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2014 Fiscal Year Annual Research Report

アキラルな分子群をプローブとするNMRキラルセンシングの機構解明と応用

Research Project

Project/Area Number 25810055
Research InstitutionNational Institute for Materials Science

Principal Investigator

石原 伸輔  独立行政法人物質・材料研究機構, その他部局等, 研究員 (30644067)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2015-03-31
Keywordsキラル / NMR / 不斉認識 / 分子認識 / ポルフィリン
Outline of Annual Research Achievements

アミノ酸、DNA、生理活性物質などの生体分子の多くは不斉炭素を有するキラル化合物であり、生体への活性が鏡像異性体(エナンチオマー)の間で異なることが多い。このため、医薬品などの合成過程において、キラリティーおよびキラル純度を決定するためのキラル認識技術は極めて重要である。本研究では、近年我々の研究グループが見出したアキラルな分子と核磁気共鳴分光法(NMR)のみを用いた新しいキラルセンシング現象のメカニズムを解明することを第一の目的とする。従来型のアキラルなプローブ分子は、キラルな分子と1:2の錯体を形成するため、溶液系中にジアステレオマー(S+S, S+R, R+R)が混在することになり、キラルセンシングのメカニズムの解釈が困難であった。これを打開するため、本研究では、キラルなゲスト分子と1:1の錯体を形成しながらもNMRキラルセンシングが可能なホスト分子群を探索し、機構解明を行った。その結果、前年度には、アキラルなオキソポルフィリノーゲン誘導体を用いて、キラルな分子と1:1の錯体を形成しながら、NMRキラルセンシングを可能とするとともに、そのメカニズムについても明らかとした(Nature Communications 2013, 4, 2188)。キラルセンシングのメカニズムは、キラル分子がホスト分子のプロキラルな水素原子へ引き起こす磁気異方性効果および、NMRタイムスケールよりも早い錯体形成の交換による磁気異方性効果の平均化であることが明らかとなった。本年度ではプロキラルな水素原子を有するいくつかの化合物について、NMRキラルセンシングプローブとしての可能性を探索した。その結果、これまで我々が報告していたポルフィリンやオキソポルフィリノーゲンなどの環状分子以外のプロキラルな分子に関しても、NMRキラルセンシングに応用できることを見出した。

  • Research Products

    (2 results)

All 2014

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results,  Acknowledgement Compliant: 1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Porphyrin-based sensor nanoarchitectonics in diverse physical detection modes2014

    • Author(s)
      Shinsuke Ishihara, Jan Labuta, Wim Van Rossom, Daisuke Ishikawa, Kosuke Minami, Jonathan P. Hill, Katsuhiko Ariga
    • Journal Title

      Physical Chemistry Chemical Physics

      Volume: 16 Pages: 9713-9746

    • DOI

      10.1039/c3cp55431g

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Patent(Industrial Property Rights)] NMR用キラルシフト剤、および、それを用いた光学純度を決定する方法2014

    • Inventor(s)
      ヒルジョナサンピー/石原伸輔/ラブタヤン/春藤淳臣/有賀克彦
    • Industrial Property Rights Holder
      独 物質・材料研究機構
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願 2014-203915
    • Filing Date
      2014-10-02

URL: 

Published: 2016-06-01  

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