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2014 Fiscal Year Research-status Report

無機半導体を用いた新規高性能フレキシブル・フラットパネル・ディスプレイの開発

Research Project

Project/Area Number 25420314
Research InstitutionAkita University

Principal Investigator

佐藤 祐一  秋田大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70215862)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 齋藤 嘉一  秋田大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (10302259)
Project Period (FY) 2013-04-01 – 2017-03-31
Keywords半導体
Outline of Annual Research Achievements

当該年度は,発光源作製のために必要ないくつかの要素について研究を進めた。すなわち,発光層用の半導体材料であるⅢ族窒化物半導体薄膜が良質な状態で形成でき,かつキャリア注入を良好に行うことが可能であり,さらに発光源からの発光が外部へ効率良く放出されるような透明電極薄膜について検討を行った。一つはGaN系材料によるものであり,Geの高濃度ドーピングによりその抵抗率を十分に低下することができ,かつ広い波長範囲で透過率が高い状態を保つことができることを確認した。さらにこの材料においては結晶性も高く,その上に形成する窒化物半導体薄膜の結晶性へも良好な効果をもたらすことが期待できる。この他に,In2O3系材料についても検討を行い,スパッタリング法で結晶性および透過率が高い状態で抵抗率を低下するための作製条件の最適化を図った。
上記の電極材料の検討に加え,いくつかの非晶質基板の上に発光源を構成するための各種Ⅲ族窒化物半導体薄膜を形成し,それらの結晶性,光学的特性,および電気的特性などについて検討を行った。その結果,高度にc軸配向した窒化物薄膜がいずれの場合にも得られ,InGaN混晶においては相分離が生じていないものが得られることを確認した。また,不純物ドーピングによる発光強度の増大効果および抵抗率の制御について確認できた。p型不純物をドープした場合には,熱処理を行わなくとも単結晶の場合と同様にp型導電性を示すことを電気化学的C-V測定により確認した。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

発光源を構成するための電極材料の開発,非単結晶基板上での発光層としてのⅢ族窒化物半導体薄膜への不純物ドーピングによる電気的特性の制御,および不純物ドーピングによる発光特性の向上などについて各要素ごとに成果が得られてきている。

Strategy for Future Research Activity

発光源構成のための各要素の検討をさらに推し進めた後,発光源を構成し,その発光特性について最適化を図っていく。

Causes of Carryover

当該年度は各種電極材料の開発および非単結晶基板上での発光層としてのⅢ族窒化物半導体薄膜の諸特性について検討を行ったが,それらの組成分析や不純物分析,および高分解能結晶解析などについて行うことができなかった。主にそのための費用が次年度への繰り越しとなった。

Expenditure Plan for Carryover Budget

次年度は各薄膜の組成分析や不純物分析,および高分解能結晶解析などについて繰り越し分の費用を用いて実施する予定である。

  • Research Products

    (12 results)

All 2015 2014

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 3 results) Presentation (9 results)

  • [Journal Article] Effects of two-step heat treatment on properties of In2O3:Zr thin film epitaxially grown on c-face sapphire substrate2015

    • Author(s)
      Yuichi Sato, Tadahiko Aoshima, and Yuhei Muraki
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys.

      Volume: - Pages: -

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Growth of high-indium-content InGaN:Mg thin films by MBE method with dual RF nitrogen plasma cells2014

    • Author(s)
      Yuichi Sato, Tatsuya Matsunaga, Hiroki Takemoto, Yoshifumi Murakami, Yuhei Muraki, and Syota Ishizaki
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys.

