2015 Fiscal Year Research-status Report
含ケイ素デヒドロアヌレン類の構築とその芳香族性・反芳香族性
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26410044
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| Research Institution | Kyoto University |
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Principal Investigator |
水畑 吉行 京都大学, 化学研究所, 助教 (30437264)
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2014-04-01 – 2017-03-31
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| Keywords | ケイ素 / 芳香族性 / 反芳香族性 / デヒドロアヌレン |
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| Outline of Annual Research Achievements |
これまでに目的分子である含ケイ素デヒドロアヌレンの基本部分構造となる環状シス型ジシレン（ケイ素間二重結合化合物）の構築を指向して種々の検討を行った。まず、ジシレン部位の構築法としてジハロシランの還元を用いることとし、二つのジクロロシランがエチニルを介して架橋された分子の還元を行った。その結果、ケイ素上に修飾可能な水素置換基を有する含ジシラン10員環の合成・単離に成功し、その構造・性質を明らかにした。当該化合物はシス型・トランス型が生成し、それぞれを単離、X線結晶構造解析に成功した。またその電子状態を理論計算の手法を用いて検証したところ、10員環全体に広がった軌道が見出され、本骨格が効果的なπ電子系拡張に有効であることがわかった。
また別のジシレン構築法として、トリシランからの光反応によるジシラン脱離法も検討した。前駆体となる二つのトリシラン部位がエチニルを介して架橋された分子を合成し、その光反応を行った。その結果、期待に反して、ジシランの脱離ではなく、エチニルシランの脱離反応が進行し、目的とするジシレンには至らないことが判明した。一方、エチニルシランの脱離によって発生するケイ素二価化学種シリレンの発生はヒドロシランによる捕捉反応によって確認し、その一次捕捉体が反応条件下再度ジシラン脱離を受け、ヒドロシリレンが比較的高効率で発生することを見出した。ヒドロシリレンは最も単純な置換基である水素原子を持つことから重要なケイ素活性種であるが、その発生手法は限られている。本手法はそれに対して新たな方法を提示したと言える。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
3: Progress in research has been slightly delayed.
Reason
骨格合成の際に、エチニルシランに対し種々の分子変換を行うと、エチニル部分の脱離や還元等、副反応を避けることが困難であり、エチニル部分の保護等さらなる検討が必要である。
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| Strategy for Future Research Activity |
エチニル（もしくはその保護体）の基本構造を保持したまま、骨格構築を可能にする系を探索する。
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