2015 Fiscal Year Annual Research Report
人工ピンの分子ドーピングと結晶化制御による高機能超伝導薄膜ナノエンジニアリング
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25390054
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| Research Institution | Shizuoka University |
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Principal Investigator |
喜多 隆介 静岡大学, 工学部, 教授 (90303528)
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2013-04-01 – 2016-03-31
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| Keywords | 酸化物超伝導体 / 薄膜 / 臨界電流密度 / 混晶化 / 有機金属塗布法 / 液相 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
平成27年度は、酸化物超伝導体薄膜の電流輸送特製の高特性化を目指して、フッ素フリー有機金属塗布法(FF-MOD法）を用いて、引き続き希土類元素添加効果、26年度に得られた、希土類元素としてGdにHoを添加することに得られた特性向上に関する結果を基に、（Gd,Ho）BCOをベースに新たに希土類元素を追加した３元希土類混晶化効果、さらには厚膜化のために液相を用いた新規FF-MODプロセスについて検討を行った。希土類元素としてLaを3mol%添加した膜は、La添加前の膜と比べて約2.5倍のXRDピーク強度を示しGdBCO超伝導相の結晶化の促進に効果があることがわかった。また、薄膜組織の充填率の向上にも効果が見られた。Jc-B特性については、臨界電流密度が2MA/cm2以上となり、添加前と比べて２倍近く特性が向上した。また、(Gd,Ho,RE)３元混晶化膜としてRE=Sm とした(Gd,Ho,Sm)BCO では、臨界電流密度が(Gd,Ho)BCO と比較して自己磁場 JC および磁場中特性の改善がみられた。さらに、超伝導体膜の厚膜化を目指した新規プロセスとして、液相成長プロセスをMODプロセスと組み合わせた新規プロセスを検討し、予備的な結果ではあるが、臨界電流密度を維持したまま２倍以上の厚膜化に成功した。
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Research Products
(7 results)
