2016 Fiscal Year Annual Research Report
Development of Compact Deep-UV Laser Based on Wavelength Converter Integrated with Blue Laser Light Sources
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26600082
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
片山 竜二 大阪大学, 工学研究科, 教授 (40343115)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
横山 弘之 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 教授 (60344727)
窪谷 茂幸 東北大学, 金属材料研究所, 助教 (70583615)
谷川 智之 東北大学, 金属材料研究所, 講師 (90633537)
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| Project Period (FY) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| Keywords | 非線形光学 / 第二高調波発生 / 窒化アルミニウム / 酸化ジルコニウム / パルスレーザ堆積 / 反応性スパッタリング / 光導波路 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本年度から研究代表者は大阪大学工学研究科に異動となったため、本研究で用いる主要成膜装置である、パルスレーザ堆積装置ならびに反応性スパッタリング装置の移設と実験環境整備をまず行った。上記成膜装置の移設は完了し、目的とする光導波路を構成する積層構造の作製が可能となった一方で、実験計画にて使用を検討していたチタンサファイアレーザやNd:YAGレーザといった光源については前年度まで所属していた研究室に残したため、この代わりに共用設備である大阪大学工学研究科ウルトラクリーンルーム内に設置のパルスOPO光源（本学リノベーションセンタが管理）を用いた実験へと計画変更を行い、これに伴い新たに必要となった光導波路への光学結合に用いる光学系の準備を行った。また特に、これまで保有していなかった電子線描画装置・反応性イオンエッチングなどのリソグラフィー設備、およびダイス・光学研磨器といった素子加工設備を活用し、光学デバイス作製の技術開発を進めた。加えて、前年度までは４層スラブ光導波路として扱い設計していたのに対して、今年度は有限要素法によるフルベクトル電磁界解析を用いたチャネル・リブ光導波路の設計も行い、設計精度を向上させることができた。今後はこれらの成果と、前年度までに確立したパルスレーザ堆積法によるAlN薄膜の成膜技術、反応性スパッタリング法を用いたZrOx薄膜の成膜技術を組み合わせることで、目的の結果が得られると期待できる。
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[Journal Article] Nanometer scale fabrication and optical response of InGaN/GaN quantum disks2016
Author(s)
Yi-Chun Lai, Akio Higo, Takayuki Kiba, Cedric Thomas, Shula Chen, Chang Yong Lee, Tomoyuki Tanikawa, Shigeyuki Kuboya, Ryuji Katayama, Kanako Shojiki, Junichi Takayama, Ichiro Yamashita, Akihiro Murayama, Gou-Chung Chi, Peichen Yu, Seiji Samukawa
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Journal Title
Nanotechnology
Volume: 27 (42)
Pages: 425401-1-5
DOI
Peer Reviewed / Int'l Joint Research
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