2014 Fiscal Year Annual Research Report
フッ素含有率および結晶性の傾斜構造を有するシート状耐酸性アパタイトの開発
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24560864
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| Research Institution | Kinki University |
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Principal Investigator |
楠 正暢 近畿大学, 生物理工学部, 教授 (20282238)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
岡井 大祐 兵庫県立大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (60336831)
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| Project Period (FY) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| Keywords | フッ化アパタイト / ハイドロキシアパタイト / 傾斜構造 / 歯科 / 齲蝕予防 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
齲蝕防止が可能な歯科用新素材として、歯質表面に貼り付けることができる耐酸性シート状アパタイトの開発を目標として研究を行った。
パルスレーザーデポジション法で作製したフッ化アパタイト（F-Ap）膜に関し、「OH基を全く含まない純粋なF-Ap膜が形成可能であること」、「結晶構造を有するF-Ap膜が形成される条件が存在すること」、さらに「pH<5の酸性環境下でもこのF-Ap薄膜が溶解しない耐酸性を示すこと」をH24,25年度に示した。
H26年度は、本研究の最終目標である、「フッ素含有率･結晶性傾斜型F-Ap/H-Apシート」を実現する構造の作製法についての検討を行った。単層のF-Apではなく、上記の傾斜構造を形成する理由は、アモルファスハイドロキシアパタイト（H-Ap）が歯質との接着や再石灰化に重要な役割を果たしているという報告に基づいており、このアモルファスH-Apを歯質との接着層に用いることを想定しているためである。
まずF-Apターゲットを用いドライO2のみでF-Apを成膜し、一定の膜厚に達した後、バブリングを通したウエットO2を導入し徐々にH2O濃度を上げることでOH基が取り込まれる確率を高める。その後in-situでH-Apターゲットにかえ、ドライO2を遮断し、ウエットO2のみでH-Apを成膜し、最後に基板温度を下げアモルファス層を形成する方法を検討した。作製した試料に対し光電子分光装置を用いて元素分析を行った。イオンエッチングと元素分析を交互に行うことにより、膜の深さ方向にF, Ca, Pの濃度分析を行った結果、予想通りにグラデーション層（濃度勾配）が形成されていることが示された。
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