2014 Fiscal Year Research-status Report
短パルスマルチバンチ電子ビームプレ励起によるBEUV光源の実現
| Project/Area Number |
25600143
|
|---|
| Research Institution | Waseda University |
|---|
Principal Investigator |
鷲尾 方一 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (70158608)
|
|---|
| Project Period (FY) |
2013-04-01 – 2016-03-31
|
| Keywords | 高性能加速器 / 電子ビームレーザー相互作用 / BEUV光源 / レーザープラズマ |
|---|
| Outline of Annual Research Achievements |
第2年度は、具体的な装置、システムの開発試験を実施した。特に、ターゲットに精度よく、制御された形で電子ビームを照射するための、マイクロ電子ビームの生成試験を実施し、金属ターゲットへの衝突実験を実施した。またレーザーについてもファイバーレーザーによる短パルス高繰り返しレーザーを実現し、実験準備に入ることができた。またCO２レーザーの蓄積キャビティーを作成しその性能評価を実施した。
電子ビームについては特にビームの極細化とビームスキャン技術、さらにバンチ長計測など、レーザーとのタイミングを精度よく実現するために必要な技術を作り上げた。この結果、ビームのサイズを約50マイクロメートルの状態で、数100マイクロメートルの範囲で安定にスキャンできるシステムの構築を行うことができた。またCO2レーザー蓄積においては、フィネス745、エンハンスメントファクター216、蓄積パワー2.3kWを達成することができた。
|
| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
3: Progress in research has been slightly delayed.
Reason
装置開発に思いのほか時間を要している。そのため、実際のターゲット金属上での電子、レーザー同時あるいは連続照射実験には至っていない。2015年度に何としても高輝度BEUV光源実現のための実測データを取得したいと考えている。
|
| Strategy for Future Research Activity |
電子ビームのサイズをとりあえず50マイクロメートルの状態で、高輝度レーザーとの同時あるいは連続照射を通じて、EUV光、BEUV光の計測へと進む。
|
| Causes of Carryover |
購入予定の消耗品の金額が当初の想定より安価となったため。
|
| Expenditure Plan for Carryover Budget |
前年度分を含めて、消耗品の調達に使用する予定である。
|
