光プローブ法による三成分高分子溶液の臨界点近傍のダイナミックスの研究

1988 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 63470085
• Research Institution: Tokyo University of Agriculture and Technology
• Principal Investigator: 牛木 秀治 東京農工大学, 工学部, 助教授 (40160238)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 田中 文彦 東京農工大学, 工学部, 助教授 (50107695)
• Keywords: クロビュール転移 / アンチグロビュール転移 / 三成分高分子溶液 / ケイ光偏光改消 / 発光時間分解減衰曲線 / 拡ろがり / セグメント拡散定数 / 回転拡散定数

Research Abstract

(1)色素ラベルした高分子の合成(牛木)
モデル化合物としてNap(CH_2)_nNap(Nap:ナフチル基)を合成した。又、井重合体合成プログラムを自作し、色素が隣合わない高分子合成系を企画し、スチレン系・酢酸ビニル系・アクリル酸メチル系高分子鎖にカルバゾリル基、アゾベンゼン基、アントリル基などを導入した。
(2)三成分高分子溶液の臨界点近傍における高分子の新しい転移現象の理論と計算(田中)
三成分溶液の臨界点近傍における高分子の新しい現象(グロビュール・アンチグロビュール)の理論と計算を行い、ポリスチレンのベンゼン-シクロヘキサン系でのアンチグロビュール転移の存在を予測し、2報の原著論文(Macramolecules)となった。
(3)三成分高分子溶液の臨界点近傍における発光スペクトル・発光時間分解減衰曲線の測定(牛木)
レーザーパルスによる蛍光減衰曲線の測定が行える装置の試作を行い、又、それに供なう解析ソフトを作成した。これについては昭和63.64年度の高分子学会に報告(予定)した。カルバゾール基含有ポリ酢酸ビニルのベンゼン-シクロヘキサン系での拡ろがり(GPCと粘度測定より)、セグメント拡散定数(発光時間分解減衰曲線より)、側鎖の回転拡散定数(異方性比より)などの各成分比依存性を測定した。これらの結果は現在投稿準備中である。

Research Products

• [Publications] F.Tanaka;H.Ushiki: Macromolecules. 21. 1041-1046 (1988)
• [Publications] F.Tanaka: Macromolecules. 21. 2189-2195 (1988)
• [Publications] F.Tanaka: Macromolecules. (1989)
• [Publications] F.Tanaka: Macromolecules. (1989)
• [Publications] 牛木秀治、盛弘之: 日本化学会誌特集「不安定化学種の構造と反応」.
• [Publications] H.Ushiki;K.Horie: "Encyclopedia A-4 Influence of Molecular Structure on Polymer Photophysical and Photochemical Properties" Marcel Dekker, (1989)