強磁性体/超伝導体接合におけるアンドレーエフ反射およびスピン緩和に関する研究

2014 Fiscal Year Research-status Report

• Project/Area Number: 25820150
• Research Institution: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
• Principal Investigator: 柏谷 裕美 独立行政法人産業技術総合研究所, 計測フロンティア研究部門, 主任研究員 (60443181)
• Project Period (FY): 2013-04-01 – 2017-03-31
• Keywords: トンネル接合

Outline of Annual Research Achievements

産前産後の休暇および育児休業の取得に伴い研究を中断（平成25年12月19日～平成27年3月31日）。

Current Status of Research Progress

4: Progress in research has been delayed.

Reason

産休・育児休暇を取得し、研究を中断したため、遅れています。

Strategy for Future Research Activity

研究中断までに、今後強磁性体(F)/絶縁体(I)/超伝導体(S)接合を作製する場合に同じプロセスが利用できる、常伝導体（N)/絶縁体(I)/超伝導体（S)トンネル接合を作製した。今後は、開発したプロセスを使用してF/I/S接合を作製し、コンダクタンスの測定を行うことにより冷却効果を見積り、電極として強磁性体を用いた場合の検証を行う。

Causes of Carryover

産前産後の休暇および育児休暇取得による研究中断のため、昨年度使用予定であった予算を繰り越します。

Expenditure Plan for Carryover Budget

強磁性体/超伝導体接合の作製および測定、学会発表などに使用予定。