1987 Fiscal Year Annual Research Report
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62550017
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| Research Institution | Tokyo Denki University |
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Principal Investigator |
町 好雄 東京電機大学, 工学部, 教授 (20057219)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
六倉 信喜 東京電機大学, 工学部, 講師 (30166227)
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| Keywords | 高周波プラズマのモニタリング / プラズマプロセシング / イオンシース / プラズマ発光強度分布 / 電子密度ne / 平均電子エネルギーTe / ラングミュアープローブ |
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| Research Abstract |
当初の計画に沿い62年度中は主に平行型高周波プラズマのイオンシース部のシース幅, 発光強度分布とプラズマの生成条件との関連性について研究を行った. まず第一に光ファイバーを用いて電極間のプラズマ発光強度分布を測定した. プラズマ生成条件の一つであるガス圧力に対して, この発光強度分布から見積られるシース幅が大きく変化することが分かった.
この結果からプラズマの生成条件と発光分布との間に密接な関係があり電極間の発光強度分布がプラズマの制御に適していることが推察された. 実際のプロセシングでは速やかにしかも簡単な方法で測定することが必要になるためCCDカメラを導入し同様に実験を行った. この方法では瞬時にシース部を観測することができプロセシングへの実用化に近付いたと思われる.
原料ガスの種類もH2.N2,Arに付いて行い発光強度分布の形状からプラズマの生成条件が推察でき, また再現性も良い. 現在, 実際のプロセスへの応用を検討するためCH4, などの反応ガスに付いても実験を始めている.
63年度の計画にあるプラズマ内部パラメータ測定については白金製のラングミュアーブローブの作製及び装置内への装着は完了した. 63年度はこのブローブを用いてガス圧力, 供給電力等のプラズマ生成条件を変化させた場合のプラズマ内部パラメータ(平均電子エネルギーT, 電子密度n, 電子エネルギー分布f, 等)を測定し, プラズマのシース部の情報とプラズマ内部パラメータとの相関をさらに調べる予定である.
画像処理的手法で測定した発光強度分布と探針法から得られるプラズマ内部パラメータを総括して考察し, 実際のプロセシングへ応用を試みプラズマのモニタリング及びコントロールに対してのシース部の重要性を検討することにしている.
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