サブミクロンの拡散帯から拡散係数を決定するための超精度マイクロセクショニング装置

1988 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 62850118
• Research Institution: Tohoku University
• Principal Investigator: 藤川 辰一郎 東北大学, 工学部, 助手 (50005344)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 中嶋 英雄 東北大学, 金属材料研究所, 助教授 (30134042) ; 板垣 喜一 技研エンジニアリングサービス, 理科学製造機器, 技師 ; 平野 賢一 東北大学, 工学部, 教授 (10005209)
• Keywords: 拡散 / スパッタ / イオンビーム / 拡散係数 / イオン源

Research Abstract

イオンビーム・スパッタ技術を利用し、各種の固体におけるサブミクロンの深さの拡散帯から小さな拡散係数を測定するための超精度マイクロセクショニング装置の調整を昭和62年度に引続き行なった。デュオプラズマトロン型イオン源およびプラズマトロン電源の安定性を調べた。高性能の試料保持装置および回収用フィルム巻き取り装置を製作し、各種物質のスパッタ速度の加速電圧依存性を調べた。本装置を用いて、ω中の不純物拡散係数を測定した。

Research Products

• [Publications] S.Fujikawa: Application of Ion Beams in Materials Science,ed.by T.Sebe and Y.Yamamoto Hosei University press. 265-270 (1988)
• [Publications] S.Fujikawa: Materials Science Forum. (1989)
• [Publications] S.Fujikawa: Materials Science Forum. (1989)
• [Publications] S.Fujikawa: Res.Rep.Lab.Nucl.Sci.Tohoku Uni.21. 226-235 (1988)
• [Publications] S.Fujikawa: Proc.on the 7th symposium on Ion Beam Technology,Hosei University. (1989)