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2014 Fiscal Year Annual Research Report

酸化物半導体一次元電子ガスの電界誘起と超巨大熱電能変調

Research Project

Project/Area Number 25246023
Research InstitutionHokkaido University

Principal Investigator

太田 裕道  北海道大学, 電子科学研究所, 教授 (80372530)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2017-03-31
Keywords一次元電子ガス / 熱電能 / AFMリソグラフィー
Outline of Annual Research Achievements

ナノ㍍オーダーの極細半導体細線に蓄積される一次元電子ガス(1DEG)は伝導帯電子状態密度の離散化に伴う量子サイズ効果に起因したユニークな光・電子・磁気物性を示すことから、1DEG形成により金属酸化物半導体の物性を化合物半導体以上に高めることが可能と考えられる。本研究では、AFMリソグラフィー技術を利用して、金属酸化物半導体上にナノ㍍オーダーの極細1DEGを電界誘起することで超巨大熱電能の観測を目指している。
昨年度導入した超高精度原子間力顕微鏡を用い、SrTiO3単結晶上に一次元電子ガスを作製する条件の最適化を行い、熱電能の計測を試みたが、誘起された一次元電子ガスの安定性が低く、すぐに絶縁体に戻ってしまうことが判明した。そこで、SrTiO3と同じペロブスカイト型構造を有するSrCoOxについて含水ナノ多孔性ガラスをゲート誘電体として用いた薄膜トランジスタ構造を作製し、金属相の安定性を調査したところ、SrCoO3は極めて安定であり、水の電気分解によって生成するH+とOH-イオンを利用した酸化還元反応により、容易に金属⇔絶縁体可逆変化が起こることを見出した。現在、SrCoOxエピタキシャル薄膜上にAFMリソグラフィーによって一次元電子ガスを作製にトライしている。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

SrTiO3単結晶上に、AFMリソグラフィーによって一次元電子ガスを作製することには成功したが、安定性が低く、熱電能の計測には至らなかった。そこで、SrTiO3と同じペロブスカイト型構造を有するSrCoOxについて調査したところ、水の電気分解によって生成するH+とOH-イオンを利用した酸化還元反応により、容易に金属⇔絶縁体可逆変化が起こることを見出した。現在、SrCoOxエピタキシャル薄膜上にAFMリソグラフィーによって一次元電子ガスを作製にトライしている。

Strategy for Future Research Activity

対象物質をSrTiO3からSrCoOxに変更し、以下の手順で研究を推進する。
①AFMリソグラフィーによるSrCoO2.5エピタキシャル極薄膜上への金属SrCoO3ナノワイヤー(一次元電子ガス)の作製
②磁気力顕微鏡を用いた一次元電子ガスの可視化
③電子顕微鏡による一次元電子ガスの可視化
④熱電能計測を含む、電気・磁気特性の計測(SrCoO3極薄膜の熱電能などと比較)

  • Research Products

    (19 results)

All 2015 2014 Other

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 3 results,  Acknowledgement Compliant: 3 results) Presentation (14 results) (of which Invited: 5 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Polaron transport and thermoelectric behavior in La-doped SrTiO3 thin films with elemental vacancies2015

    • Author(s)
      W. S. Choi, H. K. Yoo, and H. Ohta
    • Journal Title

      Adv. Funct. Mater.

      Volume: 25 Pages: 799-804

    • DOI

      10.1002/adfm.201403023

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Thermopower enhancement by fractional layer control in 2D oxide superlattices2014

    • Author(s)
      W. S. Choi, H. Ohta, and H. N. Lee
    • Journal Title

      Adv. Mater.

      Volume: 26 Pages: 6701-6705

    • DOI

      10.1002/adma.201401676

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Thermopower analysis of the electronic structure around metal-insulator transition in V1-xWxO22014

    • Author(s)
      T. Katase, K. Endo, and H. Ohta
    • Journal Title

      Phys. Rev. B

      Volume: 90 Pages: 1161105(R)-1-4

    • DOI

      10.1103/PhysRevB.90.161105

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] Thermoelectric effect of extremely thin electron doped SrTiO32015

    • Author(s)
      H. Ohta
    • Organizer
      The 1st IOP-RIES Joint Workshop
    • Place of Presentation
      Hokkaido Univ., Sapporo(日本)
    • Year and Date
      2015-03-23 – 2015-03-23
    • Invited
  • [Presentation] 全固体SrCoO3-δ強磁性薄膜トランジスタ2015

    • Author(s)
      鈴木雄喜, 片瀬貴義, 太田裕道
    • Organizer
      第62回 応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東海大学湘南キャンパス(神奈川県・平塚市)
    • Year and Date
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [Presentation] 全固体エレクトロクロミックWO3薄膜トランジスタ2015

    • Author(s)
      廣野未沙子, 片瀬貴義, 太田裕道
    • Organizer
      第62回 応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東海大学湘南キャンパス(神奈川県・平塚市)
    • Year and Date
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [Presentation] Thermopower enhancement of two-dimensional electron gas in oxide semiconductors2015

