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2015 Fiscal Year Research-status Report

高分子ブラシによる表面改質を利用した非最密充填コロイド粒子膜の創製とその構造制御

Research Project

Project/Area Number 26420767
Research InstitutionSaga University

Principal Investigator

森貞 真太郎  佐賀大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (60401569)

Project Period (FY) 2014-04-01 – 2017-03-31
Keywords粒子膜 / 自己集積プロセス / 高分子電解質 / 高分子ブラシ / シリカ粒子
Outline of Annual Research Achievements

本研究では,高分子ブラシによる表面改質を施したシリカ粒子を作製し,得られた粒子を移流集積法に適用することで,粒子間に間隔の空いた規則配列(非最密充填構造と呼ぶ)を有する粒子膜を作製することを目的としている.平成27年度に得られた研究結果は以下の通りである.
1.前年度に作製したpoly(3-acrylamidopropyl trimethylammonium chloride)修飾シリカ粒子(PAPTAC-Si)とpoly(vinylbenzyl trimethylammonium chloride)修飾シリカ粒子(PVBTA-Si)を移流集積法に適用し,粒子膜の作製を試みた.PAPTAC-Siを用いた場合,用いる分散液の粒子体積分率粒子が高くなるにつれ,粒子が凝集した構造をとるようになり,さらに体積分率が高くなると数珠状の粒子凝集体が一面に広がった構造の粒子膜が得られた.これは,粒子間に働く横毛管力が,表面修飾されたPAPTACに由来する静電斥力と立体斥力を上回ったために,粒子の凝集が起きたのだと考えられる.一方,PVBTA-Siを用いた移流集積法の馬場合,適切な粒子体積分率の分散液を用いることで非最密充填構造の粒子膜を得ることに成功した.これより,PVBTAに由来する静電斥力と立体斥力は,粒子間に働く横毛管力よりも強く,粒子同士の凝集を防ぐことができたのだと考えられる.また,PVBTAはベンゼン環を有することから,PAPTACよりも剛直な高分子電荷質だと推測される.従って,PVBTAはシリカ粒子表面から外部に向けて伸びた状態で存在するため,粒子の凝集を防ぐことができたのではないかと考えられる.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

移流集積法による非最密充填構造を有する粒子膜の作製に適した高分子を見つけることができたため,当初の予定通り,粒子膜構造の規則性の向上や,高分子ブラシ長の制御による粒子間隔の制御といった実験に取り組むことができるため.

Strategy for Future Research Activity

平成27年度までに,PVBTA-Siを用いた移流集積法による非最密充填構造の粒子膜の作製には成功している.そこで,平成28年度は以下の研究を実施する予定である.
1.粒子配列の規則性の向上を目指し,粒子膜作製の条件(温度,粒子体積分率,pH,イオン強度など)を変えることで,得られる粒子膜構造に及ぼす影響について検討を行う.
2.原子移動ラジカル重合(Atom Transfer Radical Polymerization, ATRP)法により,表面に修飾する高分子鎖長と修飾密度の制御を試みる.ATRP法によるシリカ粒子への高分子ブラシの導入に関する研究はこれまでいくつか報告されていることから,PVBTAに適したATRP法を用いて高分子ブラシ修飾シリカ粒子を作製し,移流集積法による粒子膜作製に適用する.用いたシリカ粒子の高分子ブラシ鎖長および修飾密度と得られた粒子膜の粒子間距離の相関
を検討することで,非最密充填コロイド粒子膜の構造制御の実現を目指す.

Causes of Carryover

次年度使用額は10万程度であり,ほぼ予定通りの予算使用状況だと考える.

Expenditure Plan for Carryover Budget

生じた次年度使用額は実験試薬として使用する予定である.

  • Research Products

    (9 results)

All 2015

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results,  Acknowledgement Compliant: 1 results) Presentation (8 results) (of which Int'l Joint Research: 5 results)

  • [Journal Article] Fabrication of non-close-packed colloidal monolayers by convective self-assembly using cationic polyelectrolyte-grafted silica particles2015

    • Author(s)
      Shintaro Morisada, Shoko Kojima, Takahiro Sumi, Hidetaka Kawakita, Keisuke Ohto
    • Journal Title

      Colloid and Polymer Science

      Volume: 293 Pages: 2985-2993

    • DOI

      10.1007/s00396-015-3706-5

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] Fabricatoin of Colloidal Layers through Convective Self-Assembly Using Cationic or Anionic Polyelectrolyte-Grafted Silica Particles2015

    • Author(s)
      Takahiro Sumi, Hidetaka Kawakita, Keisuke Ohto, and Shintaro Morisada
    • Organizer
      The 6th Saga University-Liaoning University Joint Seminar
    • Place of Presentation
      佐賀大学
    • Year and Date
      2015-12-10
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Colloidal Layer Fabrication by Convective Self-Assembly Using Polyelectrolyte-Grafted Silica Particles2015

    • Author(s)
      Takahiro Sumi, Hidetaka Kawakita, Keisuke Ohto, and Shintaro Morisada
    • Organizer
      2015 Taiwan/Korea/Japan Joint Meeting on Chemical Engineering
    • Place of Presentation
      Kaohsiung, Taiwan
    • Year and Date
      2015-11-06
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 高分子電解質修飾シリカ粒子を用いた移流集積法による単粒子膜の作製2015

    • Author(s)
      角 崇弘,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
    • Organizer
      化学工学会第47回秋季大会
    • Place of Presentation
      北海道大学
    • Year and Date
      2015-09-10
  • [Presentation] Effect of Substrate Surface Charge on Colloidal Layers Prepared by Convective Self-Assembly Process2015

    • Author(s)
      Takahiro Sumi, Hidetaka Kawakita, Keisuke Ohto, and Shintaro Morisada
    • Organizer
      3rd International Symposium on Host Compounds for Separation and Functionality in Saga
    • Place of Presentation
      佐賀大学
    • Year and Date
      2015-07-19
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 高分子電解質修飾シリカ粒子を用いた粒子膜作製における基板電荷の影響2015

    • Author(s)
      角 崇弘,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
    • Organizer
      第26回九州地区若手ケミカルエンジニア討論会
    • Place of Presentation
      伊万里グランドホテル
    • Year and Date
      2015-07-17
  • [Presentation] 高分子修飾シリカ粒子を用いた単粒子膜の作製と膜構造に対する基板電荷の影響2015

    • Author(s)
      角 崇弘,牟田諭司,川喜田英孝,大渡啓介,森貞真太郎
    • Organizer
      第52回化学関連支部合同九州大会
    • Place of Presentation
      北九州国際会議場
    • Year and Date
      2015-06-27
  • [Presentation] Non-Close-Packed 2D Colloidal Array Prepared by Using Polymer-Grafted Silica Particles2015

    • Author(s)
      Shintaro Morisada, Shoko Kojima, Takahiro Sumi, Hidetaka Kawakita, and Keisuke Ohto
    • Organizer
      The 5th International Colloids Conference 2015
    • Place of Presentation
      Amsterdam, the Netherlands
    • Year and Date
      2015-06-22
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Preparation of Non-Close-Packed Colloidal Array by Convective Self-Assembly Using Polymer-Grafted Silica Particles2015

    • Author(s)
      Shintaro Morisada, Shoko Kojima, Satoshi Muta, Hidetaka Kawakita, and Keisuke Ohto
    • Organizer
      The 15th Conference of the International Association of Colloid and Interface Scientists (IACIS 2015)
    • Place of Presentation
      Mainz, Germany
    • Year and Date
      2015-05-29
    • Int'l Joint Research

URL: 

Published: 2017-01-06  

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