2015 Fiscal Year Research-status Report
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26870505
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| Research Institution | University of Hyogo |
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Principal Investigator |
岡田 真 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (60637065)
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| Project Period (FY) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| Keywords | ナノインプリント / 分子配向 / ナノインプリントグラフォエピタキシー |
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| Outline of Annual Research Achievements |
ナノインプリントグラフォエピタキシーは分子配向を有する微細構造物を作製する技術であり、パターニングした材料上に再度パターニングを行うことが出来るという特徴がある。
またこれまでの研究で、光反応性高分子液晶の一つであるP6CAMに対してナノインプリントグラフォエピタキシーを行うと作製されたラインの長軸に対して平行にP6CAM分子が配向することが分かっている。そのため、同一P6CAM上に2回ナノインプリントグラフォエピタキシーを行うことで、分子配向が2回誘起され、単純なパターン内に複雑な分子配向が発現するのではないかと考えた。そこで平成27年度はダブルナノインプリントグラフォエピタキシープロセスについて研究を行った。
1回目のナノインプリントグラフォエピタキシーでP6CAM上に1μmのラインアンドスペース(L&S)パターンを作製し、続いて1μm-L&Sパターンに対して直角になるように2μm-L&Sパターンモールドを配置して2回目のナノインプリントグラフォエピタキシーを行った。このようにして作製した2μm-L&S P6CAMパターンを偏光顕微鏡で観察した。その結果、形状は単純なL&Sパターンであるにもかかわらずドット状の分子配向パターンが発現していることが分かった。
以上のように、非常に簡便なダブルナノインプリントグラフォエピタキシーによって単純なパターン内に複雑な分子配向パターンを発現させることが出来ることを見出した。
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| Current Status of Research Progress |
Current Status of Research Progress
1: Research has progressed more than it was originally planned.
Reason
本研究課題である「ナノインプリントグラフォエピタキシーの基礎研究」を続けてきた結果着想したダブルナノインプリントグラフォエピタキシーは、形状因子と分子配向因子をより密に融合させることが出来るため、ナノインプリントグラフォエピタキシー技術の更なる発展が期待できる。また「研究実績の概要」には記述していないが、材料の流れが分子配向にどのような影響を与えるのか調べる実験に着手しており、当初の計画以上に進展している。
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| Strategy for Future Research Activity |
これまでの研究からP6CAMに対してナノインプリントグラフォエピタキシーを行った場合、充填時の流れが分子配向に影響を与えていると推測している。そこで、充填時の流れが分子配向に与える影響について評価する。また、ダブルナノインプリントグラフォエピタキシープロセスを簡略化することで、各段階での分子配向状態を評価する。
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