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2013 Fiscal Year Research-status Report

三次元ナノ構造を用いた電子・フォノンコヒーレンス操作による電気・熱伝導の独立制御

Research Project

Project/Area Number 25600016
Research Category

Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research

Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

中村 芳明  大阪大学, 基礎工学研究科, 准教授 (60345105)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2015-03-31
Keywordsナノドット / 熱電変換材料 / シリコン系材料 / MBE / ユビキタス元素
Research Abstract

本研究では、ナノツリー構造を作製し、ナノワイヤを波動伝搬パス、ナノドットを波長フィルタとして機能させることで、電気伝導率と熱伝導率を独立制御することを目的とする。具体的には、(1)ナノツリー構造の作製技術を開発する。次に、(2)本ナノ構造の電気伝導率、熱伝導率の測定し、高電気伝導率・低熱伝導率を実証することにある。
初年度、ナノワイヤー+ナノドットの形成技術を開発する予定であったが、次年度への物性測定に最初からナノワイヤを用いるのは困難である。そこで、まず、波動伝導パスとしてナノ薄膜を用いることを考えた。Siのナノ薄膜に対してナノドットを形成するのであるが、ナノドットとナノ薄膜の区別をはっきりさせるため、ナノドットにはGeを用いた。そこで、初年度では、Siナノ薄膜にフォノン散乱体として、Geナノドットをコヒーレントに形成した構造を形成することを第一の目的とした。その結果、極薄Si酸化膜を用いることで、Siナノ薄膜にコヒーレント結合したGeナノドット形成に成功した。また、電気伝導測定を行うためにドーピングを行う必要がある。まずは、イオン注入法でこれを試みた。その結果、ナノ構造を破壊せずに注入する条件を見出し、電気伝導特性を得ることに成功した。
次年度において、この技術を用いて、このナノ薄膜+ナノドット構造の電気特性・熱電特性を測定するが、本技術の開発により、本研究をスムーズに行えるものと予想できる。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

当初は伝導パスとしてナノワイヤ、フォノン散乱体としてナノドットを用いた構造を作製する技術を開発する予定であった。しかし、いきなり、ナノワイヤを形成すると、次年度における物性評価を困難にする恐れがある。本研究の目的は、キャリア伝導とフォノン伝導の低次元化による独立制御することが本来の目的であるため、そこで、時間を失うのは本質的ではない。そこで、ナノワイヤの代わりにナノ薄膜という低次元構造を用いることにした。その結果、Siナノ薄膜にGeナノドットをコヒーレントに形成する技術の開発に成功し、電気伝導測定が可能なドーピング条件も見出した。これらのより、おおむね順調に進展していると判断した。

Strategy for Future Research Activity

初年度にナノ薄膜にGeナノドットをコヒーレント連結した構造の形成技術を開発した。次年度には、この技術を用いて形成したナノ構造の熱電特性と電気伝導率を測定する。具体的な計画として、ナノドットサイズを変化させたときの熱伝導率変化、および電気伝導率変化を調べる。その際、あるサイズ領域では、電気伝導率の変化に比べ、熱伝導率を大きく制御できると期待できる。そのサイズ領域を見出すために、構造形成および、物性評価を行う。

Expenditure Plans for the Next FY Research Funding

当初、初年度では、ナノワイヤーを形成する予定であったが、ナノ薄膜に変更した。これは、次年度の電気特性評価を考えての上である。そのため若干の費用が浮いたが、次年度に、基板に垂直方向の電気特性の評価も行う。そのため、その浮いた若干の費用を用いて、試料の基板垂直方向の電気測定が可能な評価装置の立ち上げを行う予定である。
初年度は、ナノ薄膜+Geナノドットの形成技術開発に成功した。次年度では、熱伝導率と電気伝導率の測定を主に行う。ただ、その際に基板に垂直方向の電気特性が可能な装置の立ち上げを行う予定である。これは、コンダクティブAFMを用いることを考えており、それらの装置の立ち上げに、”次年度使用額”と当初請求していた次年度の研究費を合わせて使う予定である。

  • Research Products

    (18 results)

All 2014 2013

All Journal Article (4 results) (of which Peer Reviewed: 4 results) Presentation (14 results) (of which Invited: 3 results)

  • [Journal Article] Control of epitaxial growth of Fe-based nanocrystals on Si substrates using well-controlled nanometer-sized interface2014

    • Author(s)
      Yoshiaki Nakamura, Ryota Sugimoto, Takafumi Ishibe, Hideki Matsui, Jun Kikkawa,and Akira Sakai
    • Journal Title

      J. Appl. Phys.

      Volume: 115 Pages: 044301-1-5

    • DOI

      10.1063/1.4862642

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Luminescence properties of Si-capped b-FeSi2 nanodots epitaxially grown on Si(001) and (111) substrates2014

    • Author(s)
      Shogo Amari, Yoshiaki Nakamura, and Masakazu Ichikawa
    • Journal Title

      J. Appl. Phys.

      Volume: 115 Pages: 084306-1-5

    • DOI

      10.1063/1.4867037

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Characterization of Ge films on Si(001) substrates grown by nanocontact epitaxy2013

    • Author(s)
      Wataru Ikeda, Yoshiaki Nakamura, Shogo Okamoto, Shotaro Takeuchi, Jun Kikkawa, Masakazu Ichikawa, and Akira Sakai
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys

      Volume: 52 Pages: 095503-1-4

    • DOI

      10.7567/JJAP.52.095503

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Influence of nanometer-sized interface on reaction of iron nanocrystals epitaxially grown on silicon substrates with oxygen gas2013

    • Author(s)
      Hironobu Hamanaka, Yoshiaki Nakamura, Takafumi Ishibe, Jun Kikkawa, and Akira Sakai
    • Journal Title

