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2017 Fiscal Year Annual Research Report

蛍石構造酸化物のアニオン制御による“直接特性制御型強誘電体”の創成

Publicly Offered Research

Project AreaExploration of nanostructure-property relationships for materials innovation
Project/Area Number 16H00882
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

舟窪 浩  東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (90219080)

Project Period (FY) 2016-04-01 – 2018-03-31
Keywords蛍石構造(酸化物) / アニオン制御 / 直接制御
Outline of Annual Research Achievements

本研究は、蛍石構造酸化物のアニオンサイトの設計およびその操作によって、特性を直接制御できるまったく新しい強誘電体を作製することを目的とする。従来のぺロブスカイト構造型強誘電体では、アニオン置換すると絶縁性の維持が困難なため、カチオンの制御によってアニオンネットワークが作る結晶の骨格構造を制御することで強誘電特性を制御する “間接制御”しかできていなかった。本研究によって、蛍石構造酸化物では、特性を支配するアニオンサイトを直接制御することによって特性を直接制御できる可能性がある。本研究は、研究代表者が世界に先駆けて作製したエピタキシャル膜の成果に基づいている。本年度は以下の成果を得た。
1)高温XRDによる解析結果から、膜厚(5-90 nm)、結晶方位[{100}と{111}]、結晶方位完全性 (エピタキシャル膜と1軸配向膜)に関わらず、0.07YO1.5-0.93HfO2膜は350℃以上のキュリー温度を示し、強誘電性は温度に対して高い安定性を示すことが明らかになった。
2)ZrO2-HfO2膜での強誘電相の膜厚に対する安定性は、表面エネルギーが結晶性相を決める最も重要な因子だと仮定した理論論文と傾向が良く一致し、組成によって結晶相の安定性が変化した。この結果から、表面エネルギーが結晶相の安定性を支配している可能性が明らかになった。
3)Y2O3をドープしたTaの酸窒化物では、直方晶の蛍石構造の膜が得られ、強誘電性が得られる可能性が示唆された。

Research Progress Status

29年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

29年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (17 results)

All 2018 2017 Other

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (15 results) (of which Int'l Joint Research: 5 results,  Invited: 1 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Epitaxial growth of YO1.5 doped HfO2 films on (100) YSZ substrates with various concentrations2017

    • Author(s)
      Takao Shimizu, Kiliha Katayama, and Hiroshi Funakubo
    • Journal Title

      Ferroelectrics

      Volume: 512 Pages: 105-110

    • DOI

      10.1080/00150193.2017.1349994

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] ZrO2 薄膜の結晶構造に対するドーパント効果2018

    • Author(s)
      崔ス珍、白石貴久、木口賢紀、今野豊彦、清水荘雄、舟窪浩
    • Organizer
      日本セラミックス協会 2018年年会
  • [Presentation] エピタキシャル成長したHfO2 基強誘電体膜における結晶構造の膜厚依存性2018

    • Author(s)
      三村和仙、清水荘雄、木口賢紀、赤間章裕、今野豊彦、勝矢良雄、坂田修身、舟窪浩
    • Organizer
      日本セラミックス協会 2018年年会
  • [Presentation] エピタキシャルHfO2基強誘電体における強誘電特性の膜厚依存性2018

    • Author(s)
      三村和仙、清水荘雄、勝矢良雄、坂田修身、舟窪浩
    • Organizer
      第65回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] エピタキシャルCeO2-ZrO2薄膜の作製とその結晶構造評価2018

    • Author(s)
      白石貴久、Sujin Choi、清水荘雄、木口賢紀、舟窪浩、今野豊彦
    • Organizer
      第65回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Phase stability and Property design in HfO2-based ferroelectric thin films2017

    • Author(s)
      Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Kiliha Katayama, Takanori Mimura, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, and Osami Sakata
    • Organizer
      ICE 2017(8th International Conference on Electroceramics)
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 強誘電体材料の比較 - ペロブスカイト基構造 vs. 蛍石基構造 -2017

    • Author(s)
      舟窪浩、清水荘雄
    • Organizer
      2017年強的秩序とその操作に関する第5回研究会
  • [Presentation] Stability of Ferroelectric Phase in Epitaxial HfO2-based Films2017

    • Author(s)
      Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiko Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, and Hiroshi Funakubo
    • Organizer
      2017 Joint IEEE ISAF-IWATMD-PFM Conference
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Dynamic Observation of Nanoscale Domain Switching Behaviors in Ferroelectric HfO2 films Using Scanning Nonlinear Dielectric Microscopy2017

    • Author(s)
      Y. Hiranaga, T. Mimura, T. Shimizu, H. Funakubo, and Y. Cho
    • Organizer
      2017 Joint IEEE ISAF-IWATMD-PFM Conference
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Ferroelectric Probe Data Storage Using HfO2-Based Thin-Film Recording Media2017

    • Author(s)
      Y. Hiranaga, T. Mimura, T. Shimizu, H. Funakubo, and Y. Cho
    • Organizer
      2017 Joint IEEE ISAF-IWATMD-PFM Conference
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] SNDMによる分極反転過程の動的観察2017

    • Author(s)
      平永良臣、三村和仙、清水荘雄、舟窪浩、長康雄
    • Organizer
      第34回強誘電体応用会議(FMA34)
  • [Presentation] Thickness-dependent phase stability of epitaxial ferroelectric HfO2-based films2017

    • Author(s)
      Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Osami Sakata, and Hiroshi Funakubo
    • Organizer
      STAC-10 (The Tenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] スパッタリング法による{100}配向Y2O3-HfO2強誘電体エピタキシャル薄膜の作製とその評価2017

    • Author(s)
      鈴木大生、三村和仙、清水荘雄、内田寛、舟窪浩
    • Organizer
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] Y2O3-HfO2強誘電体の温度安定性2017

    • Author(s)
      三村和仙、清水荘雄、木口賢紀、赤間章裕、今野豊彦、勝矢良雄、坂田修身、舟窪浩
    • Organizer
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] HfO2基材料における強誘電相発現要因の検討2017

    • Author(s)
      清水荘雄、三村和仙、木口賢紀、赤間章裕、今野豊彦、坂田修身、舟窪浩
    • Organizer
      日本セラミックス協会第30回秋季シンポジウム
  • [Presentation] HfO2基強誘電体のドメイン構造と電場誘起スイッチング2017

    • Author(s)
      清水荘雄、三村和仙、木口賢紀、白石貴久、赤間章裕、今野豊彦、坂田修身、勝矢良雄、舟窪浩
    • Organizer
      第37回エレクトロセラミックス研究討論会
  • [Remarks] 東京工業大学 物質理工学院 材料系 材料コース 舟窪研究室

    • URL

      http://f-lab.iem.titech.ac.jp/f-lab.htm

URL: 

Published: 2018-12-17  

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