積層薄膜構造導入による超伝導加速管性能の飛躍的向上

2014 Fiscal Year Research-status Report

• Project/Area Number: 26600142
• Research Institution: Kyoto University
• Principal Investigator: 岩下 芳久 京都大学, 化学研究所, 准教授 (00144387)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 佐伯 学行 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, その他部局等, 講師 (70282506)
• Project Period (FY): 2014-04-01 – 2017-03-31
• Keywords: 超伝導 / 薄膜 / 高周波 / 積層薄膜 / 超伝導加速管

Outline of Annual Research Achievements

今年度の目標は超伝導積層薄膜構造を有する試料の作成及び磁束侵入開始磁場の測定技術の習得であった。試料の作成に関しては、当初自前の蒸着装置を用いて製作することもも検討していたが、薄膜製作時のパラメータ抽出に必要な所要期間の節約を勘案して、外注による製作の打診も行った。最終的に薄膜作製の専門家の協力を得られることになり、既に数枚のシリコンウェーハ―にNbを蒸着したサンプルの入手が出来ている。現在、この薄膜作製の現場のフィードバックを行うべく、得られた薄膜の直流超伝導特性を測る事を検討しているところである。
磁束侵入開始磁場の測定技術の習得に関しては、第３高調波誘導法による超伝導薄膜の特性測定を既に実施しているフランスのサックレー研究所及び、オルセー研究所に視察に行き、装置の見学をさせて貰い、組立に関する知見を得た。その際に先方で製作したサンプルの一部もC. Z. Antoine博士から譲り受けることが出来た。現在その組成などを分析中である。

Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

資料の作成に関してはサンプルの一部もC. Z. Antoine博士から譲り受けることが出来、また更には、新しいサンプル作成に向けて薄膜作成の専門家との議論が進んで協力が得られることになり、サンプル作成に目処がついている。
測定法に関して実際に測定を実施している現場の視察により、装置の配置などが判り、こちらでの装置構築にむけて具現化が可能となった。

Strategy for Future Research Activity

入手した試作サンプルの超伝導特性をまず直流で測るべく関係者と議論を行う。
第３高調波誘導法による超伝導薄膜の特性測定に向けて装置構築をすすめる。

Causes of Carryover

当初、国際会議に出席する予定であったが、ちょうど大学院の院入試と時期が重なり、参加を断念したため、旅費と参加費の計上を見送った。
また、薄膜試料作成やその測定に関して、多方面と議論を重ねるのに時間が必要であったため、経費の先送りを決定した。時間を掛けた結果、薄膜作成の専門家の協力を得ることに成功し、順調な薄膜試料作りの目処が立った。

Expenditure Plan for Carryover Budget

旅費に関しては、Ｈ２７年度の国際会議（SRF2015, TRIUMF）参加旅費に回すことにした。
薄膜試料製作のための材料購入や、治具製作の費用に充てる予定である。