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2013 Fiscal Year Annual Research Report

新規液相成長法による単結晶窒化アルミニウムの作製と成長機構の解明

Research Project

Project/Area Number 24760611
Research InstitutionTohoku University

Principal Investigator

安達 正芳  東北大学, 多元物質科学研究所, 助教 (90598913)

Keywords窒化アルミニウム / 液相成長
Research Abstract

平成25年度,液相成長中にフラックスへ供給する窒素ガス中の酸素分圧を制御した実験を実施し,その結果,10の-1乗Paの酸素分圧のガスを供給することでAlNが成長するが,10の-12乗Pa以下の酸素分圧のガスを供給するとAlNが成長しないことがわかった.一方,これまでの筆者らの研究において,テンプレートとして用いる窒化サファイア層はN極性を有するのに対し,その上に液相エピタキシャル成長した層ではAl極性を有し,2層の界面で極性反転していることがわかった.平成26年度は,これらの結果を元に,結晶成長メカニズムについて考察した.N極性のAlNはAl極性のAlNに比べ,化学的に不安定であることが知られている.低い酸素分圧のガスを供給すると,化学的に不安定なN極性AlNがフラックスに接し,メルトバックしてしまう.一方,高い酸素分圧のガスを供給すると,N極性AlNの表面に酸素原子が取り込まれ,酸素原子を中心に対称な八面体構造を作るため,極性がリセットし,その後化学的に安定なAl極性のAlNが成長する.
また,平成26年度は,窒化したa面サファイア基板を用い,液相成長を行なった.平成25年度までの研究ではc面サファイアを用いていたが,a面サファイアを用いることで熱処理等のプロセスを踏まなくとも,回転ドメインのない単結晶が得られると期待できる.その結果,成長したAlNの結晶配向性の指標となるX線ロッキングカーブの半値幅は(0002)および(10-12)に対してそれぞれ90,390arcsecであり,c面サファイア上のAlNよりも高い結晶配向性を示すことがわかった.サファイア基板上のAlNとしては世界最高水準である.また,TEM観察により,成長したAlNの転位解析を行った.その結果,主な転位種は刃状転位であり,転位の起源は,サファイアと窒化サファイア層の界面のミスフィットであることがわかった.

  • Research Products

    (11 results)

All 2014 2013

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (10 results) (of which Invited: 2 results)

  • [Journal Article] High-quality AlN layer homoepitaxially grown on nitrided a-plane sapphire2013

    • Author(s)
      Masayoshi Adachi, Kenji Tsuda, Masashi Sugiyama, Junji Iida, Akikazu Tanaka, and Hiroyuki Fukuyama
    • Journal Title

      Applied Physics Express

      Volume: 6 Pages: 091001-1-3

    • DOI

      10.7567/APEX.6.091001

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Ga-Al液相法を用いた窒化サファイア基板上AlN膜成長2014

    • Author(s)
      安達正芳,福山博之,杉山正史,飯田潤二
    • Organizer
      日本鉄鋼協会 第167回春季講演大会
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      20140321-20140323
  • [Presentation] 固液界面制御による単結晶AlN膜の結晶成長2014

    • Author(s)
      福山博之,安達正芳
    • Organizer
      日本金属学会 2014春季講演大会
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      20140321-20140323
    • Invited
  • [Presentation] Al極性AlN膜基板上への低酸素分圧下におけるAlN膜液相成長2014

    • Author(s)
      関谷竜太,安達正芳,大塚誠,福山博之
    • Organizer
      日本金属学会 2014年春季講演大会
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      20140321-20140323
  • [Presentation] Ga-Alを用いたAlNの液相成長における結晶極性と成長機構2013

    • Author(s)
      安達正芳,杉山正史,飯田潤二,田中明和,福山博之
    • Organizer
      日本結晶成長学会 結晶成長国内会議
    • Place of Presentation
      長野
    • Year and Date
      20131106-20131108
  • [Presentation] Ga-Alフラックスを用いたAlNの液相エピタキシャル成長法の開発2013

    • Author(s)
      安達正芳,福山博之,杉山正史,飯田潤二,田中明和
    • Organizer
      日本金属学会 2013秋季講演大会
    • Place of Presentation
      金沢
    • Year and Date
      20130917-20130919
  • [Presentation] 大気中熱処理によるa面サファイア基板の表面性状の変化と表面窒化に及ぼす影響2013

    • Author(s)
      関谷竜太,安達正芳,大塚誠,福山博之
    • Organizer
      日本金属学会 2013秋季講演大会
    • Place of Presentation
      金沢
    • Year and Date
      20130917-20130919
  • [Presentation] Liquid phase epitaxial growth of AlN on nitirded sapphire substrate using Ga-Al solution2013

    • Author(s)
      Masayoshi Adachi, Masashi Sugiyama, Junji Iida, Akikazu Tanaka, and Hiroyuki Fukuyama
    • Organizer
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • Place of Presentation
      Kyoto, Japan
    • Year and Date
      20130916-20130920
    • Invited
  • [Presentation] Polarity inversion and growth mechanism of AlN layer grown on nitrided sapphire using Ga-Al flux2013

    • Author(s)
      Masayoshi Adachi, Mari Takasugi, Masashi Sugiyama, Junji Iida, Akikazu Tanaka, and Hiroyuki Fukuyama
    • Organizer
      10th International Conference on Nitride Semiconductors
    • Place of Presentation
      Washington, DC, USA
    • Year and Date
      20130825-20130830
  • [Presentation] Ga-Al液相成長法により成長したAlNの極性と成長メカニズム2013

    • Author(s)
      安達正芳,高杉茉里,杉山正史,飯田潤二,田中明和,福山博之
    • Organizer
      日本結晶成長学会 ナノ構造・エピタキシャル成長分科会 2013春季講演会
    • Place of Presentation
      大阪
    • Year and Date
      20130620-20130622
  • [Presentation] Ga-Al solution growth of high-quality AlN on nitrided a-plane sapphire2013

    • Author(s)
      Masayoshi Adachi, Kenji Tsuda, Masashi Sugiyama, Junji Iida, Akikazu Tanaka, and Hiroyuki Fukuyama
    • Organizer
      The Sixth Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors (APWS 2013)
    • Place of Presentation
      Tamsui, Taiwan
    • Year and Date
      20130512-20130515

URL: 

Published: 2015-05-28  

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