2013 Fiscal Year Annual Research Report
新しいフォトリソグラフィーでマイクロ流路の側壁にデバイス機能を付加する
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24656066
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| Research Institution | Toyota Technological Institute |
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Principal Investigator |
熊谷 慎也 豊田工業大学, 工学部, 准教授 (70333888)
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| Keywords | マイクロマシン / マイクロ流路デバイス / マイクロ・ナノデバイス / 流れ解析 |
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| Research Abstract |
本研究では、フォトレジストのスプレーコーティングプロセスと斜め露光技術を基盤とする３次元リソグラフィー技術を駆使して、これまで使用されていなかったマイクロ流路の側壁部分にデバイス機能を付加することを目指している。
シミュレーションによって、マイクロ流路における流れ解析を行った。主流路部から分岐する副流路の形状を変えて、流れの分離状態を評価した。レイノルズ数が高くなると、流れの分岐部で壁に衝突した流れが跳ね返り、周期的に渦を発生することが分かった。また、分岐部での流路の広がりによって、流れ状態の安定性が大きく変わることが分かった。
流路デバイスの試作を進め、MEMSの試作で利用される永久レジストを用いて、石英ガラス上へのマイクロ流路の試作まで行った。石英ガラス底面から、倒立顕微鏡によって、流れのモニタリングをすることが可能である。
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