2015 Fiscal Year Annual Research Report
有機・無機ハイブリッドナノ粒子を用いた極限量子ビーム微細加工プロセスの創成
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26706027
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
山本 洋揮 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)
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2014-04-01 – 2017-03-31
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| Keywords | 量子ビーム / 半導体超微細化 / リソグラフィ / ナノ材料 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
量子ビームによって誘起されるナノ空間内の反応を解明し、その反応機構に基づいて高感度・高解像度、低ラフネスを示す極限量子ビーム微細加工プロセスを創成することが本研究の目的である。そのために、10 nm以下のパターンを形成できる有機・無機ハイブリッドナノ粒子を合成し、その反応機構を解明することによって量子ビームから付与されるエネルギーを100%利用できる反応系を探し出す。
本年度は有機・無機ハイブリッドナノ粒子を電子線またはガンマ線を用いて合成を行い、有機・無機ハイブリッドナノ粒子を合成することに成功した。合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子を用いて、パターンが得られるかどうかをEUV露光装置を使って調べたところ、パターンが作製できることが明らかになった。
さらに、電子線露光装置を使ってもパターンを作製したところ、パターンが得られることが明らかになった。また、電子線露光装置と極端紫外光（EUV）露光装置で作製した有機・無機ハイブリッドナノ粒子の感度曲線をそれぞれ作製し、比較たところ、感度に違いが観察された。これは、電子線とEUVでは反応機構は同じであるが、エネルギー付与過程が異なるためであると考えられる。
、10 nm以下のパターンを形成できる有機・無機ハイブリッドナノ粒子を開発するために、合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子を水晶振動子マイクロバランス法（QCM法）および動画原子間力顕微鏡（動画AFM）を用いて現像過程の解析を行った。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.
Reason
高感度・高解像度、低ラフネスを示す極限量子ビーム微細加工プロセスを創成するために、電子線およびガンマ線を使って有機・無機ハイブリッドナノ粒子レジストを合成し、合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子レジストが電子線露光およびEUV露光装置でパターンが形成できることを明らかにできた。
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| Strategy for Future Research Activity |
合成した有機・無機ハイブリッドナノ粒子レジストが電子線露光およびEUV露光装置でパターンが形成できることが明らかになったので最適化した有機・無機ハイブリットナノ粒子レジストを試作し、EBやEUV露光で10 nm以下のパターン形成を試み、どこまでパターン形成可能であるかを確かめる。
同時に、電子線露光装置は照射時間がかかるためにArF露光装置を使っても同時にレジスト性能評価を行い、研究を加速させる。
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| Causes of Carryover |
購入予定の物品が購入できなくなったため。また、予定していた学会発表に参加できなくなったため。
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| Expenditure Plan for Carryover Budget |
次年度使用額は物品費の購入、必要な薬品類、器具などの消耗品および学会発表のための国内外の旅費にあてる
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