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2013 Fiscal Year Annual Research Report

ナノスケール結晶粒界品質の定量的評価手法の開発とその応用に関する研究

Research Project

Project/Area Number 24656077
Research InstitutionTohoku University

Principal Investigator

三浦 英生  東北大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (90361112)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 鈴木 研  東北大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (40396461)
Keywords信頼性 / 結晶粒界 / 電子線回折 / 結晶粒界品質 / 薄膜デバイス / めっき銅薄膜配線 / 原子拡散 / 劣化損傷
Research Abstract

従来多結晶材料の結晶品質評価は主に結晶粒径,結晶の配向性で論じられ,結晶粒界の性状は隣接した結晶の結晶方位差でのみ評価されてきた.しかし,これらの評価指標では,同一の組成でも結晶粒径変化等では説明できないナノスケールの高機能材料物性の多様性(特性の分布広がり)は説明できず,バルク特性では発現しない脆性的な破壊挙動の発現メカニズムを解明することができなかった.本提案手法は,材料の結晶構造を,共に体積を有する結晶と結晶粒界からなる複合材料として捉えるという革新的なものであり,結晶と結晶粒界の様々な物性を分離評価することで,材料物性の支配因子解明に資する重要なナノスケールでの材料評価学術基盤を構築するものである.さらに本手法はバルク材料の結晶粒界品質評価や異種材料界面近傍の結晶品質評価など極めて汎用性の高い材料評価技術として展開できる可能性が期待できるものである.
本研究においては,電子線後方散乱回折技術を応用し,電子ビーム径を50 nm以下に集束して走査し,局所的に得られる菊池線模様の信号品質を定量的に評価し,結晶品質の二次元分布を定量的に可視化する手法を開発した.特に結晶粒界品質に着目し,半導体デバイス用薄膜配線の初期特性や,エレクトロ&ストレス・マイグレーションによる劣化寿命が新たに提案した粒界品質指標で定量的に予測評価できることを明らかにした.また,原子配列の秩序性という品質指標を用いることで,材料内部の原子拡散の進行状況を定量的に可視化することが可能となり,原子拡散を加速する劣化支配因子として.低品質ランダム粒界の存在確率と,隣接結晶粒間の品質勾配の存在を明らかにした.さらに,これらの品質が薄膜下地材料との格子不整合で律速されていることを明らかにし,材料システムの信頼性向上設計指針を確立した.

  • Research Products

    (10 results)

All 2014 2013 Other

All Journal Article (4 results) (of which Peer Reviewed: 4 results) Presentation (5 results) (of which Invited: 2 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Improvement of the Reliability of TSV Interconnections by Controlling Crystallinity of Electroplated Copper Thin Films2013

    • Author(s)
      Ryosuke Furuya, Chuanhong Fan, Osamu Asai, Ken Suzuki, and Hideo Miura
    • Journal Title

      Proc. of IEEE the 63rd Eelectronic Components and Technology Conference

      Volume: 63 Pages: 635-640

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Improvement of the Reliability of Thin-Film Interconnections Based on the Control of the Crystallinity of the Thin Films2013

    • Author(s)
      Osamu Asai, Ryosuke Furuya, Chuanhong Fan, Ken Suzuki, Hideo Miura
    • Journal Title

      Proc. of ASME2013 International Technical Conference and Exhibition on Packaging and Integration of Electronic and Photonic Microsystems

      Volume: 12 Pages: 1-6

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Micro-Texture Dependence of Stress-induced Migration of Electroplated Copper Thin Film Interconnections Used for 3D Integration2013

    • Author(s)
      Ken Suzuki, Osamu Asai, Ryosuke Furuya, Jaeuk Sung, Naokazu Murata, and Hideo Miura
    • Journal Title

      Proc. of 18th International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices

      Volume: 18 Pages: 264-267

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Micro-Texture Dependence of Mechanical Properties of Fine Metallic Bumps Used for Three-Dimensional Electronic Packaging2013

    • Author(s)
      Ken Suzuki, Ryosuke Furuya, Fumiaki Endo and Hideo Miura
    • Journal Title

      Proc. of 2013 Inter Conference on SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS

      Volume: G7 Pages: 864-865

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Micro-Structure Dependence of Strong Anisotropic Mechanical Properties of Poly-Crystalline Thin Films2014

    • Author(s)
      Masaru Gotoh, Ken Suzuki, and Hideo Miura
    • Organizer
      1st INSA de Lyon-Tohoku Univ. Mini-Workshop
    • Place of Presentation
      Lyon, France
    • Year and Date
      20140223-20140224
  • [Presentation] Effect of Microtexture in Electroplated Copper Thin Films on Their Thermal Conductivity2013

    • Author(s)
      Rittinon Pornvitoo, Osamu Asai, Ken Suzuki, Hideo Miura
    • Organizer
      15th International Conference on Electronic Materials and Packing
    • Place of Presentation
      Seoul, Korea
    • Year and Date
      20131006-20131009
  • [Presentation] Effect of the Lattice Mismatch between Copper Thin-film Interconnection and Base Material on the Crystallinity of the Interconnection2013

    • Author(s)
      Chuanhong Fan, Osamu Asai, Ryosuke Furuya, Ken Suzuki, Hideo Miura
    • Organizer
      ASME2013 International Technical Conference and Exhibition on Packaging and Integration of Electronic and Photonic Microsystems
    • Place of Presentation
      Burlingame, CA, USA
    • Year and Date
      20130716-20130718
  • [Presentation] Improvement of Device Performance in 3D Modules by Optimizing Mechanical Stress and Strain Fields2013

    • Author(s)
      Hideo Miura
    • Organizer
      2nd Annual World Congress of Emerging Info Tech 2013
    • Place of Presentation
      Dalian, China
    • Year and Date
      20130620-20130622
    • Invited
  • [Presentation] Improvement of the Reliability of TSV Interconnections by Controlling Crystallinity of Electroplated Copper Thin Films”, ECTC20132013

    • Author(s)
      Ryosuke Furuya, Chuanhong Fan, Osamu Asai, Ken Suzuki, and Hideo
    • Organizer
      The 63rd Eelectronic Components and Technology Conference
    • Place of Presentation
      Las Vegas, NV, USA
    • Year and Date
      20130528-20130531
    • Invited
  • [Remarks] 東北大学エネルギー安全科学国際研究センター三浦・鈴木研究室

    • URL

      www.miura.rift.mech.tohoku.ac.jp

URL: 

Published: 2015-05-28  

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