      Volume: 53 Pages: 11RC04-1-5

    • DOI

      dx.doi.org/10.7567/JJAP.53.11RC04

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Properties of GaN-related Epitaxial Thin Films Grown on Sapphire Substrates as Transparent Conducting Electrodes2014

    • Author(s)
      Yuichi Sato and Tatsuya Matsunaga
    • Journal Title

      Materials Science Forum

      Volume: 783-786 Pages: 1652-1657

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/MSF.783-786.1652

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Properties of GaN and InGaN Thin Films Grown on Non-Single-Crystalline Substrates by MBE Using Single or Dual Nitrogen Plasma Cells2015

    • Author(s)
      YUICHI SATO, SYOTA ISHIZAKI, YOSHIFUMI MURAKAMI, MOHAMAD IDHAM, NUR AIN, YUHEI MURAKI , AND TATSUYA MATSUNAGA
    • Organizer
      ISPlasma2015
    • Place of Presentation
      名古屋大学
    • Year and Date
      2015-03-26 – 2015-03-31
  • [Presentation] Investigation on Sputter-Growths of In2O3 based Under-Electrodes on a Sapphire Substrate for Group-Ⅲ Nitride Solar Cells2015

    • Author(s)
      YUHEI MURAKI, SYOTA ISHIZAKI, YOSHIFUMI MURAKAMI, AND YUICHI SATO
    • Organizer
      ISPlasma2015
    • Place of Presentation
      名古屋大学
    • Year and Date
      2015-03-26 – 2015-03-31
  • [Presentation] 非単結晶基板上に成長したⅢ族窒化物半導体薄膜の結晶性および光学的特性2015

    • Author(s)
      石崎 翔太,村上 佳詞,松永 竜弥,モハマド イドハム,佐藤 祐一
    • Organizer
      2015年電子情報通信学会総合大会
    • Place of Presentation
      立命館大学
    • Year and Date
      2015-03-10 – 2015-03-13
  • [Presentation] 不純物をドープした非晶質基板上Ⅲ族窒化物半導体薄膜の電気的特性の評価2015

    • Author(s)
      村上 佳詞, 石崎 翔太, ヌル アイン, 村木 佑平, 佐藤 祐一
    • Organizer
      2015年電子情報通信学会総合大会
    • Place of Presentation
      立命館大学
    • Year and Date
      2015-03-10 – 2015-03-13
  • [Presentation] Ⅲ族窒化物薄膜太陽電池における透明下地層用In2O3系薄膜の低抵抗率化2015

    • Author(s)
      村木 佑平,石崎 翔太, 村上 佳詞, 畠山 穣, 佐藤 祐一
    • Organizer
      2015年電子情報通信学会総合大会
    • Place of Presentation
      立命館大学
    • Year and Date
      2015-03-10 – 2015-03-13
  • [Presentation] Two-Step Heat-Treatment Effects on Properties of In2O3 Based Transparent Conducting Thin Films Epitaxially Grown on Sapphire Substrate2014

    • Author(s)
      T. Aoshima, Y. Muraki, and Y. Sato
    • Organizer
      The 6th World Conf. on Photovoltaic Energy Conversion
    • Place of Presentation
      京都国際会館
    • Year and Date
      2014-11-23 – 2014-11-27
  • [Presentation] 非晶質基板上に作製したGaNおよびInGaN薄膜の結晶性および光学的特性2014

    • Author(s)
      石崎 翔太,村上 佳詞,松永 竜弥,モハマド イドハム,佐藤 祐一
    • Organizer
      平成26年度電気関係学会東北支部連合大会
    • Place of Presentation
      山形大学
    • Year and Date
      2014-08-21 – 2014-08-22
  • [Presentation] 非晶質基板上に作製したGaNおよびInGaN薄膜の電気的特性の評価2014

    • Author(s)
      村上 佳詞,石崎 翔太,松永 竜弥,ヌル アイン,佐藤 祐一
    • Organizer
      平成26年度電気関係学会東北支部連合大会
    • Place of Presentation
      山形大学
    • Year and Date
      2014-08-21 – 2014-08-22
  • [Presentation] サファイアおよび石英上ZrドープIn2O3薄膜のスパッタ成膜時の酸素分圧に対する諸特性の変化2014

    • Author(s)
      村木 佑平, 青島 忠彦, 畠山 穣, 佐藤 祐一
    • Organizer
      平成26年度電気関係学会東北支部連合大会
    • Place of Presentation
      山形大学
    • Year and Date
      2014-08-21 – 2014-08-22

URL: 

Published: 2016-05-27  

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