2014 Fiscal Year Annual Research Report
ソフトリソグラフィーを駆使したシリコンナノ構造の自在配線
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24560861
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| Research Institution | Toyo University |
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Principal Investigator |
花尻 達郎 東洋大学, 理工学部, 教授 (30266994)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
前川 透 東洋大学, 理工学部, 教授 (40165634)
中島 義賢 東洋大学, 学際・融合科学研究科, 准教授 (40408993)
水木 徹 東洋大学, 学際・融合科学研究科, 准教授 (80408997)
東 利晃 東洋大学, バイオ・ナノエレクトロニクス研究センター, 研究助手 (90624742)
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| Project Period (FY) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| Keywords | SPM / SOQ / μ-TAS / ECM / ＭＰＣ / PCR / ＧＯ / rGO |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本研究におけるソフトリソグラフィーの中核技術となるのは、ソフトリソグラフィー用の高性能走査プローブ顕微鏡（SPM）の整備であるが、まず、これに関しては、昨年度は、共同開発先企業都合により「原子分解能多機能走査プローブ顕微鏡（SPM）」の整備計画に一部遅れが生じたが、今年度は、真の原子分解能を有する事実上唯一の次世代高速ＳＰＭの整備に精力を傾注し、目標をほぼ達成することができた。研究費の大半は、この新機能SPM用の特殊なプローブ（探針）の整備に有効に活用した。次に、シリコン配線の為のプラットフォームに関して、昨年度に引き続き、μ-TASでよく用いているシリコンゴムの一種であるPDMS (poly-Di-Methyl- Siloxane)の表面コーティング条件の最適化を行なった。PDMS表面へのMPC分子の被覆に関しては、XPS（光電子分光）や今年度、整備を完了した高分解能SPMなどの分析機器を用いた評価によって、MPCコーティングの最適化を系統的に行った。高分解能SPMを用いて、MPCコーティング面の電気的、機械的性質についても分析を試みた。これに加えて、シリコン配線の為のプラットフォームに関して、グラフェンおよびその関連物質（酸化グラフェン(GO)、還元酸化グラフェン(rGO)）に着目した。グラフェンおよびその関連物質は、酸化、還元のレベルによって、電気伝導性などの物性制御が可能である。本申請グループにおいては、特殊な薬品あるいは特殊な大型精密機器などを要せず、大面積で均一に試料作製が可能になる点で産業的に優位な熱プロセスによってグラフェンおよびその関連物質の酸化、還元の制御が在る程度可能であることをXPSや熱分析の評価により既に示し、グラフェンおよびその関連物質の酸化、還元の制御による壁面近傍の電気浸透流の抑制や疎水性・親水性の制御の可能性についても示した。
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[Journal Article] Patterning: N2-Plasma-Assisted One-Step Alignment and Patterning of Graphene Oxide on a SiO2/Si Substrate Via the Langmuir-Blodgett Technique2015
Author(s)
N. Chauhan,, V, Palaninathan, S. Raveendran, AC Poulose, Y .Nakajima, T. Hasumura, T. Uchida, T. Hanajiri, T .Maekawa and DS.Kumar
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Journal Title
ADVANCED MATERIALS INTERFACES
Volume: 2
Pages: 印刷中
DOI
Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
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