性を自動的に、しかも高精度に評価する計測システムを構築したところ、通常の圧電材料を利用した場合に比べると非線形性は押しなべて小さいが、特定の周波数で非常に強く励振されることを明らかにした。

Research Progress Status

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Causes of Carryover

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Expenditure Plan for Carryover Budget

26年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (22 results)

All 2015 2014

All Journal Article (7 results) (of which Peer Reviewed: 7 results,  Acknowledgement Compliant: 7 results) Presentation (15 results)

  • [Journal Article] putter Deposition of ScAlN Using Large Size Alloy Target with High Sc Content and Reduction of Sc Content in Deposited Films2015

    • Author(s)
      M.Sumisaka, K.Yamazaki, S.Fujii, G.Tang, T.Han, Y.Suzuki, S.Otomo, T.Omori, and K.Hashimoto
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys

      Volume: 54 Pages: -

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Considerations on Nonlinearity Measurement with High Signal-to-Noise Ratio for RF SAW/BAW Devices2015

    • Author(s)
      R.Kodaira, T.Omori, K.Hashimoto, H.Kyoya, and R.Nakagawa
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys

      Volume: 54 Pages: -

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Highly C-Axis-Oriented ScAlN Thin Films Deposited Using Sc-Al Alloy Target2015

    • Author(s)
      S.Fujii, M.Sumisaka, G.Tang, Y.Suzuki, S.Otomo, T.Omori, and K.Hashimoto
    • Journal Title

      Tech. Digest, IEEE Microwave Conf.

      Volume: - Pages: -

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Evaluation of Elastic Properties of SiO2 Thin Films by Ultrasonic Microscopy2015

    • Author(s)
      K.Sakamoto, T.Omori, J.Kushibiki, S.Matsuda, and K.Hashimoto
    • Journal Title

      Proc. IEEE Freq. Contr. Symp.

      Volume: - Pages: -

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Enhancement of Effective Electromechanical Coupling Factor by Mass Loading in Layered SAW Device Structures2015

    • Author(s)
      G.Tang, T.Han, A.Teshigahara, T.Iwaki, and K.Hashimoto
    • Journal Title

      Proc. IEEE Freq. Contr. Symp.

      Volume: - Pages: -

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Characterization of Elastic Properties of SiO2 Thin Films by Ultrasonic Microscopy2014

    • Author(s)
      K.Sakamoto, S.Suzuki, T.Omori, K.Hashimoto, J.Kushibiki, and S.Matsuda
    • Journal Title

      Proc. IEEE Ultrason. Symp.

      Volume: - Pages: 893-896

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Deposition of Highly C-Axis Oriented ScAlN Thin Films by RF Magnetron Sputtering Using Sc-Al Alloy Target2014

    • Author(s)
      S.Fujii, S.Shimizu, M.Sumisaka, Y.Suzuki, S.Otomo, T.Omori and K.Hashimoto
    • Journal Title

      Proc. IEEE Freq. Contr. Symp.

      Volume: - Pages: 350-353

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] Highly C-Axis-Oriented ScAlN Thin Films Deposited Using Sc-Al Alloy Target2015

    • Author(s)
      S.Fujii, M.Sumisaka, G.Tang, Y.Suzuki, S.Otomo, T.Omori, and K.Hashimoto
    • Organizer
      IEEE Microwave Conf.
    • Place of Presentation
      Phoenix, AZ, USA
    • Year and Date
      2015-05-17 – 2015-05-22
  • [Presentation] Enhancement of Effective Electromechanical Coupling Factor by Mass Loading in Layered SAW Device Structures2015

    • Author(s)
      G.Tang, T.Han, A.Teshigahara, T.Iwaki, and K.Hashimoto
    • Organizer
      日本学術振興会弾性波素子第150委員会研究会
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2015-05-12 – 2015-05-12
  • [Presentation] Evaluation of Elastic Properties of SiO2 Thin Films by Ultrasonic Microscopy2015

    • Author(s)
      K.Sakamoto, T.Omori, J.Kushibiki, S.Matsuda, and K.Hashimoto
    • Organizer
      IEEE Freq. Contr. Symp.
    • Place of Presentation
      Denver, CO. USA
    • Year and Date
      2015-04-12 – 2015-04-16
  • [Presentation] Enhancement of Effective Electromechanical Coupling Factor by Mass Loading in Layered SAW Device Structures2015

