2014 Fiscal Year Annual Research Report
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発
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25289106
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| Research Institution | University of Hyogo |
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Principal Investigator |
渡邊 健夫 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (70285336)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
原田 哲男 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (30451636)
木下 博雄 兵庫県立大学, 産学連携機構, 特任教授 (50285334)
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| Project Period (FY) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| Keywords | EUVリソグラフィ / レジスト / 高感度 / LWR |
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| Outline of Annual Research Achievements |
平成２６年度は、以下に示す５つの研究内容について研究を進めた。これらの研究内容についての研究実績を以下のとおり記載する。
１）感光性材料の探索： 酸発生剤のアニオン部にimidiate構造を有する酸発生剤の検討を進めてきた。この中で酸の拡散長を抑えるために、アニオン部に大きな構造を有する酸発生剤の設計を進め、この材料を合成することができた。
２）PAGについての酸の拡散長および酸の発生効率の測定： 各種酸発生剤について酸の拡散長および酸の発生効率についての測定系の開発を進めた。特にオープンフレームの露光系について、ニュースバルのBL3ビームラインに構築を進め、このハードに加えて自動露光が可能なソフトウェアの開発を進めた。
３）高感度レジスト基材の検討： 化学増幅系レジストを対象に、官能基の特性を向上させて高感度レジストの検討を進めた。
４）線幅バラツキ低減に向けたPAGの濃度分布測定用光電子分析装置の設計： 光電子顕微鏡の電磁レンズ設計において、高倍率で収差の少ないレンズを実現させるために、２段レンズを用いた収差補正方法の検討を進めた。
５）1X nm評価用EUV光による干渉露光系の開発： この装置では、透過型回折格子の開発が重要なキーテクノロジーである。そこで、平成２６年度では、12.5 nmのパタン形成が可能な透過型回折格子の制作を進め、制作の見通しを得ることができた。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
当初目標としていた、１）感光性材料の探索では、アニオン部に大きな構造を有する酸発生剤の設計を行った。２）PAGについての酸の拡散長および酸の発生効率の測定では、測定系を構築し、合わせて自動露光が可能な制御系ソフトウェアの作成を完了した。３）高感度レジスト基材の検討では、種類の異なった官能基の影響を調べることで、高感度化についての指針を得ることができた。また、４）線幅バラツキ低減に向けたPAGの濃度分布測定用光電子分析装置の設計では、高倍率での低収差レンズの設計を得ることができた。さらに、５）1X nm評価用EUV光による干渉露光系の開発では、12.5 nmのパタン形成が可能な透過型回折格子の制作を進め、制作の見通しを得ることができた。
以上に記述したように、４つの研究内容のそれぞれの研究成果を総合すると、おおむね順調に進展していると言える。
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| Strategy for Future Research Activity |
H27年度は最終年度である。この年度では、ニュースバルのBL9のアンジュレータビームラインに10 nmのEUVレジスト評価が可能なEUV光による干渉露光系の開発を進める。また、EUVレジストの評価が可能な軟X線吸収分光装置の構築を進める。これらの装置を用いて1X nm用のEUVレジスト開発を促進させる。
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[Journal Article] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement2014
Author(s)
Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino,Tsubasa Fukui, Daiju Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
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Journal Title
J. Photopolym. Sci. Technol.
Volume: 27
Pages: 631, 638
Peer Reviewed / Open Access / Acknowledgement Compliant
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[Presentation] EUV Resist Chemical Reaction Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement2014
Author(s)
Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Daiju Shiono, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino, TsubasaFukui, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada,and Hiroo Kinoshita
Organizer
The 31st International Conference of Photopolymer Science and Technology
Place of Presentation
San Jose, California, USA
Year and Date
2014-07-08 – 2014-07-11
