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2015 Fiscal Year Research-status Report

小型MeVマイクロビーム装置用省電力、低エネルギー及び高輝度イオン源に関する研究

Research Project

Project/Area Number 26420878
Research InstitutionJapan Atomic Energy Agency

Principal Investigator

石井 保行  国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門 高崎量子応用研究所 放射線高度利用施設部, 研究主幹 (00343905)

Project Period (FY) 2014-04-01 – 2017-03-31
Keywords電磁石型PIGイオン源
Outline of Annual Research Achievements

本研究では、我々が開発しているMeV領域の小型イオンマイクロビーム装置への搭載を目指したイオン源を開発している。このイオン源は高電圧部に設置し、しかもレンズ系に適したイオンビームを発生するため、省電力ながら高輝度、且つ低エネルギーのビームの発生を必要とする。これに適したイオン源として最終年度で永久磁石型PIGイオン源の開発を目指している。今年度はこのイオン源の開発のための基礎データを得るため、前年度に製作した電磁石型PIGイオン源を用いて以下に示す水素イオンビームの発生実験を行い、基礎データを蓄積した。
電磁石型PIGイオン源は小さなプラズマ発生部に強い磁場を発生させて、高密度プラズマの生成を目指している。そこで、はじめに電磁石の磁場を測定し、ほぼ設計に近い磁場強度を発生できることが分かった。次に、プラズマの発生及びイオンビームの引き出し実験を行い、プラズマは磁場強度0.2T、放電電圧500V及び真空度1×10-3torr程度で点灯することが分かった。しかし、ビーム電流は1μA程度と少なかったため、放電電圧、磁場強度及び真空度をそれぞれ変数とし、これらの相関を取った。更に、プラズマ発生部を小さくして、磁場強度を上げてイオンと電子の衝突を増やす改良を行った結果、ビーム電流はほぼ目標の10μA程度を発生した。この後、発生したビーム電流のイオン種の分析を行った結果、プロトンビームの発生割合が他の水素分子イオン(H2+とH3+)ビームの10%程度であることが分かった。このプロトン比の改善及びもう一つのイオン源の特性であるビーム輝度の測定は次年度の課題とした。また、本イオン源の消費電力は、20W以下で、このうち電磁石が主な電力消費源で、15W程度であった。これを勘案すると次年度に開発する永久磁石型PIGイオン源では、消費電力は数ワットとなり、これは目標を満たす値であった。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

H27年度では電磁石型PIGイオン源により多くのビーム発生実験を行い、最終年度に開発する永久磁石型PIGイオン源を設計するための多くの基礎データを取得できた。一方、イオン源で発生するビーム電流を増やすことに時間を割いたため、プロトン比の改善、ビーム輝度の測定及び永久磁石型PIGイオン源の設計・製作には至らず、次年度で実施することとなった。しかし、これらは次年度早々に実施できる予定であり、十分遅れを挽回できると考え得られるため、おおむね順調に進展しているとした。

Strategy for Future Research Activity

H28年度は、H27年度に課題となったプロトン比の改善やビーム輝度の測定実験を行った後、永久磁石型イオン源を設計・製作し、このイオン源でのイオンビーム発生実験を行う。

Causes of Carryover

H27年度に永久磁石型PIGイオン源を製作する予定であったが、これをH28年度に製作することとしたため、このイオン源の製作費を次年度に繰り越した。

Expenditure Plan for Carryover Budget

H28年度に永久磁石型PIGイオン源を製作し、H28年度に繰り越した金額を使用する。このためH28年度に交付額の全額を支出する予定である。

  • Research Products

    (3 results)

All 2016 2015

All Presentation (3 results)

  • [Presentation] 数100keV 小型イオンマイクロビーム装置で形成されたビーム径の縮小化(II)2016

    • Author(s)
      石井保行、大久保猛
    • Organizer
      2016 年(平成27 年) 第63 回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      東京工業大学 大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • Year and Date
      2016-03-20
  • [Presentation] 数百keV 級イオンマイクロビームシステムにおけるビーム径の縮小2016

    • Author(s)
      石井保行、大久保猛
    • Organizer
      第3 回プロトンビームライティングとその応用に関するシンポジウム
    • Place of Presentation
      芝浦工業大学 豊洲キャンパス(東京都江東区)
    • Year and Date
      2016-02-24
  • [Presentation] 数百keV 小型イオンマイクロビーム装置でのビームサイズの縮小2015

    • Author(s)
      石井保行、大久保猛
    • Organizer
      第31 回PIXE シンポジウム
    • Place of Presentation
      国立研究開発法人 日本原子力研究開発機構 高崎量子応用研究所(群馬県高崎市)
    • Year and Date
      2015-10-08

URL: 

Published: 2017-01-06  

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