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2015 Fiscal Year Annual Research Report

ナノ反応場における気相重合と元素ブロック共役高分子の構造・機能制御

Publicly Offered Research

Project AreaCreation of Element-Block Polymer Materials
Project/Area Number 15H00766
Research InstitutionWaseda University

Principal Investigator

須賀 健雄  早稲田大学, 高等研究所, 助教 (10409659)

Project Period (FY) 2015-04-01 – 2017-03-31
Keywords気相重合 / 共役高分子 / チオフェン / ホール輸送材料 / 光電変換
Outline of Annual Research Achievements

共役高分子を簡便かつ各種基材にその場(in-situ)形成できる「気相酸化重合」に着目し、特にヨウ素などの気相酸化剤を用いることで各種元素ブロック(Si, Seなど)含有π共役モノマーへと対象を広げ、低バンドギャップ・移動度高い高分子半導体の新しい形成法として提示してきている。今年度は、各元素ブロック共役高分子を対象として、近年注目を集めているペロブスカイト型太陽電池の電荷輸送層として展開した。また、多分岐連結した多孔性元素ブロック共役高分子などを、新たな電荷輸送材料として検討した。
1.元素ブロック高分子をホール輸送層としたペロブスカイト太陽電池
各元素ブロックをコア部位に有するチエニル誘導体を合成、ヨウ素を酸化剤としてそれぞれ気相重合し、7種の元素ブロックポリマーを得た。いずれも-5.2~-5.5 (eV)のHOMO準位、10-5 (cm2/V s)のホール移動度を有し、逆型ペロブスカイト太陽電池のホール輸送層として適用した。側鎖にBrを有するポリ(ターチオフェン)において最高変換効率10.7%を得た。
2.多分岐連結した多孔性元素ブロック共役高分子の合成
剛直かつ三次元連結した多孔性共役高分子は、光補集、蓄電、ガス分離膜への応用が期待される。アモルファスで異方性のないホール輸送能と、ハイブリッドナノ粒子形成場を兼ねた多孔性共役高分子の創出を目指し、チオフェンを連結ユニットとする多置換誘導体の溶液および気相酸化重合を検討した。トリス(ターチエニル)ベンゼンを合成、塩化鉄(III)またはヨウ素を酸化剤とした溶液重合で汎用有機溶剤に不溶かつ多孔性のネットワークポリマー(BET比表面積1200 m2/g)を得た。また気相重合では平滑な橙色薄膜を与え、ペロブスカイト太陽電池のホール輸送層に適用可であった。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

気相酸化重合を各種共役高分子薄膜のその場形成法として確立することで、置換基がなく成膜性に乏しい共役高分子も薄膜として得られ、従来の有機薄膜太陽電池のドナー層としての適用からペロブスカイト太陽電池のホール輸送層として適用することで各元素ブロック共役高分子材料の新たな用途開拓が期待される。
また、同じA02班の京都大学植村卓史准教授との共同も順調に進み、MOFなどナノ反応場でのターチオフェンの気相重合に取り組み、その場(in-situ)重合法の利点を引き出している。

Strategy for Future Research Activity

今年度より展開している多分岐・多孔性の元素ブロック共役高分子について異方導電性を評価し、従来の直鎖ポリ(ターチオフェン)と比較することでアモルファスな共役高分子薄膜の電子物性について議論する。また、引き続きペロブスカイト太陽電池のホール輸送層として素子構成の最適化を行う。
MOF中で形成されたポリ(ターチオフェン)とナノ反応場を介さない従来のポリ(ターチオフェン)の電子物性についてconductive AFM, Kelvin Probe Force Microscopyを用いて評価・比較する。

  • Research Products

    (13 results)

All 2016 2015

All Journal Article (3 results) (of which Peer Reviewed: 3 results,  Acknowledgement Compliant: 3 results) Presentation (8 results) (of which Int'l Joint Research: 4 results,  Invited: 2 results) Book (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Unraveling Inter- and Intra-chain Electronics in Polythiophene Assemblies Mediated by Coodination Nanospaces2016

    • Author(s)
      M. W. A. MacLean, T. Kitao, T. Suga, M. Mizuno, S. Seki, T. Uemura, S. Kitagawa
    • Journal Title

      Angew. Chem. Int. Ed.

