2016 Fiscal Year Annual Research Report
Basic research of nanoimprint graphoepitaxy
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26870505
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| Research Institution | University of Hyogo |
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Principal Investigator |
岡田 真 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (60637065)
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| Project Period (FY) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| Keywords | ナノインプリント / 分子配向 / ナノインプリントグラフォエピタキシー |
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| Outline of Annual Research Achievements |
本研究は、分子配向を有した微細構造物を作製するプロセスであるナノインプリントグラフォエピタキシーに関するものである。本年度は平成27年度の研究で見出したダブルナノインプリントグラフォエピタキシープロセスにおける分子配向状態を調べるため、プロセスを簡略化し、分子配向評価を行った。さらにナノインプリントグラフォエピタキシーによって誘起される分子配向の深さ方向分析を行った。材料は光反応性高分子液晶のP6CAMである。
平成27年度の研究ではラインアンドスペース(L&S)パターンモールドを用いてダブルナノインプリントグラフォエピタキシーを行ったため、特異な分子配向パターンが作製できたものの、どのエリアが強く分子配向が誘起されていたのか判断が難しかった。そこで、平成28年度の研究ではL&Sパターンモールドとフラットパターンモールドを用いることで、(1)1回目にL&Sパターンモールドを用い、2回目にフラットパターンモールドを用いた場合と(2)1回目にフラットパターンモールドを用い、2回目にL&Sパターンモールドを用いた場合の分子配向を直線偏光を用いた回折効率測定により評価した。その結果、(1)の場合は偏光顕微鏡観察でL&Sパターンの跡が確認できたが、分子配向は消失し、(2)の場合はラインに対して平行に分子が配向していることを確認した。
また、ナノインプリントグラフォエピタキシーによって作製したP6CAM-L&Sパターンに対して回折効率測定と反応性イオンエッチングを繰り返すことで、分子配向の深さ方向を評価した。その結果、P6CAMの初期膜厚の違いによって分子配向の深さに違いが現れることを見出した。
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