1988 Fiscal Year Annual Research Report
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61420009
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
潮田 資勝 東北大学, 電気通信研究所, 教授 (90176652)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
水谷 五郎 東北大学, 電気通信研究所, 助手 (30183958)
上原 洋一 東北大学, 電気通信研究所, 助手 (30184964)
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| Keywords | ラマン散乱 / 超高真空 / フォトンカウンティング / ニッケル / ニトロベンゼン / 絶対ラマン散乱断面積 / 相転移 / 発光角度パターン / ローダミン6G / 表面増強ラマン散乱 / 銅フタロシアニン |
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| Research Abstract |
本年度の成果は以下の3点にまとめられる。
(1)よく規定されたNi(111)面上のニトロベンゼン薄膜の研究
(1)超高真空中で準備したNi(111)面上に吸着させた数層から30層程度のニトロベンゼン薄膜のラマン散乱強度の被覆量依存性から、Ni表面に吸着したニトロベンゼン分子の絶対ラマン散乱断面積を評価した。
(2)Ni(111)面上のニトロベンゼンの約200層の薄膜の、高分解能ラマン散乱スペクトルの基板温度依存性を測定した。ニトロベンゼンは、139Kから温度を上げていくと、141Kまではアモルファス状に吸着、145Kで結晶状に転移し、190Kで脱離することがわかった。また、温度上昇にともない散乱強度が増大していくこともわかったが、これは分子配向だけでは説明できず、分子自身の散乱断面積の増大がおこっていると考えられる。
(2)種々の基板上のローダミン発光の角度パターンの測定
ガラス・銀・ニッケル上のローダミン6GのS_1発光の出射角依存性を測定した。また、結果の解析のため、粗さを含んだ多層構造誘電膜上の双極子の発光パターン理論を構築し解析した。その結果発光パターンは、基板の誘電構造・表面粗さ・双極子の配向に敏感に影響されることがわかり、表面吸着子の状態の決定に役立つことが判った。
(3)表面増強ラマン散乱(SERS)の絶対ラマン散乱断面積の測定
室温蒸着の銀膜上の銅フタロシアニンのSERS強度と、金属界面における電場強度の変化の補正より、表面吸着した銅フタロシアニンのSERSの絶対散乱断面積を評価した。また、ラマン光の発光角度パターンは、表面に沿って配向した双極子のそれで表されることがわかった。
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[Publications] G.Mizutani;S.Ushioda: submitted to J.Chem.Phys.
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[Publications] K.Sakamoto;G.Mizutani;V.Kondo;S.Ushioda: in preparation.
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[Publications] V.Kondo;M.Kuwahara;G.Mizutani;S.Ushioda: in preparation.