    • Author(s)
      G.Tang, T.Han, A.Teshigahara, T.Iwaki, and K.Hashimoto
    • Organizer
      IEEE Freq. Contr. Symp.
    • Place of Presentation
      Denver, CO. USA
    • Year and Date
      2015-04-12 – 2015-04-16
  • [Presentation] Enhancement of Effective Electromechanical Coupling Factor by Mass Loading in Layered SAW Device Structures2015

    • Author(s)
      G.Tang, T.Han, A.Teshigahara, T.Iwaki, and K.Hashimoto
    • Organizer
      圧電材料デバイスシンポジウム
    • Place of Presentation
      仙台
    • Year and Date
      2015-02-18 – 2015-02-19
  • [Presentation] Sc-Al合金ターゲットによるScAlN薄膜のスパッタ堆積 ~窒素ガス流量の影響について~2015

    • Author(s)
      隅坂将大,山崎健太,藤井知,大森達也,唐供賓,鈴木雄,大友将平,橋本研也
    • Organizer
      圧電材料デバイスシンポジウム
    • Place of Presentation
      仙台
    • Year and Date
      2015-02-18 – 2015-02-19
  • [Presentation] Si(001)面の異方性を利用した誘電体薄膜の弾性定数推定2015

    • Author(s)
      坂本賢亮,大森達也,橋本研也,櫛引淳一,松田聡
    • Organizer
      圧電材料デバイスシンポジウム
    • Place of Presentation
      仙台
    • Year and Date
      2015-02-18 – 2015-02-19
  • [Presentation] SAWフィルタ用オンウェハ耐電力測定系の構築2015

    • Author(s)
      大原俊介,大森達也,橋本研也,堤潤
    • Organizer
      圧電材料デバイスシンポジウム
    • Place of Presentation
      仙台
    • Year and Date
      2015-02-18 – 2015-02-19
  • [Presentation] Sc-Al合金ターゲットによるScAlN薄膜のスパッタ堆積2014

    • Author(s)
      隅坂将大,藤井知、大森達也,唐供賓、鈴木雄、大友将平、橋本研也
    • Organizer
      超音波エレクトロニクスとその応用に関するシンポジウム
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2014-12-01 – 2014-12-03
  • [Presentation] 高周波SAW/BAWデバイスにおける高い信号雑音比での 非線形性測定2014

    • Author(s)
      小平亮介,大森達也,橋本研也
    • Organizer
      超音波エレクトロニクスとその応用に関するシンポジウム
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2014-12-01 – 2014-12-03
  • [Presentation] 弾性表面波デバイス用耐電力オンウェハ測定系の構築2014

    • Author(s)
      大原 俊介,大森達也,橋本 研也
    • Organizer
      超音波エレクトロニクスとその応用に関するシンポジウム
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2014-12-01 – 2014-12-03
  • [Presentation] Sc-Al合金ターゲットによるScAlN薄膜のスパッタ堆積2014

    • Author(s)
      隅坂将大,藤井知、大森達也,唐供賓、鈴木雄、大友将平、橋本研也
    • Organizer
      日本学術振興会弾性波素子第150委員会研究会
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2014-10-09 – 2014-10-09
  • [Presentation] Characterization of Elastic Properties of SiO2 Thin Films by Ultrasonic Microscopy2014

    • Author(s)
      K.Sakamoto, S.Suzuki, T.Omori, K.Hashimoto, J.Kushibiki, and S.Matsuda
    • Organizer
      IEEE Ultrason. Symp.
    • Place of Presentation
      Chicago, IL, USA
    • Year and Date
      2014-09-03 – 2014-09-06
  • [Presentation] Deposition of Highly C-Axis Oriented ScAlN Thin Films by RF Magnetron Sputtering Using Sc-Al Alloy Target2014

    • Author(s)
      S.Fujii, S.Shimizu, M.Sumisaka, Y.Suzuki, S.Otomo, T.Omori and K.Hashimoto
    • Organizer
      IEEE Freq. Contr. Symp.
    • Place of Presentation
      台北,中華民国
    • Year and Date
      2014-05-19 – 2014-05-22
  • [Presentation] 基板異方性を利用したSiO2薄膜の弾性定数推定2014

    • Author(s)
      坂本賢亮,鈴木智史,大森達也,安昌俊,橋本研也,櫛引淳一,松田聡
    • Organizer
      日本学術振興会弾性波素子第150委員会研究会
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2014-05-08 – 2014-05-08

URL: 

Published: 2016-06-01  

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