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2014 Fiscal Year Annual Research Report

Gaを用いたAlNの独自液相成長法の技術開発と融液ダイナミクスからの技術向上

Research Project

Project/Area Number 26706013
Research InstitutionTohoku University

Principal Investigator

安達 正芳  東北大学, 多元物質科学研究所, 助教 (90598913)

Project Period (FY) 2014-04-01 – 2018-03-31
Keywords窒化アルミニウム / 液相成長 / エピタキシャル成長
Outline of Annual Research Achievements

本年度はフラックス組成・成長温度等の成長条件が窒化アルミニウムの結晶成長に及ぼす影響を系統的に調べた.また,結晶成長実験と並行し,基板として用いる窒化サファイア基板のGa-Alフラックスに対する濡れ角測定を行い,その知見を元に結晶成長プロセスの改良を行なった.
フラックス組成に関して,アルミニウム比率の増大とともに窒化アルミニウムの成長速度が増大するが,アルミニウム比率が60mol%以上の範囲では,窒化アルミニウムおよび基板として用いているサファイアに分解した領域が現れ,またその分解領域はアルニミウム比率の増大とともに拡大することがわかった.昨年までの研究で,本手法により窒化アルミニウム膜を均一に成長させるためには,成長初期に微量な酸素を導入することが必要であることが示されている.アルニミウム比率の上昇とともに基板の分解領域が拡大したのは,フラックス中のアルニミウムと酸素との反応が激しくなり,基板への酸素の供給が妨げられたためであると考えられる.
また,成長温度に関して,1400℃以下の温度範囲において成長温度が上昇すると結晶の成長速度が上昇するが,1400℃を超える温度範囲では成長速度が低下することがわかった.これは,温度の上昇とともにフラックス中のアルミニウムと供給窒素との反応が激しくなり,基板に到達する窒素が減少したためと考えられる.
窒化サファイア基板のGa-Alフラックスに対する濡れ角測定では,700℃から1000℃の温度範囲で,濡れ角が著しく変化することがわかり,700℃での濡れ角は150-160°となることがわかった.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

2014年度は,ほぼ当初の計画の通り,結晶育成実験における各成長条件が結晶成長に及ぼす影響を調べることで成長条件の最適化を行うとともに,本手法の融液ダイナミクス・成長メカニズムを解明するための基礎実験として,種結晶として用いる窒化サファイア基板のGa-Alフラックスとの濡れ角測定に着手した.

Strategy for Future Research Activity

本年度は,昨年度に引き続き,実際の窒化アルニミウム結晶の育成実験を行なうとともに,融液ダイナミクス・成長メカニズムの解明に必要なフラックス融液の熱物性値の取得等,基礎データの測定を行う.フラックスに用いるアルミニウムは極端に低い平衡酸素分圧を示すため非常に酸化しやすい.そのため融液物性の測定は,酸素除去のためのゲッター等を用い,試料の酸化に留意しながら遂行する.

Causes of Carryover

結晶評価装置の購入が必要なくなったため,2014年度の基金分の一部を2015年度以降に繰り越した.

Expenditure Plan for Carryover Budget

融液熱物性測定装置の改良,若しくは融液熱物性装置の新規作製に使用する.

  • Research Products

    (10 results)

All 2015 2014

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 1 results,  Acknowledgement Compliant: 1 results) Presentation (8 results) (of which Invited: 2 results)

  • [Journal Article] Polarity inversion and growth mechanism of AlN layer grown on nitrided sapphire substrate using Ga-Al liquid-phase epitaxy2015

    • Author(s)
      Masayoshi Adachi, Mari Takasugi, Masashi Sugiyama, Junji Iida, Akikazu Tanaka, and Hiroyuki Fukuyama
    • Journal Title

      Physica Status Solidi B

      Volume: 252 Pages: 743-747

    • DOI

      10.1002/pssb.201451426

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Ga-Alフラックスを用いたAlNの液相エピタキシャル成長2014

    • Author(s)
      福山博之,安達正芳
    • Journal Title

      日本結晶成長学会誌

      Volume: 41 Pages: 124-130

  • [Presentation] 静滴法を用いた窒化サファイア基板のGa-Al融液に対する濡れ角測定2015

    • Author(s)
      安達正芳,安武晃佑,齊藤敬高,中島邦彦,杉山正史,飯田潤二,福山博之
    • Organizer
      応用物理学会 第62回春季学術講演会
    • Place of Presentation
      神奈川
    • Year and Date
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [Presentation] Ga-Alフラックス法を用いた窒化サファイア基板上AlN膜成長2014

    • Author(s)
      安達正芳,福山博之
    • Organizer
      ナノマクロ物質・デバイス・システム創製アライアンス 第2回若手研究交流会
    • Place of Presentation
      大阪
    • Year and Date
      2014-11-26 – 2014-11-27
    • Invited
  • [Presentation] Ga-Alを用いたAlN液相成長における酸素取り込みと極性反転2014

    • Author(s)
      安達正芳,杉山正史,飯田潤二,福山博之
    • Organizer
      結晶成長学会 第44回結晶成長国内会議
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2014-11-06 – 2014-11-08
    • Invited
  • [Presentation] 窒化サファイア基板上Alスパッタ膜の高温窒化挙動のその場観察2014

    • Author(s)
      藤原圭吾,安達正芳,大塚誠,福山博之
    • Organizer
      日本金属学会 2014年秋季講演大会
    • Place of Presentation
      名古屋
    • Year and Date
      2014-09-24 – 2014-09-26
  • [Presentation] Ga-Alフラックスを用いたAlN液相成長における炭素添加の影響2014

    • Author(s)
      安達正芳,関谷竜太,杉山正史,飯田潤二,福山博之
    • Organizer
      応用物理学会 第75回秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      札幌
    • Year and Date
      2014-09-17 – 2014-09-20
  • [Presentation] Ga-Alフラックスを用いた液相成長法による低酸素分圧下でのAl極性AlN膜の作製2014

    • Author(s)
      関谷竜太,安達正芳,大塚誠,杉山正史,飯田潤二,福山博之
    • Organizer
      応用物理学会 第75回秋季学術講演会
    • Place of Presentation
      札幌
    • Year and Date
      2014-09-17 – 2014-09-20
  • [Presentation] Growth model of AlN layer on nitrided sapphire substrate by liquid phase epitaxy using Ga-Al solution2014

    • Author(s)
      Ryuta Sekiya, Mari Takasugi, Masayoshi Adachi, Makoto Ohtsuka, Masashi Sugiyama, Junji Iida, Hiroyuki Fukuyama
    • Organizer
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN2014)
    • Place of Presentation
      Wrockawm, Poland
    • Year and Date
      2014-08-24 – 2014-08-29
  • [Presentation] Ga-Alフラックスを用いたAlN液相成長におけるフラックス組成の影響2014

    • Author(s)
      関谷竜太,安達正芳,大塚誠,杉山正史,飯田潤二,福山博之
    • Organizer
      日本結晶成長学会 ナノ構造エピタキシャル成長分科会 2014窒化物半導体結晶成長講演会
    • Place of Presentation
      名古屋
    • Year and Date
      2014-07-25 – 2014-07-26

URL: 

Published: 2016-06-01  

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