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2013 Fiscal Year Annual Research Report

プラズマ微細加工におけるナノ揺らぎ制御に係わるプラズマ科学の創成

Research Project

Project/Area Number 25286080
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

Research InstitutionNagoya University

Principal Investigator

関根 誠  名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (80437087)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2016-03-31
Keywordsプラズマ化学 / 凹凸 / レジスト / プラズマビーム
Research Abstract

プラズマ微細加工におけるナノ揺らぎ制御に係わるプラズマ科学の創成を目指す上で、プラズマからのイオン・ラジカル・光のナノ揺らぎ発生に与える効果を解明することは重要である。そのため、これらのイオン・ラジカル・光を独立に制御して試料に照射できる反応性プラズマビーム装置を使った研究が有益である。この反応性プラズマビーム装置をもちいて試料を作製し、表面プローブ顕微鏡にてポリマー表面の凹凸形状の変化を観察してきた。さらに、試料として選んだポリマーの化学変化についてもX線光電子分光や赤外分光によって解析し、凹凸形状の変化過程が、どのように生じるのかについて解析した。
プラズマを発生させるガスを,新たにCl2 やHBr といったガスを使用し,ポリマーの凹凸形成過程にあたえるプラズマからのイオン・ラジカル・光の効果について解析を発展的に行うことができた.ポリマーの変質の起きる原因について、プラズマから入射されるイオン・ラジカル・光の個々の影響と相乗効果について調べることができ、凹凸周期に関してパワースペクトル密度解析をおこない、数100nmレベル以下の凹凸はイオン照射を元に発生していることがわかった。一方、100nmレベル以上の凹凸は光照射や熱などに起因する、機械的な応力発生を元に凹凸形成していることがわかった。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

1: Research has progressed more than it was originally planned.

Reason

発展的に未実施であったガスで発生させたプラズマとの相互作用についての研究について発展的に取り組むことができている。

Strategy for Future Research Activity

ポリマー変質の起きる原因を明らかにするため、定量的な解析を進めていく

Expenditure Plans for the Next FY Research Funding

本年度改造した装置を調整するための消耗品が発生することがわかったため、事前に調整の具合を確かめてから発注することにしたため
また、旅費として計上する
消耗品 200,000円
旅費  400,990円

  • Research Products

    (7 results)

All 2014 2013

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 3 results) Presentation (4 results) (of which Invited: 2 results)

  • [Journal Article] Development of the sputtering yields of ArF photoresist after the onset of argon ion bombardment2013

    • Author(s)
      Takuya Takeuchi, Carles Corbella, Simon Grosse-Kreul, Achim von Keudell, Kenji Ishikawa, Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Makoto Sekine, and Masaru Hori
    • Journal Title

      J. Appl. Phys.

      Volume: 103 Pages: 014306

    • DOI

      10.1063/1.4772996

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Surface roughness development on ArF-photoresist studied by beam-irradiation of CF4 plasma2013

    • Author(s)
      Takuya Takeuchi, Kenji Ishikawa, Yuichi Setsuhara, Hiroki Kondo, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori
    • Journal Title

      J. Phys. D: Appl. Phys.

      Volume: 46 Pages: 102001

    • DOI

      10.1088/0022-3727/46/10/102001

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] A novel fast and flexible technique of radical kinetic behavior investigation based on pallet for plasma evaluation structure and numerical analysis2013

    • Author(s)
      Arkadiusz Malinowski, Takuya Takeuchi, Shang Chen, Toshiya Suzuki, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Masaru Hori, Lidia Lukasiak, and Andrzej Jakubowski
    • Journal Title

      J. Phys. D: Appl. Phys.

      Volume: 46 Pages: 265201

    • DOI

      10.1088/0022-3727/46/26/265201

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Plasma Induced Surface Roughness of Polymeric Materials2014

    • Author(s)
      K. Ishikawa (Invited), T. Takeuchi, Y. Zhang, Y. Setsuhara, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    • Organizer
      18th Korea - Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics
    • Place of Presentation
      Fukuoka Japan
    • Year and Date
      20140207-20140208
    • Invited
  • [Presentation] Plasma nano-interface with organic materials for surface-roughness formation2014

    • Author(s)
      M. Sekine (Invited), Y. Zhang, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
    • Organizer
      The 9th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
    • Place of Presentation
      Bohinj Park ECO Hotel, Bohinjska Bistrica, Slovenia
    • Year and Date
      20140119-20140123
    • Invited
  • [Presentation] Plasma Induced Surface Roughness of ArF Photoresist Examined by Plasma-Beam Processes2013

    • Author(s)
      T. Takeuchi, Y. Zhang, K. Ishikawa, M. Sekine, Y. Setsuhara, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
    • Organizer
      AVS 60th International Symposium & Exhibition
    • Place of Presentation
      Long Beach, California, USA
    • Year and Date
      20131027-20131102
  • [Presentation] An Inhibition Mechanism for Surface Roughening of Photoresist During Plasma Etching Process with Plasma Cure2013

    • Author(s)
      Yan Zhang, Takuya Takeuchi, Hiroki Nagano, Kenji Ishikawa, Makoto Sekine, Keigo Takeda, Hiroki Kondo, Masaru Hori
    • Organizer
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      Kyoto Japan
    • Year and Date
      20130916-20130920

URL: 

Published: 2015-05-28  

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