      Volume: 55 Pages: 708-713

    • DOI

      10.1002/anie.201510084

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] "Click" Incorporation of Radical/Ionic Sites into a Reactive Block Copolymer: A Facile and On-demand Domain Functionalization Approach toward Organic Resistive Memory2016

    • Author(s)
      T. Suga, K. Aoki, T. Yashiro, H. Nishide
    • Journal Title

      Macromol. Rapid Commun.

      Volume: 37 Pages: 53-59

    • DOI

      10.1002/marc.201670004

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Ionic Liquid-Triggered Redox Molecule Placement in Block Copolymer Nanotemplates toward an Organic Resistive Memory2015

    • Author(s)
      T. Suga, K. Aoki, H. Nishide
    • Journal Title

      ACS Macro Letters

      Volume: 4 Pages: 892-896

    • DOI

      10.1021/acsmacrolett.5b00473

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] 三置換ターチエニルベンゼンの気相酸化重合と電荷輸送材料への応用2016

    • Author(s)
      野口佳奈子, 須賀健雄, 西出宏之
    • Organizer
      日本化学会 第96回春季年会
    • Place of Presentation
      京都
    • Year and Date
      2016-03-24 – 2016-03-27
  • [Presentation] In-situ Formation of Polythiophene Films via Vapor-Phase Polymerization and Their Application to an Inverted Planar Perovskite Solar Cell2016

    • Author(s)
      T. Konishi, T. Suga, H. Nishide
    • Organizer
      Energy Materials Nanotechnology Meeting on Photovoltaics 2016
    • Place of Presentation
      Hongkong
    • Year and Date
      2016-01-18 – 2016-01-21
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] In-situ formation of conjugated polymers via vapor-phase polymerization for optoelectronic applications2015

    • Author(s)
      T. Suga, H. Nishide
    • Organizer
      Pacifichem 2015
    • Place of Presentation
      Honolulu
    • Year and Date
      2015-12-15 – 2015-12-20
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Gradient Nanodomain Formation in Controlled Photo-curing toward Hybrid Materials2015

    • Author(s)
      T. Suga, K. Minamibayashi, H. Nishide
    • Organizer
      14th Pacific Polymer Conference (PPC2015)
    • Place of Presentation
      Kauai
    • Year and Date
      2015-12-09 – 2015-12-13
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 両性イオン含有ポリマー偏析コーティングの作成と表⾯特性2015

    • Author(s)
      小林松太郎, 須賀健雄, 西出宏之
    • Organizer
      第5回CSJ化学フェスタ
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2015-10-13 – 2015-10-15
  • [Presentation] 光硬化にともなうシリカナノ粒子/ブロック共重合体ハイブリッドドメインの表面偏析と表面特性2015

    • Author(s)
      須賀健雄, 南林健太, 西出宏之
    • Organizer
      第64回高分子討論会
    • Place of Presentation
      仙台
    • Year and Date
      2015-09-15 – 2015-09-17
  • [Presentation] Conjugated Polymers via Vapor-Phase Polymerization and Their Application to a Perovskite Solar Cell2015

    • Author(s)
      T. Konishi, T. Suga, H. Nishide
    • Organizer
      16th IUPAC International Symposium on MacroMolecular Complexes MMC-16
    • Place of Presentation
      Wroclaw
    • Year and Date
      2015-08-10 – 2015-08-14
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 気相重合による元素ブロック高分子の創製と機能展開2015

    • Author(s)
      須賀健雄
    • Organizer
      第64回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      札幌
    • Year and Date
      2015-05-27 – 2015-05-29
    • Invited
  • [Book] 気相重合による元素ブロック共役高分子のその場形成と電子・光物性, 「元素ブロック高分子 – 有機-無機ハイブリッド材料の新概念」, 中條善樹編2016

    • Author(s)
      須賀健雄
    • Total Pages
      5
    • Publisher
      CMC出版
  • [Patent(Industrial Property Rights)] コーティング剤およびそれを用いた親水性膜の製造方法2015

    • Inventor(s)
      須賀健雄、西出宏之、越智寛
    • Industrial Property Rights Holder
      須賀健雄、西出宏之、越智寛
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      特願2015-186964
    • Filing Date
      2015-09-24

URL: 

Published: 2017-01-06  

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