2014 Fiscal Year Research-status Report
アルカリ現像液を不要とする水溶性極端紫外光レジスト材料によるグリーン微細加工技術
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25790036
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| Research Institution | Toyama Prefectural University |
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Principal Investigator |
竹井 敏 富山県立大学, 工学部, 准教授 (90580069)
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| Project Period (FY) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| Keywords | レジスト / 微細加工 / リソグラフィ / 植物の高度利用 / バイオマス / 水現像 / 水溶性 / デンプン |
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| Outline of Annual Research Achievements |
糖鎖化合物を波長13.5nmの極端紫外光の吸収係数とナノパターン加工性を損なうことなく、デンプンから酵素分解・抽出・精製・高分子側鎖の誘導化し、アルカリ現像液を使用しない水溶性環境配慮型極端紫外光レジスト材料の第二世代品を合成した。合成した複数のレジスト材料の膜分析の基礎評価と共に、一部で微細加工の先行評価を行った。
レジスト加工形状、水の水膨潤性、水現像特性、水の浸透速度、表面新疎水特性、極端紫外光による硬化性、及び膜収縮性に対する設計要素の依存性を明確化し、鍵となる要素因子の解明研究を開始した。微細加工特性(レジスト加工形状・解像性・現像特性・膜収縮性・密着・ぬれ性・機械的特性・硬化性等)の評価は、分光エリプソ、露光装置、電子顕微鏡、非接触光干渉式膜厚計、接触角計、ナノインデンター、及び粘弾性測定装置により測定を実施した。
得られた研究成果は学術論文3報、国際会議4件、及び講演会・展示会・新聞等5件にて公開した。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
1: Research has progressed more than it was originally planned.
Reason
糖鎖化合物を波長13.5nmの極端紫外光の吸収係数とナノパターン加工性を損なうことなく、デンプンから酵素分解・抽出・精製・高分子側鎖の誘導化し、アルカリ現像液を使用しない水溶性環境配慮型極端紫外光レジスト材料の第二世代品の合成法が確立できた。 得られた研究成果が定期的に発表でき、社会経済に貢献すべく本研究の産学官連携が実施中ため。
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| Strategy for Future Research Activity |
前年度の結果に基づき、主に原料合成と基礎物性について検討を行うと共に、その詳細な解析と極端紫外光による微細加工評価を行う。架橋密度に対するレジスト加工形状・解像性・加工精度・リワーク性の依存性に主眼を置き、グルコース骨格を主原料に用いたレジスト材料の極端紫外光による糖鎖化合物を、10nmオーダーのパターン加工性における適用可能性を明らかにする。
研究成果は国際論文誌、国内外学会、書籍、解説等で毎年2件以上発表する。
社会経済に迅速に貢献すべく、研究を加速されるため、新たな研究技術者の雇用資金の獲得を、産学官連携や競争的研究助成の採択により進める。
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| Causes of Carryover |
大学業務のため、予定していた国際会議への参加ができなかったため、旅費を中心として残金が生じたため。
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| Expenditure Plan for Carryover Budget |
次年度の国際会議への発表等旅費に使用する予定である。
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