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2015 Fiscal Year Research-status Report

半導体製造工程における統計的工程管理

Research Project

Project/Area Number 25750120
Research InstitutionNagoya Institute of Technology

Principal Investigator

川村 大伸  名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (50548261)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2017-03-31
Keywords統計的工程管理 / 管理図 / 実験計画法 / 過飽和計画 / ベイズ統計
Outline of Annual Research Achievements

伝統的な統計的工程管理では,少品種大量生産が想定されているため,半導体製造工程のような多品種少量生産が主である工程に適した管理方法が求められている.今年度は,少量生産に対応できる管理図の提案,および2水準過飽和計画の性能評価を行った.
少量生産に管理図を対応させるため,ベイズ統計を用いた逐次更新型のXbar管理図を提案した.工程平均や工程分散がそれぞれ既知あるいは未知の場合に分け,従来のXbar管理図との比較を行った.今回は無情報事前分布を仮定したため,大きなパフォーマンスの相違はなかったが,事前情報を活用できる点や,管理図設計前に事前データを集める必要がないことから,少量生産に対して有用な管理図を提案できたと考えている.
また,管理図にプロットするべき重要な管理特性を特定する方法として,2水準過飽和計画を用いたスクリーニング実験に着目した.様々な2水準過飽和計画が先行研究において提案されているが,どの計画をどのような場合に使用するべきなのかが明らかにされておらず,これが実務で活用する上での障壁となっている.そこで本研究では,D-最適性などの評価指標を用いて既存の計画を評価し,割付けたい因子数と実験回数の観点から好ましい計画を選択できるガイドラインを作成した.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

本年度は得られた研究成果を国際学会にて積極的に発表を行った.新しい管理図の開発ができ,過飽和計画に関してまとまった研究成果を得ることができたことから,おおむね順調に進展していると判断できる.

Strategy for Future Research Activity

次年度は最終年度に該当することから,多品種少量生産に適した管理図を精緻化したいと考えている.また,2水準過飽和計画の解析方法について研究を進める予定である.

  • Research Products

    (3 results)

All 2015

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Acknowledgement Compliant: 2 results) Presentation (1 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results)

  • [Journal Article] Multifaced Evaluation of Supersaturared Designs2015

    • Author(s)
      Tomohiro Nakajima, Hironobu Kawamura
    • Journal Title

      Proceedings of the thirteenth ANQ Congress

      Volume: 13 Pages: 1-12

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] A Xbar-chart Using the Bayesian Method for Monitoring High-Mix Low-Volume Production2015

    • Author(s)
      Yasunari Tsuruoka, Hironobu Kawamura
    • Journal Title

      Proceedings of the thirteenth ANQ Congress

      Volume: 13 Pages: 1-14

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] The Detection of Process Variation Synchronous within Wafer Variation Pattern2015

    • Author(s)
      Masanobu HIGASHIDE, Ken NISHINA, Hironobu KAWAMURA, Ryota SUGIURA
    • Organizer
      AEC/APC Symposium Asia 2015
    • Place of Presentation
      学術総合センター
    • Year and Date
      2015-11-11 – 2015-11-11
    • Int'l Joint Research

URL: 

Published: 2017-01-06  

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