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2015 Fiscal Year Annual Research Report

光駆動型精密ラジカル重合を組み込んだ光硬化制御と機能性表面の創出

Research Project

Project/Area Number 26620107
Research InstitutionWaseda University

Principal Investigator

須賀 健雄  早稲田大学, 高等研究所, 助教 (10409659)

Project Period (FY) 2014-04-01 – 2016-03-31
Keywords精密重合 / 光硬化 / ラジカル重合 / ミクロ相分離 / ブロック共重合体 / ドーマント / 傾斜構造 / 有機触媒
Outline of Annual Research Achievements

本課題では、簡便かつ迅速なUV硬化反応に敢えて「光駆動型」の精密ラジカル重合機構を組み込むことで、時間軸を制御し、硬化膜の表面ナノ凹凸構造の付与、および内部にブロック共重合体のミクロ相分離に代表されるナノ構造を同時(その場)形成することで新たな機能性コーティングとしての展開を目的としている。
本研究では光学フィルム等への展開を意識して、金属触媒の残存ないヨウ素移動型の精密ラジカル重合に着目した。有機触媒存在下、光照射で重合を開始・制御できるC-I末端を持ち、かつ取り扱いやすい化学安定性を持つ高分子ドーマントの開発に成功した。得られた高分子ドーマントを第二モノマーに溶解し、架橋剤を加えUV硬化させると透明な硬化膜を与えた。一方、C-I末端を持たない高分子を添加し従来法でUV硬化すると、数~数十ミクロンのマクロ相分離に留まり白濁する。断面の原子間力顕微鏡(AFM)像、3次元透過電子顕微鏡(TEM)像からは、数~数十nmのドメインサイズで膜の深部に向かって徐々に大きくなるユニークな共連続傾斜ミクロ相分離構造の形成を明らかにした。またエポキシ側鎖を持つ高分子ドーマントを適用などナノ構造形成したドメインのポスト機能化も見出している。本手法は、熱駆動のRAFT重合などと比べ形成時間の速さ(数秒で硬化と同時に相分離形成)や着色フリーなどの優位性を持ち、リソグラフィー技術との組合せなどパターニングも容易で、各種光学フィルム、コーティング、多孔分離膜など幅広い展開が期待できる。

  • Research Products

    (10 results)

All 2016 2015

All Presentation (8 results) (of which Int'l Joint Research: 4 results,  Invited: 1 results) Patent(Industrial Property Rights) (2 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Presentation] Unique Gradient Nanostructure Formation in Photo-Cured Coatings via Photo-Driven Controlled Radical Polymerization2016

    • Author(s)
      T. Suga, H. Nishide
    • Organizer
      251st American Chemical Society National Meeting & Exposition (ACS Spring 2016)
    • Place of Presentation
      San Diego
    • Year and Date
      2016-03-13 – 2016-03-17
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Gradient Nanodomain Formation in Controlled Photo-curing toward Hybrid Materials2015

    • Author(s)
      T. Suga, K. Minamibayashi, H. Nishide
    • Organizer
      14th Pacific Polymer Conference (PPC2015)
    • Place of Presentation
      Kauai
    • Year and Date
      2015-12-09 – 2015-12-13
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Photo-cured Network Polymer with Graded Nano-structures via Photo-driven Controlled Radical Polymerization2015

    • Author(s)
      K. Minamibayashi, T. Suga, H. Nishide
    • Organizer
      14th Pacific Polymer Conference
    • Place of Presentation
      Kauai
    • Year and Date
      2015-12-09 – 2015-12-13
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Gradient Nanodomain Formation in Photo-cured Coatings via Photo-driven Controlled Radical Polymerization2015

    • Author(s)
      T. Suga, K. Minamibayashi, K. Katayama, H. Nishide
    • Organizer
      IUPAC 11th International Conference on Advanced Polymers via Macromolecular Engineering (APME2015)
    • Place of Presentation
      Yokohama
    • Year and Date
      2015-10-18 – 2015-10-22
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 光精密ラジカル重合に基づく光硬化と傾斜ナノ相分離構造の同時形成2015

    • Author(s)
      南林健太, 須賀健雄, 西出 宏之
    • Organizer
      第5回CSJ化学フェスタ
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2015-10-13 – 2015-10-15
  • [Presentation] 光駆動型精密ラジカル重合に基づく共連続傾斜ナノドメイン構造の構築2015

    • Author(s)
      須賀健雄, 南林健太, 西出宏之
    • Organizer
      第64回高分子討論会
    • Place of Presentation
      仙台
    • Year and Date
      2015-09-15 – 2015-09-17
  • [Presentation] 光硬化にともなうシリカナノ粒子/ブロック共重合体ハイブリッドドメインの表面偏析と表面特性2015

    • Author(s)
      須賀健雄, 南林健太, 西出宏之
    • Organizer
      第64回高分子討論会
    • Place of Presentation
      仙台
    • Year and Date
      2015-09-15 – 2015-09-17
  • [Presentation] 光精密ラジカル重合に基づく光硬化と傾斜ナノドメインの形成2015

    • Author(s)
      南林健太, 須賀健雄, 西出宏之
    • Organizer
      第64回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      札幌
    • Year and Date
      2015-05-27 – 2015-05-29
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 硬化性組成物及び膜2015

    • Inventor(s)
      岩崎知一、佐藤嘉秀、須賀健雄、西出宏之
    • Industrial Property Rights Holder
      岩崎知一、佐藤嘉秀、須賀健雄、西出宏之
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      PCT/JP2015/083808
    • Filing Date
      2015-12-01
    • Overseas
  • [Patent(Industrial Property Rights)] コーティング剤およびそれを用いた親水性膜の製造方法2015

    • Inventor(s)
      須賀健雄、西出宏之、越智寛
    • Industrial Property Rights Holder
      須賀健雄、西出宏之、越智寛
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2015-186964
    • Filing Date
      2015-09-24

URL: 

Published: 2017-01-06  

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