    • Author(s)
      H. Ohta
    • Organizer
      The American Ceramic Society's Electronic Materials and Applications 2015 (EMA2015)
    • Place of Presentation
      DoubleTree by Hilton Orlando at Sea World, Orlando, FL(米国)
    • Year and Date
      2015-01-21 – 2015-01-23
    • Invited
  • [Presentation] 水電気分解を利用したVO2薄膜のプロトン化と金属-絶縁体可逆制御2015

    • Author(s)
      遠藤賢司, 片瀬貴義,太田裕道
    • Organizer
      第50回応用物理学会北海道支部学術講演会
    • Place of Presentation
      旭川市・勤労者福祉会館(北海道・旭川市)
    • Year and Date
      2015-01-09 – 2015-01-10
  • [Presentation] 水電気分解トランジスタによるVO2薄膜へのプロトン挿入と金属-絶縁体相転移制御2014

    • Author(s)
      遠藤賢司, 片瀬貴義, 太田裕道
    • Organizer
      平成26年度 日本セラミックス協会東北北海道支部研究発表会
    • Place of Presentation
      秋田市にぎわい交流館AU(秋田県・秋田市)
    • Year and Date
      2014-11-06 – 2014-11-07
  • [Presentation] 電解誘起水素化によるVO2薄膜トランジスタの金属-絶縁体相制御2014

    • Author(s)
      片瀬貴義, 遠藤賢司, 太田裕道
    • Organizer
      薄膜材料デバイス研究会 第11回研究集会
    • Place of Presentation
      龍谷大学 響都ホール校友会館(京都府・京都市)
    • Year and Date
      2014-10-31 – 2014-11-01
  • [Presentation] VO2薄膜トランジスタの電解誘起水素化と金属-絶縁体相転移制御2014

    • Author(s)
      片瀬貴義, 遠藤賢司, 太田裕道
    • Organizer
      第34回エレクトロセラミックス研究討論会
    • Place of Presentation
      東京工業大学(東京都・目黒区)
    • Year and Date
      2014-10-24 – 2014-10-25
  • [Presentation] Field-induced hydrogenation of VO2 thin film transistor for modulation of metal-insulator transition and thermopower2014

    • Author(s)
      T. Katase, K. Endo, and H. Ohta
    • Organizer
      21st International Workshop on Oxide Electronics (WOE21)
    • Place of Presentation
      The Sagamore Resort on Lake George, NY(米国)
    • Year and Date
      2014-09-28 – 2014-10-01
  • [Presentation] 水電気分解を利用した酸化物の熱電能変調2014

    • Author(s)
      太田裕道, 片瀬貴義
    • Organizer
      第75回 応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      北海道大学(北海道・札幌市)
    • Year and Date
      2014-09-17 – 2014-09-20
    • Invited
  • [Presentation] Electric-field induced hydrogenation of VO2 thin film transistor for modulation of metal-insulator phase transition2014

    • Author(s)
      K. Endo, T. Katase, and H. Ohta
    • Organizer
      he 1st Korea-Japan Bilateral Workshop on Functional Materials Science -Thermoelectrics, Spintronics, Low-dimensional Materials, and Soft Matter-
    • Place of Presentation
      Hokkaido Univ., Sapporo(日本)
    • Year and Date
      2014-08-01 – 2014-08-01
  • [Presentation] Metal-insulator transition and thermopower modulation of VO2 thin film by electric-field induced hydrogenation2014

    • Author(s)
      T. Katase, K. Endo, and H. Ohta
    • Organizer
      Oxide Thin Films for Advanced Energy and Information Applications; Materials Chemistry of Thin Film Oxides
    • Place of Presentation
      Bloomingdale, Chicago(米国)
    • Year and Date
      2014-07-13 – 2014-07-16
    • Invited
  • [Presentation] Electric-field induced hydrogenation of VO2 thin film transistor for modulation of metal-insulator phase transitio2014

    • Author(s)
      T.Katase, K. Endo, and H. Ohta
    • Organizer
      The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)
    • Place of Presentation
      Mielparque-Yokohama, Kanagawa(日本)
    • Year and Date
      2014-06-25 – 2014-06-27
  • [Presentation] 酸化物半導体に蓄積された二次元電子ガスー熱電能を中心にー2014

    • Author(s)
      太田裕道
    • Organizer
      統合物質創製化学推進事業 第5回若手研究会
    • Place of Presentation
      休暇村支笏湖(北海道・千歳市)
    • Year and Date
      2014-06-22 – 2014-06-23
    • Invited
  • [Remarks] 薄膜機能材料研究分野(太田裕道 研究室) 北海道大学 電子科学研究所

    • URL

      http://functfilm.es.hokudai.ac.jp/

  • [Patent(Industrial Property Rights)] 半導体装置2015

    • Inventor(s)
      太田裕道、片瀬貴義、鈴木雄喜
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人北海道大学
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2015-002769
    • Filing Date
      2015-01-09

URL: 

Published: 2016-06-01  

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