      J. Appl. Phys.

      Volume: 114 Pages: 114309-1-5

    • DOI

      10.1063/1.4821770

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] エピタキシャルGeナノドットを有するSi熱電薄膜の電気特性評価2014

    • Author(s)
      山阪司祐人,中村芳明,上田智広,竹内正太郎,酒井明
    • Organizer
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      神奈川 青山学院
    • Year and Date
      20140319-20140319
  • [Presentation] エピタキシャルSiナノドット積層構造へのドーピング技術開発とその熱電特性2014

    • Author(s)
      上田智広,中村芳明,竹内正太郎,酒井朗
    • Organizer
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      神奈川 青山学院
    • Year and Date
      20140319-20140319
  • [Presentation] 極薄Si酸化膜技術を用いてエピタキシャル成長したSi基板上Fe3O4ナノドットの抵抗スイッチング特性2014

    • Author(s)
      松井秀紀,中村芳明,竹内正太郎,酒井朗
    • Organizer
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      神奈川 青山学院
    • Year and Date
      20140319-20140319
  • [Presentation] Anomalous reduction of thermal couductivity of stacked epitaxial Si nanodot structures2014

    • Author(s)
      Yoshiaki Nakamura and Akira Sakai
    • Organizer
      1st KANSAI Nanoscience and Nanotechnology International Symposium
    • Place of Presentation
      Osaka Senri Life Science Center
    • Year and Date
      20140204-20140204
    • Invited
  • [Presentation] Introduction of Ultrahigh Density Ge Nanodots into Si Films for Si Based Thermoelectric Materials2014

    • Author(s)
      Shuto Yamasaka, Yoshiaki Nakamura, Tomohiro, Ueda, Shotaro Takeuchi, and Akira Sakai
    • Organizer
      1st KANSAI Nanoscience and Nanotechnology International Symposium
    • Place of Presentation
      Osaka Senri Life Science Center
    • Year and Date
      20140203-20140203
  • [Presentation] ナノドットを用いたSi系熱電材料の開発2013

    • Author(s)
      中村芳明
    • Organizer
      CREST・さきがけ元素戦略領域合同 第1回公開シンポウジム
    • Place of Presentation
      東京都 東京国際フォーラム
    • Year and Date
      20131129-20131129
    • Invited
  • [Presentation] Formation of ultrahigh density Fe-based nanodots on Si substrates by controlling Ge nuclei on ultrathin SiO2 film2013

    • Author(s)
      R. Sugimoto, Y. Nakamura, H. Matsui, J. Kikkawa and A. Sakai
    • Organizer
      ACSIN-12 & ICSPM21
    • Place of Presentation
      Tsukuba Tsukuba International Congress Center
    • Year and Date
      20131105-20131105
  • [Presentation] Reduction effect of thermal conductivity by introduction of epitaxial Ge nanodots in Si2013

    • Author(s)
      Shuto Yamasaka, Yoshiaki Nakamura, Tomohiro Ueda, Shotaro Takeuchi, Akira Sakai
    • Organizer
      ACSIN-12 & ICSPM21
    • Place of Presentation
      Tsukuba Tsukuba International Congress Center
    • Year and Date
      20131105-20131105
  • [Presentation] Epitaxial growth of iron oxide nanodots on Si substrate and their electronic states2013

    • Author(s)
      Takafumi Ishibe, Yoshiaki Nakamura, Hideki Matsui, Shotaro Takeuchi, and Akira Sakai1
    • Organizer
      ACSIN-12 & ICSPM21
    • Place of Presentation
      Tsukuba Tsukuba International Congress Center
    • Year and Date
      20131105-20131105
  • [Presentation] ナノドットを用いたSi熱電材料の開発2013

    • Author(s)
      中村芳明
    • Organizer
      第22回シリサイド系半導体研究会
    • Place of Presentation
      京都 京都大学
    • Year and Date
      20130921-20130921
    • Invited
  • [Presentation] Si中エピタキシャルGeナノドット散乱体の熱伝導率低減効果2013

    • Author(s)
      山阪司祐人,中村芳明,上田智広,竹内正太郎,酒井朗
    • Organizer
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      京都府 同志社大学
    • Year and Date
      20130920-20130920
  • [Presentation] エピタキシャルSiナノドット積層構造の形成とその熱伝導率2013

    • Author(s)
      中村芳明,五十川雅之,上田智広,山阪司祐人,吉川純,池内賢朗,酒井朗
    • Organizer
      第十回日本熱電学会学術講演会
    • Place of Presentation
      名古屋市 名古屋大学
    • Year and Date
      20130909-20130909
  • [Presentation] Epitaxial growth of stacked -FeSi2 nanodots on Si substrates and their thermoelectric properties2013

    • Author(s)
      Masayuki Isogawa, Yoshiaki Nakamura, Jun Kikkawa, Shotaro Takeuchi and Akira Sakai
    • Organizer
      APAC-Silicide 2013
    • Place of Presentation
      Tsukuba Tsukuba University
    • Year and Date
      20130729-20130729
  • [Presentation] Introduction of Ge nanodots in Si films as phonon scatterers and the thermal conductivity reduction2013

    • Author(s)
      Shuto Yamasaka, Yoshiaki Nakamura, Tomohiro Ueda, S. Takeuchi, Y. Yamamoto, S. Arai, T. Tanji, N. Tanaka, and A. Sakai
    • Organizer
      The 32nd International Converence on Thermoelectrics (ICT2013)
    • Place of Presentation
      Kobe Kobe International Conference Center
    • Year and Date
      20130701-20130701

URL: 

Published: 2015-05-28  

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