1989 Fiscal Year Annual Research Report
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63550709
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
井上 義朗 大阪大学, 基礎工学部, 助手 (30093371)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
伊藤 龍象 大阪大学, 基礎工学部, 教授 (10025869)
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| Keywords | 晶析 / ベナ-ル対流 / 粒径制御 / 粒径分布 / 粒子軌道 / セル状熱対流 / 粒子数 |
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| Research Abstract |
前年度までの回分式晶析装置に対し、本年度は操作性においてより優れていると考えられる流通式のベナ-ル対流型晶析装置を試作し、レイリ-数や過飽和度や平均対流時間などの操作条件と結晶粒子の粒径分布や残留率などについて、実験および計算機シミュレ-ションによる検討を行い、以下の結果を得た。
1.溶解も成長も行わない粒子(シリカ粒子)を用い、コ-ルタ-・カウンタ-による粒子数と粒径測定を行った実験より、粒径分布と残留率のいずれに対しても計算モデルが有効であることがわかった。
2.溶解や成長を伴う結晶粒子(カリ明バン結晶)を用いた実験によれば、ある過飽和度で残留率が極大を示すなど、定性的には実験値と計算結果は一致するが、定量的には大きな差が見られた。特に実験値の方が残留率が高く、また粒径分布が粒径の小さい方にシフトしているのは二次核発生の影響によるものと考えられ、今後この点を考慮したモデルの改良が必要である。
3.流通式と回分式の晶析操作を比較すると、粒径分布の形や分布の集中度に関しては両者に目立った差は認められなかったが、残留率は流通式の方が少し高くなり、操作の容易さなどを考慮すると回分式より流通式の方が有利である。
4.流通式の場合、晶析装置の入口部ではまだ十分にロ-ルセル状のベナ-ル対流が発達していないために結晶粒子の沈降がおこり、それによる残留率の低下が無視できない。そのため晶析装置の入口部の形状を改良する必要がある。
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