2015 Fiscal Year Annual Research Report
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25280013
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
高橋 篤司 東京工業大学, 理工学研究科, 教授 (30236260)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
小平 行秀 会津大学, コンピュータ理工学部, 上級准教授 (00549298)
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| Project Period (FY) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| Keywords | 計算機システム / 設計技術 / 設計工学 / 製造容易化 / リソグラフィ |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本研究は，ウエハ上に微細な回路パタンを実現する次世代のリソグラフィ技術に着目し，特に次世代リソグラフィ技術として有望な2回露光技術，側壁プロセス技術に対する製造と設計の双方に親和性の高い物理設計技術を開発することで，次世代リソグラフィ技術のための実用的な設計フローを構築することを目的とし，実用に十分耐え得る設計技術を開発した．
側壁プロセス技術のための設計技術開発としては，側壁プロセスを2回施すSAQP(Self-Aligned Quadruple Patterning)の配線設計において，SAQP用グリッド上での折れ曲がり制約付配線問題に対する最短路アルゴリズムを開発し，そのアルゴリズムを複数ネットを実現するための引き剥がし再配線手法に組み込むことで，SAQP配線に対応した配線を効率よく生成できることを確認した．複数回露光のための設計技術として，2回露光を含む複数回露光のための設計技術として，半正定値計画法を用いたパターン分割手法，および，2回露光の後にカット工程を導入する場合のパターン分割手法を提案したが，さらにパターン分割の効率化のための後処理手法を提案し，その効果を確認した．マスク最適化技術開発としては，リソグラフィシミュレーションにおいて，光強度分布をマスクパターンの特徴を利用することで，計算時間をほとんど増大させることなく見積もり精度をさらに向上させることができ，パタンの形成の信頼性の向上へに寄与により，次世代リソグラフィにおいても効果を発揮することが期待される．また，EUVや自己組織化技術など他の次世代リソグラフィ技術の調査を行い，３次元構造を次世代リソグラフィ技術で実現するために，それら技術を適材適所で効果的に使うための設計技術開発が急務であることを確認した．
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| Research Progress Status |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Causes of Carryover |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Expenditure Plan for Carryover Budget |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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