2015 Fiscal Year Annual Research Report
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発
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25289106
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| Research Institution | University of Hyogo |
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Principal Investigator |
渡邊 健夫 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (70285336)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
原田 哲男 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (30451636)
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| Project Period (FY) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| Keywords | 極端紫外線リソグラフィ / EUVレジスト / 非化学増幅系レジスト / 化学増幅系レジスト / 金属レジスト / 解像度 / 感度 / LWR |
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| Outline of Annual Research Achievements |
EUVレジスト開発では、高解像度、高感度、低LWR（line edge rougghness）、低アウトガスを同時に満足する必要があり、本研究では特に高解像、高感度、低LWRを目指して研究を進めてきた。
従来はニュースバル放射光施設のビームラインBL7Bの軟X線吸収分光ビームラインで化学増幅系レジストの反応解析を進めていたが、感光性材料である酸発生剤のアニオン部に含まれるフッ素の1sの吸収信号が弱く、このため十分な解析ができていないことが分かった。そこで、平成26年度にフッ素の1sの吸収が測定が可能になるように、ニュースバル放射光施設の汎用ビームラインBL10に軟X線用吸収分光系を整備した。その結果、平成27年度からはこの系を用いてフッ素1sの吸収が精度よく測定できるようになり、各種化学増幅系レジストおよび非化学増幅系レジストの反応解析を進めた。この結果、この測定系により、反応が分かっている非化学増幅系レジストの反応解析が十分にできることを明らかにした。さらに、化学増幅系EUVレジストの露光感度の向上では、EUV光による従来のイオン化反応に加えて、EUV光による酸発生剤のアニオン部の直接な分解反応が感度向上に有効であることを確認することができた。現在、EUV光による感度向上には金属レジストが有効であることが分かり、これらの反応が未だに解明されていないため、今後はこの測定系により反応解析を進め、EUVレジストのさらなる感度向上を目指す。
低LWRを実現するには、EUV光による均一に反応することが重要であり、このため酸発生剤やベースレジンの官能基等の均一な分布が要求される。そこで、光電子分光による元素分布分析の可能性の探索を進めた。
解像度向上には、解像度評価をするためにニュースバル放射光施設のビームラインBL9Bの干渉露光装置の高度化を進めた。
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| Research Progress Status |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Causes of Carryover |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Expenditure Plan for Carryover Budget |
27年度が最終年度であるため、記入しない。
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[Presentation] 微細加工用レジスト2015
Author(s)
渡邊健夫
Organizer
フォトポリマー講習会
Place of Presentation
東京理科大学森戸記念館（東京都新宿区）
Year and Date
2015-08-19 – 2015-08-20
Invited
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