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2013 Fiscal Year Annual Research Report

極めて柔軟で透明な高性能カーボンナノチューブデバイスの開発

Research Project

Project/Area Number 24860018
Research InstitutionNational Institute for Materials Science

Principal Investigator

相川 慎也  独立行政法人物質・材料研究機構, 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点, ポスドク研究員 (40637899)

Project Period (FY) 2012-08-31 – 2014-03-31
Keywordsカーボンナノチューブ / フレキシブルエレクトロニクス / 透明導電膜 / ポリマー絶縁膜 / プラスチック基板
Research Abstract

次世代電子デバイスとして注目されているフレキシブルトランジスタの高性能化および高機能化の手段としてプラスチック基板やポリマー絶縁膜の薄膜化が検討課題となっている.これまでの研究で,薄いプラスチック基板,ポリマー絶縁膜,カーボンナノチューブ膜電極,カーボンナノチューブチャネルで構成された超フレキシブルオールカーボントランジスタを実現している.しかしながら,ポリマー-チャネル間の相互作用に由来する極性変換など,デバイスの特性制御に関する未解決の課題があった.
平成25年度は,前年度の結果をより定量的に検討するため,ドーパント濃度が明確なp型Si基板を用い,ポリビニルアルコール(PVA)の金属/絶縁体/半導体キャパシタ構造を作製し,特性評価を行った.
容量-電圧測定から見積もられるフラットバンド電圧とPVA絶縁膜厚の関係から,PVA膜内にはSi基板表面-PVA間に誘起される界面電荷密度に匹敵する高密度の正の固定電荷が存在することがわかった.電荷密度は,PVA膜内およびSiO2-PVA界面でそれぞれ+10の15乗 (cm-3)および+10の11乗 (cm-2)であった.このため,PVAを塗布したカーボンナノチューブチャネルには負の電荷が誘起され,n型挙動が見られる.さらに,アンモニアドープを施したポリマーを用い,PVA絶縁膜中の正電荷密度を増やすと,カーボンナノチューブチャネルへ誘起される負電荷が増加し,電子のみによる単極性のn型伝導が観測される.
PVA塗布による極性変換はカーボンナノチューブの他,グラフェンでも確認している.チャネル膜厚が薄くなるほど誘起された電荷の効果が顕著になるため,厚さ数nm程度の材料を用いる超薄膜エレクトロニクスにも有用な知見になると考えられる.
また,チャネルの柔軟性を検討するため,比較材料として酸化薄膜半導体を用いたトランジスタ試作を行った.

Current Status of Research Progress
Reason

25年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

25年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (24 results)

All 2014 2013 Other

All Journal Article (5 results) (of which Peer Reviewed: 5 results) Presentation (6 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (12 results) (of which Overseas: 2 results)

  • [Journal Article] Low-temperature processable amorphous In-W-O thin-film transistors with high mobility and stability2014

    • Author(s)
      T. Kizu, S. Aikawa, N. Mitoma, M. Shimizu, X. Gao, M.-F. Lin, T. Nabatame, K Tsukagoshi
    • Journal Title

      Appl. Phys. Lett

      Volume: vol.104 Pages: p.152103

    • DOI

      10.1063/1.4871511

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Stable amorphous In2O3-based thin-film transistors by incorporating SiO2 to suppress oxygen vacancies2014

    • Author(s)
      N. Mitoma, S. Aikawa, X. Gao, T. Kizu, M. Shimizu, M.-F. Lin, T. Nabatame, K. Tsukagoshi
    • Journal Title

      Applied Physics Letters

      Volume: 104 Pages: 102103

    • DOI

      10.1063/1.4868303

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Strong Enhancement of Raman Scattering from a Bulk-Inactive Vibrational Mode in Few-Layer MoTe22014

    • Author(s)
      M. Yamamoto, S. T. Wang, M. Ni, Y.-F. Lin, S.-L. Li, S. Aikawa, W.-B. Jian, K. Ueno, K. Wakabayashi, K. Tsukagoshi
    • Journal Title

      ACS Nano

      Volume: 8 Pages: 3895-3903

    • DOI

      10.1021/nn5007607

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Effect of Gas Pressure on the Density of Horizontally Aligned Single-Walled Carbon Nanotubes Grown on Quartz Substrates2013

    • Author(s)
      T. Inoue, D. Hasegawa, S. Badar, S. Aikawa, S. Chiashi, S. Maruyama
    • Journal Title

      J. Phys. Chem. C

      Volume: vol.117 Pages: pp.11804-11810

    • DOI

      10.1021/jp401681e

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Effects of dopants in InOx-based amorphous oxide semiconductors for thin-film transistor applications2013

    • Author(s)
      S. Aikawa, T. Nabatame, K. Tsukagoshi
    • Journal Title

      Applied Physics Letters

      Volume: 103 Pages: 172105

    • DOI

      10.1063/1.4822175

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Influence of electrical properties for IGZO TFT with Al2O3 gate insulators by PE-ALD method2014

