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2013 Fiscal Year Research-status Report

ロールナノインプリント法による金属ナノ構造転写技術の確立

Research Project

Project/Area Number 25420067
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Research InstitutionTokyo University of Science

Principal Investigator

谷口 淳  東京理科大学, 基礎工学部, 准教授 (40318225)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2016-03-31
Keywordsナノインプリント / ロールナノインプリント / 金属転写 / モスアイ構造 / ナノ配線 / 反射防止構造
Research Abstract

金属パターン転写方式として、マイクロコンタクト方式とナノインプリント方式の違いを調べた。マイクロコンタクト方式では、転写性が悪いのと解像度が悪いことがわかった。ナノインプリント方式では金型の凹部分、凸部分双方の金属パターンが転写されてしまい、配線やプラズモンパターンに必要な分離した構造が作製できない。そこで、ナノインプリント方式で、金型の上部の金属を取り、その後ナノインプリント方式で転写する方法を考案した。この方法であると、分離した金属パターンを高解像度で転写できることがわかった。この方式であれば、ロール転写化も可能となり、銀インクを用いた金属ロール転写方式も可能となる。また、グラッシーカーボンに酸素イオンビームを照射して表面を荒らし、反射防止構造(モスアイ構造)に関する転写方式も確認した。まずは、平面状のグラッシーカーボンをモスアイ形状に加工し、その後、光硬化樹脂でレプリカモールドを作製した。このレプリカモールドをロール金型に貼り付け、その後ロールトゥロール(RTR)で光硬化樹脂(UV-NIL)を用いて転写を行った。その結果、フィルム上にRTR-UV-NILによりモスアイ構造が転写でき、反射率も低減できた。この成果は、今後のモスアイ状の金属パターンを作製するうえで基礎となるものである。また、RTR-UV-NILの転写速度について調べたところ、光硬化樹脂の場合は、十分な紫外光照射がある状況では、18m/分の速度で転写が可能となった。このことより量産性に関しても成果が出てきている。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

ナノオーダーで分離された金属パターン転写を行うのは難しいが、当該年度において、新手法を完成させ、銀インクを用いてナノ分離構造の転写に成功した。
また、ロールナノインプリント方式に関して転写性、転写速度およびレプリカモールドを用いた転写方式に関して確立を行った。まずは光硬化樹脂で行ったが、フィルムへ銀インクなどを固定するには光硬化樹脂を用いるため、次年度で銀インクを用いれば、ロールによる金属転写も可能となる。
上記のように順調に進展している。

Strategy for Future Research Activity

今後の研究の推進方策としては、ロール状のグラッシーカーボンを用いて、RTR-UV-NILを行い転写性を確認する。
また、レプリカモールドを持ちいた金属転写方式も引き続き検討する。
また、出口側のデバイスを意識し、金属配線、プラズモンデバイス、メタマテリアルなどへ適用できる形状の転写に関しても調査する。

Expenditure Plans for the Next FY Research Funding

当初に計画していた物品費より安く済んだため。
H26年度の物品費と合わせて使用予定。

  • Research Products

    (3 results)

All 2013

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (1 results)

  • [Journal Article] Fabrication of self-supporting antireflection-structured film by UV-NIL2013

    • Author(s)
      Nurhafizah Binti Abu Talip[a]Yusof, Jun Taniguchi
    • Journal Title

      Microelectronic Engineering

      Volume: 110 Pages: 163-166

    • DOI

      10.1016/j.mee.2013.03.041

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Fabrication of high-aspect-ratio pattern via high throughput roll-to-roll2013

    • Author(s)
      Hiroshi Yoshikawa, Jun Taniguchi, Go Tazaki, Toshiyuki Zento
    • Journal Title

      Microelectronic Engineering

      Volume: 112 Pages: 273-277

    • DOI

      10.1016/j.mee.2013.03.117

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Fabrication of Plasmonic Color Filters by Nanoprint lithography using Silver Ink2013

    • Author(s)
      Ryuuichi Wakamatsu, Jun Taniguchi
    • Organizer
      39th International Conference on Micro and Nano Engineering
    • Place of Presentation
      London, UK
    • Year and Date
      20130916-20130919

URL: 

Published: 2015-05-28  

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