    • Author(s)
      K. Kurishima, T. Nabatame, M. Shimizu, S. Aikawa, K. Tsukagoshi, A. Ohi, T. Chikyo, A. Ogura
    • Organizer
      14th International Conference on Atomic Layer Deposition 2014
    • Place of Presentation
      Hotel Granvia Kyoto (Kyoto, Japan)
    • Year and Date
      20140615-20140618
  • [Presentation] Influence of Al2O3 Gate Dielectric on Transistor Properties for Igzo Thin Film Transistor2014

    • Author(s)
      K. Kurishima, T. Nabatame, M. Shimizu, S. Aikawa, K. Tsukagoshi, A. Ohi, T. Chikyow, A. Ogura
    • Organizer
      225th ECS Meeting
    • Place of Presentation
      Hilton Bonnet Creek (Orlando, Florida, USA)
    • Year and Date
      20140511-20140516
  • [Presentation] PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性2014

    • Author(s)
      栗島一徳,生田目俊秀,清水麻希,相川慎也,塚越一仁,大井暁彦,知京豊裕,小椋厚志
    • Organizer
      2014年春季 応用物理学会
    • Place of Presentation
      青山学院大学(神奈川)
    • Year and Date
      20140317-20140320
  • [Presentation] PE-ALD法で作製したAl2O3絶縁膜を用いたIGZO-TFTの電気特性の変化2014

    • Author(s)
      栗島一徳,生田目俊秀,清水麻希,相川慎也,塚越一仁,大井暁彦,知京豊裕,小椋厚志
    • Organizer
      第19回 ゲートスタック研究会
    • Place of Presentation
      ニューウェルシティー湯河原(静岡)
    • Year and Date
      20140124-20140125
  • [Presentation] Transport characteristics for nitrogen-doped horizontally aligned single-walled carbon nanotubes2013

    • Author(s)
      S.J. Kim, T. Thurakitseree, S. Aikawa, T. Inoue, S. Chiashi, S. Maruyama
    • Organizer
      4th A3 Symposium on Emerging Materials: Nanomaterials for Energy and Electronics
    • Place of Presentation
      Daemyung Resort (Jeju Island, Korea)
    • Year and Date
      20131110-20131114
  • [Presentation] Highly Stable n-Doped Graphene Field-Effect Transistors via Polyvinyl Alcohol Films2013

    • Author(s)
      S.J. Kim, P. Zhao, S. Aikawa, E. Einarsson, S. Chiashi, S. Maruyama
    • Organizer
      5th International Conferences on Recent Progress in Graphene Research
    • Place of Presentation
      Tokyo Institute of Technology (Tokyo, Japan)
    • Year and Date
      20130909-20130913
  • [Remarks] 研究室ホームページ

    • URL

      http://www.nims.go.jp/pi-ele_g/member/aikawa.html

  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタおよびその製造方法2014

    • Inventor(s)
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也
    • Industrial Property Rights Holder
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016266
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 酸化物薄膜トランジスタおよびその製造方法2014

    • Inventor(s)
      塚越一仁,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Holder
      塚越一仁,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016630
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタおよびその製造方法2014

    • Inventor(s)
      塚越一仁,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Holder
      塚越一仁,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016273
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 酸化物半導体およびその製法2014

    • Inventor(s)
      相川慎也,塚越一仁,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Holder
      相川慎也,塚越一仁,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016631
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタの構造、薄膜トランジスタの製造方法および半導体装置2014

    • Inventor(s)
      生田目俊秀,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,塚越一仁
    • Industrial Property Rights Holder
      生田目俊秀,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,塚越一仁
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016632
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 固定電荷を内部に誘起したゲート絶縁膜2014

    • Inventor(s)
      生田目俊秀,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,塚越一仁
    • Industrial Property Rights Holder
      生田目俊秀,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,塚越一仁
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016633
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタおよびその製造方法2014

    • Inventor(s)
      相川慎也,塚越一仁,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Holder
      相川慎也,塚越一仁,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,生田目俊秀
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016634
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法および半導体装置2014

    • Inventor(s)
      生田目俊秀,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,塚越一仁
    • Industrial Property Rights Holder
      生田目俊秀,相川慎也,木津たきお,清水麻希,三苫伸彦,塚越一仁
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2014-016635
    • Filing Date
      2014-01-31
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 有機EL素子及びその製造方法2014

    • Inventor(s)
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也
    • Industrial Property Rights Holder
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      PCT/JP2014/059190
    • Filing Date
      2014-03-28
    • Overseas
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタおよびその製造方法2013

    • Inventor(s)
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也
    • Industrial Property Rights Holder
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2013-099284
    • Filing Date
      2013-05-09
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法および半導体装置2013

    • Inventor(s)
      塚越一仁,ピーターダルマワン,相川慎也,生田目俊秀,柳沢佳一
    • Industrial Property Rights Holder
      塚越一仁,ピーターダルマワン,相川慎也,生田目俊秀,柳沢佳一
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      PCT/JP2013/066384
    • Filing Date
      2013-06-13
    • Overseas
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 薄膜トランジスタおよびその製造方法2013

    • Inventor(s)
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也,知京豊裕
    • Industrial Property Rights Holder
      生田目俊秀,塚越一仁,相川慎也,知京豊裕
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2013-139425
    • Filing Date
      2013-07-03

URL: 

Published: 2015-05-28  

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